一种窄长空心管件注塑模具的进胶改善喷嘴的制作方法

本发明涉及一种模具设计，尤其涉及一种针对窄长空心管件的高精度保障型进胶喷嘴。

背景技术：

注塑工艺是一种能满足各种非标异形件加工生产的优选工艺，较之于传统切削、冲铣加工作业方式，具有一次成型、可规模化生产的显著优势，然而，由于注塑产品的形状多样性，特别如图1和图2所示的注塑工件1，其主体形状呈窄长型空心管，一端封闭且另一端设有管壁增厚的基座11，基座11之外为一段窄长的空心管12，其内部具有与空心管共轴同心的圆柱内腔13。

不难发现，所谓窄长空心管件其长度往往达到20cm以上，而外径通常仅为长度的十分之一甚至更小，且该类管件的管壁往往比较薄，一般只有2mm左右。由此可见，对于注塑成型此类管件，想要批量生产并高精度保持规格参数，传统的工艺是很难实现的，一方面由于管件内外表面的要求避免产生进胶点，只能集中在管件的一端部。而随着注塑距离的延伸，胶料的冷却固化会影响产品后段的顺利进胶，从而导致管件末端的缺料，产生不良品。

技术实现要素：

鉴于上述现有技术存在的缺陷，本发明的目的是提出一种窄长空心管件注塑模具的进胶改善喷嘴。

本发明的目的将通过以下技术方案得以实现：一种窄长空心管件注塑模具的进胶改善喷嘴，设于注塑模具上模和下模的接合面之间，所述上模和下模之间设有对应窄长空心管件的注塑容腔，注塑容腔轴向平行于接合面，其特征在于：所述进胶改善喷嘴具有沿窄长空心管件一端周向均匀分布的两个以上喷口，且喷口的出胶方向与窄长空心管件的轴向相偏斜。

进一步地，所述进胶改善喷嘴自根部成Y字形分支，且分支末端的喷口对应窄长空心管件的相对管壁。

进一步地，所述进胶改善喷嘴自根部成平行状的第一分支，且在临近模腔之处二次设有Y字形分支，各分支末端的喷口对应窄长空心管件的管壁。

进一步地，所述注塑容腔具有自进胶端一体延伸成型的模仁杆，且模仁杆与注塑容腔共轴同心。

更进一步地，所述模仁杆表面光滑洁净，且所述注塑容腔的内表面设为咬花粗糙面。

应用本发明的进胶改善喷嘴，其有益效果体现在：能满足注塑产品的特殊形状和精度要求，通过该喷嘴实现螺旋状进胶且多股汇聚，有效提高了注塑产品末端的供胶余量，使得窄长空心管件在成型后能符合同心度、垂直度和表面粗糙度等多方面的精度要求。

附图说明

图1是本发明注塑工件的立体结构示意图。

图2是图1所示注塑工件的轴剖结构示意图。

图3本发明针对图1所示注塑工件的注塑模具。

图4是本发明注塑模具中所用进胶改善喷嘴的结构示意图。

图5是图4另一视角的结构示意图。

具体实施方式

以下便结合实施例附图，对本发明的具体实施方式作进一步的详述，以使本发明技术方案更易于理解、掌握。

针对现有技术对加工此类长度、薄壁的空心管件模具及工艺上的难度，本发明设计者经创造性研发并提出了一种进胶改善喷嘴，以此提升注塑成品的结构强度和精度品质。

如图3至图5所示，该种窄长空心管件注塑模具的进胶改善喷嘴设于注塑模具上模21和下模22的接合面之间，该上模21和下模22之间设有对应窄长空心管件的注塑容腔23，注塑容腔轴向平行于接合面。关于注塑模具的其它结构配置必不可少且十分复杂，但均非本设计重点，故图示简化、说明省略。惟本设计的核心体现在该进胶改善喷嘴25具有沿窄长空心管件一端周向均匀分布的两个以上喷口，且喷口的出胶方向与窄长空心管件的轴向相偏斜（如图5所示）。

作为一种实施例，该进胶改善喷嘴25可以自根部成Y字形分支，且分支末端的喷口对应窄长空心管件的相对管壁。即该实施例下产品有直径向两端的两个进胶点，由于喷口方向的倾斜性，在注塑容腔进料后会沿一定的斜向进料并逐渐汇聚。这样分担了最初注入胶料逐渐固化的阻力，通过进胶的扰动有效保障了产品远端的注胶量。

作为本创作优选的另一个实施例，如图4和图5所示，该进胶改善喷嘴自根部261成平行状的第一分支262，且在临近模腔之处二次行程Y字形分支263，且各分支末端的喷口对应窄长空心管件的管壁。同上，这样在注塑容腔进料后会沿一定的斜向螺旋状进料并逐渐汇聚。有利于保障产品注塑的充盈量。

此外，该注塑容腔23具有自进胶端一体延伸成型的模仁杆24，且模仁杆24与注塑容腔23共轴同心。再者，针对产品不同的表面形状，该模仁杆24表面光滑洁净，且注塑容腔23的内表面设为咬花粗糙面。当然如果该窄长空心管件的表面为两面光滑、两面咬花粗糙面或其它形式的各类表面花纹，也可对注塑容腔的表面进行相应的加工匹配。但通常情况下为保障退模的顺利，该模仁杆为光滑表面是一种常态性选择。

应用本发明的进胶改善喷嘴，其有益效果体现在：能满足注塑产品的特殊形状和精度要求，通过该喷嘴实现螺旋状进胶且多股汇聚，有效提高了注塑产品末端的供胶余量，使得窄长空心管件在成型后能符合同心度、垂直度和表面粗糙度等多方面的精度要求。

本发明尚有多种实施方式，凡采用等同变换或者等效变换而形成的所有技术方案，均落在本发明的保护范围之内。