玻纤布土工格室片的生产模具的制作方法

文档序号:10784440阅读:243来源:国知局
玻纤布土工格室片的生产模具的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种玻纤布土工格室片的生产模具,包括模具本体,在模具本体的前端设有主流道本体,在主流道本体上设有主流道,在模具本体上设有两个对称设置的分流道,在模具本体上还设有从上至下垂直设置的玻纤布通道,两个分流道均与主流道连通,且玻纤布通道出口分别与两个分流道的出口相通。本实用新型采用能对玻纤布土工格室片材同时进行双面浸胶的模具,将该模具配合挤出机使用即可实现双面浸胶的玻纤布土工格室片材的生产,采用该模具能极大的简化设备要求,缩小设备的占地空间,而且由于在一次挤出中即可完成双面浸胶,简化了制备工艺,同时使制品性能各向同性,能够最大程度地实现垂直应力作用下不变形不开裂失效的应用效果。
【专利说明】
玻纤布土工格室片的生产模具
技术领域
[0001]本实用新型涉及高分子制备生产技术领域,尤其是一种玻纤布土工格室片的生产模具。
【背景技术】
[0002]土工格室片材通常是由HDPE、PP等聚合物树脂通过单向强拉伸后成型片材,再裁剪成不同规格的栅条制成的,沿拉伸方向强度较高,但垂直拉伸方向强度很弱。软土路基加固、边坡防护等应用中,在垂直应力的作用下,容易造成土工格室片沿拉伸方向开裂失效,严重影响工程质量,且限制了土工格室应用领域。为了解决以上技术问题,
【申请人】采用对玻纤布双面浸胶的方法以改善上述缺陷。而实现该方法还需要一套简单可靠的设备。

【发明内容】

[0003]本实用新型的目的是:提供一种玻纤布土工格室片的生产模具,它能实现对玻纤布的双面浸胶,并且过程简单,对设备要求低,成本低廉,以克服现有技术的不足。
[0004]本实用新型是这样实现的:玻纤布土工格室片的生产模具,包括模具本体,在模具本体的前端设有主流道本体,在主流道本体上设有主流道,在模具本体上设有两个对称设置的分流道,在模具本体上还设有从上至下垂直设置的玻纤布通道,在模具本体的顶部设有玻纤布通道的入口,在模具本体的底部设有玻纤布通道的出口;两个分流道均与主流道连通,且玻纤布通道出口分别与两个分流道的出口相通。通过两个分流道的熔体在出口与玻纤布通道出口的玻纤布进行覆合。
[0005]主流道本体通过固定螺栓与模具本体连接。
[0006]在模具本体上设有加热孔。
[0007]由于采用了上述技术方案,与现有技术相比,本实用新型采用能对玻纤布土工格室片材同时进行双面浸胶的模具,将该模具配合挤出机使用即可实现双面浸胶的玻纤布土工格室片材的生产,采用该模具能极大的简化设备要求,缩小设备的占地空间,而且由于在一次挤出中即可完成双面浸胶,简化了制备工艺,美化制品外观,同时使制品性能各向同性,能够最大程度地实现垂直应力作用下不变形不开裂失效的应用效果。本实用新型结构简单,成本低廉,使用效果好。
【附图说明】
[0008]附图1为本实用新型的结构示意图;
[0009]附图2为附图1的俯视图;
[0010]附图3为本实用新型的使用示意图。
【具体实施方式】
[0011]本实用新型的实施例:玻纤布土工格室片的生产模具的结构如图1及图2所示,包括模具本体7,在模具本体7的前端设有主流道本体8,主流道本体8通过固定螺栓2与模具本体7连接;在主流道本体8上设有主流道I,在模具本体7上设有两个对称设置的分流道,在模具本体7上还设有从上至下垂直设置的玻纤布通道,在模具本体7的顶部设有玻纤布通道的入口6,在模具本体7的底部设有玻纤布通道的出口 5;两个分流道均与主流道I连通,且玻纤布通道出口 5分别与两个分流道的出口相通,通过两个分流道的熔体在出口与玻纤布通道出口 5的玻纤布进行覆合;在模具本体7上设有加热孔3。
[0012]本实用新型的使用结构如图3所示,将模具连接在挤出机12上,聚合物从挤出机进入主流道I,再进入分流道;玻纤布9从上方经入口 6进入玻纤布通道,在玻纤布通道内,从分流道进入玻纤布通道的聚合物双面浸胶在玻纤布上,双面浸胶玻纤布10从出口5挤出,由三辊机11进行牵引。
【主权项】
1.一种玻纤布土工格室片的生产模具,包括模具本体(7),其特征在于:在模具本体(7)的前端设有主流道本体(8),在主流道本体(8)上设有主流道(I),在模具本体(7)上设有两个对称设置的分流道,在模具本体(7)上还设有从上至下垂直设置的玻纤布通道,在模具本体(7)的顶部设有玻纤布通道的入口(6),在模具本体(7)的底部设有玻纤布通道的出口(5);两个分流道均与主流道(I)连通,且玻纤布通道出口(5)分别与两个分流道的出口相通。2.根据权利要求1所述的玻纤布土工格室片的生产模具,其特征在于:主流道本体(8)通过固定螺栓(2)与模具本体(7)连接。3.根据权利要求1所述的玻纤布土工格室片的生产模具,其特征在于:在模具本体(7)上设有加热孔(3)。
【文档编号】B29C41/20GK205466975SQ201521105491
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2015年12月28日
【发明人】葛红, 杨再祥, 石文建, 黄安荣, 王德军, 陈小平, 陈洋, 雷勇
【申请人】贵州蓝图新材料股份有限公司
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1