本发明涉及一种摩托车零件铸造模具循环清洁处理系统，属于摩托车零件加工技术领域。
背景技术：
目前，在摩托车零件铸造加工技术领域中，针对铸件加工过程中的模具，有时候需要予以清洗，以便获得更加干净的模具，便于后续进行加工生产，改善模具生产使用效果，提高模具利用率。而一般的模具生产清洗大多较为简单，从而导致模具清理不干净，在后续生产中，容易引入杂质，影响铸件质量。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种摩托车零件铸造模具循环清洁处理系统，以便能够更好地清洗摩托车零件铸造模具，改善模具使用效果，提高模具利用率。
为了实现上述目的，本发明的技术方案如下。
一种摩托车零件铸造模具循环清洁处理系统，包括集液系统，集液系统上方安装有第一分离处理机构，第一分离处理机构上方安装有清洗室，清洗室底部安装有第二分离处理机构，第二分离处理机构上方安装多个下清洗系统；清洗室中部安装有第三分离处理机构，第三分离处理机构上方安装有多个上清洗系统；上清洗系统和下清洗系统交错安装；清洗室顶部安装有多个柱形喷头；清洗室上方安装有搅拌储液系统，搅拌储液系统上方左右两端均安装有下铰链，搅拌储液系统上方中部安装有自由升降系统，自由升降系统上方设有自动伸缩机构，自动伸缩机构顶端安装有上铰链，上铰链与两个下铰链之间分别安装有左集液槽和右集液槽，左集液槽和右集液槽底端均设有下液机构，下液机构底端分别与搅拌储液系统左右两侧壁相连接；清洗室左右两侧均安装有抽液机，抽液机上方均设有出液机构，出液机构另一端均安装在对应的下液机构底部，抽液机下方均设有进液机构。
进一步地，搅拌储液系统上方位于自由升降系统左右两侧均安装有驱动动力系统，驱动动力系统下方均设有动力系统轴，动力系统轴均安装在搅拌储液系统中，动力系统轴上均安装有混合机构。
进一步地，下液机构中均安装有上分离处理机构。
进一步地，柱形喷头上均安装有阀门开关。
进一步地，第一分离处理机构上安装有多个第一分离处理孔，第二分离处理机构和第三分离处理机构和上分别交错安装有多个第二分离处理孔和第三分离处理孔。
进一步地，集液系统底部左右两端均安装有分离处理器，分离处理器上方均与进液机构底端相连接。
该发明的有益效果在于：该发明系统能够有效地针对模具予以清理清洗，清洗液便于循环利用，提高了清洗液的清洗效率，也有助于模具后续加工过程中，获得更好的加工效果。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明的具体实施方式进行描述，以便更好的理解本发明。
本发明中的摩托车零件铸造模具循环清洁处理系统，包括集液系统，集液系统上方安装有第一分离处理机构，第一分离处理机构上方安装有清洗室，清洗室底部安装有第二分离处理机构，第二分离处理机构上方安装多个下清洗系统；清洗室中部安装有第三分离处理机构，第三分离处理机构上方安装有多个上清洗系统；上清洗系统和下清洗系统交错安装；清洗室顶部安装有多个柱形喷头；清洗室上方安装有搅拌储液系统，搅拌储液系统上方左右两端均安装有下铰链，搅拌储液系统上方中部安装有自由升降系统，自由升降系统上方设有自动伸缩机构，自动伸缩机构顶端安装有上铰链，上铰链与两个下铰链之间分别安装有左集液槽和右集液槽，左集液槽和右集液槽底端均设有下液机构，下液机构底端分别与搅拌储液系统左右两侧壁相连接；清洗室左右两侧均安装有抽液机，抽液机上方均设有出液机构，出液机构另一端均安装在对应的下液机构底部，抽液机下方均设有进液机构。搅拌储液系统上方位于自由升降系统左右两侧均安装有驱动动力系统，驱动动力系统下方均设有动力系统轴，动力系统轴均安装在搅拌储液系统中，动力系统轴上均安装有混合机构。下液机构中均安装有上分离处理机构。柱形喷头上均安装有阀门开关。第一分离处理机构上安装有多个第一分离处理孔，第二分离处理机构和第三分离处理机构和上分别交错安装有多个第二分离处理孔和第三分离处理孔。集液系统底部左右两端均安装有分离处理器，分离处理器上方均与进液机构底端相连接。
该系统具体实施时，清洗液进入到左集液槽和右集液槽中，经左集液槽和右集液槽收集后，在重力作用下沿着左集液槽和右集液槽向下流，下液机构中，上分离处理机构对清洗液进行分离处理，将其中的杂质分离处理掉，而分离处理后的清洗液则流入搅拌储液系统中，驱动动力系统工作，使得动力系统轴带动混合机构旋转，对清洗液进行搅拌，打开阀门开关，清洗液则经柱形喷头喷入清洗室中，落入上清洗系统中，对其中的模具加载液体清洗，喷在外面的液则经第三分离处理孔下落至下清洗系统中，对其中的模具加载液体清洗，而溅出的液则经第二分离处理孔落至第一分离处理机构上，而后经第一分离处理孔向下落入集液系统中，抽液机工作，使得集液系统中收集的液经分离处理器分离处理被抽入进液机构中，而后经出液机构从新流入搅拌储液系统中，进行循环利用。其中，调节自由升降系统，使得自动伸缩机构上下伸缩，从而调整左集液槽和右集液槽的倾斜程度， 便于根据需要使用。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。