技术总结
本发明公开了一种利用介质阻挡放电低温等离子体技术处理含氰电镀废水的方法；所述方法包括：含氰电镀废水进入线‑管式DBD反应器进行反应处理；所述线‑管式DBD反应器以含氰电镀废水作为接地极，以金属棒作为高压电极；处理后的尾气及出水进入二次净化装置进行净化处理。放电处理时，含氧气体在内层气体空间区域中被电离形成强氧化基团，该强氧化基团通过曝气设备进入外层液相空间，与液相中的含氰污染物分子发生氧化反应，同时含氰废水作为接地极，在其表面一定范围内也会发生放电反应，使一部分废水水分子被电离，实现污染物的进一步氧化降解，从而实现含氰废水的达标排放且不易对环境产生二次污染。
技术研发人员：张少强
受保护的技术使用者：张少强
文档号码：201610755587
技术研发日：2016.08.29
技术公布日：2017.02.15