一种涡流管安装柱结构的制作方法

文档序号:8845838阅读:416来源:国知局
一种涡流管安装柱结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于涡流管的技术领域。具体地说,本实用新型涉及涡流管安装柱结构。
【背景技术】
[0002]现有涡流管根据需要提供冷气,满足机床设备的冷却需要,但是许多场合将涡流管固定在机床设备上很不方便,影响了涡流管的正常使用。
【实用新型内容】
[0003]针对上述缺陷,本实用新型提供了一种涡流管安装柱结构,其目的是使涡流管能够根据需要固定在机床设备上,极大地方便涡流管安装和使用,确保了涡流管的正常运行。
[0004]为了实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:
[0005]本实用新型所提供的这种涡流管安装柱结构,包括涡流管、安装柱、气体输入接口、带磁铁底盘,所述的安装柱为底端封闭的空心圆柱体且在中部径向单边开一螺孔,所述的安装柱上端通过螺纹与涡流管连接,所述的气体输入接口通过螺纹与安装柱中部螺孔连接,所述的安装柱底端通过螺纹与带磁铁底盘连接。
[0006]本实用新型的新颖性、创造性和实用性还体现在以下更为详尽和具体的技术方案中,能更好地实现发明目的:
[0007]所述的气体输入接口为一端带外螺纹空心圆柱体。
[0008]本实用新型采用上述技术方案,与现有技术相比,极大地方便涡流管固定安装和使用,确保了涡流管的正常运行。
【附图说明】
[0009]下面对本说明书各幅附图所表达的内容及图中的标记作简要说明:
[0010]图1为本实用新型的涡流管安装柱结构示意图;
[0011]图2为本实用新型的安装柱结构示意图;
[0012]图中标记为:
[0013]1、涡流管,2、安装柱,3、气体输入接口,4、带磁铁底盘。
【具体实施方式】
[0014]下面对照附图,通过对实施例的描述,对本实用新型的【具体实施方式】如所涉及的各构件的形状、构造、各部分之间的相互位置及连接关系、各部分的作用及工作原理、制造工艺及操作使用方法等,作进一步详细的说明,以帮助本领域的技术人员对本实用新型的发明构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解。
[0015]如图1和图2所表达的本实用新型的结构,是一种涡流管安装柱结构,包括涡流管1、安装柱2。
[0016]为了解决在本说明书【背景技术】部分所述的目前公知技术存在的问题并克服其缺陷,实现涡流管在机床设备合适场合的固定使用,保证涡流管正常使用的发明目的,本实用新型采取的技术方案为:
[0017]如图1和图2所反映的本实用新型所提供的这种涡流管安装柱结构,包括涡流管
1、安装柱2、气体输入接口 3、带磁铁底盘4,所述的安装柱2为底端封闭的空心圆柱体且在中部径向单边开一螺孔,所述的安装柱2上端通过螺纹与涡流管I连接,所述的气体输入接口 3通过螺纹与安装柱2中部螺孔连接,所述的安装柱2底端通过螺纹与带磁铁底盘3连接。
[0018]上述结构设置,涡流管可根据使用场合的需要方便地固定安装,并确保了涡流管的正常工作。获得机床设备冷却的满意效果。
[0019]实施例一:
[0020]如图2所示,所述的气体输入接口(3)为一端带外螺纹空心圆柱体。
[0021]上述结构设置,确保气体输入进入涡流管的效果,进一步提高了涡流管的运行效果,并方便使用。
[0022]上面结合附图对本实用新型进行了示例性描述,显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进,或未经改进将本实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种涡流管安装柱结构,包括涡流管(1)、安装柱(2)、气体输入接口(3)、带磁铁底盘(4),其特征在于:所述的安装柱(2)为底端封闭的空心圆柱体且在中部径向单边开一螺孔,所述的安装柱(2)上端通过螺纹与涡流管(I)连接,所述的气体输入接口(3)通过螺纹与安装柱(2)中部螺孔连接,所述的安装柱(2)底端通过螺纹与带磁铁底盘(3)连接。
2.按照权利要求1所述的涡流管安装柱结构,其特征在于:所述的气体输入接口(3)为一端带外螺纹空心圆柱体。
【专利摘要】本实用新型公开了一种涡流管安装柱结构,包括涡流管(1)、安装柱(2)、气体输入接口(3)、带磁铁底盘(4),所述的安装柱(2)为底端封闭的空心圆柱体且在中部径向单边开一螺孔,所述的安装柱(2)上端通过螺纹与涡流管(1)连接,所述的气体输入接口(3)通过螺纹与安装柱(2)中部螺孔连接,所述的安装柱(2)底端通过螺纹与带磁铁底盘(3)连接。采用上述技术方案,涡流管极大地方便在机器任何需要场合固定使用,提高了涡流管适应性。
【IPC分类】F25B9-04
【公开号】CN204555404
【申请号】CN201520245051
【发明人】李凤培, 赵志伟, 熊越好, 徐卫
【申请人】芜湖通力电机有限责任公司
【公开日】2015年8月12日
【申请日】2015年4月18日
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