一种清洁设备的制作方法

本发明涉及掩膜板的加工领域，特别是一种清洁设备。

背景技术：

有机电致发光器件由于同时具备自发光，无需背光源，对比度高，视角广，反应速度快，可用于制备柔性面板，全固态结构，使用温度范围广，制备工艺简单等优点，被认为是下一代的平面显示技术，从使用有机电致发光材料来说，分为小分子有机电致发光器件(OLED)和高分子电致发光器件(PLED),其制备工艺也不相同，小分子材料主要以热蒸镀方式制备，PLED通过悬涂或喷墨打印方式制备。

在小分子OLED器件制备过程中，常采用真空蒸镀工艺结合掩膜工艺形成图案化的薄膜层。在蒸镀过程中掩膜板表面会沉积一定厚度的有机材料，严重时造成掩膜板图形化窗口完全堵塞，这样在后续的蒸镀过程中导致材料不能顺利沉积到玻璃基板表面而造成显示缺陷。

在现有的技术中，为了解决上述问题，一般采用有机药液浸泡加超声波或兆声波物理作用的方式实现清洁过程，以上清洁方式难以清洁微小，粘性以及在掩膜板缝隙中的有机污染物残留，清洁效果有限，还有可能引入二次污染，或对掩膜板造成腐蚀和划伤，降低掩膜板的精度，缩短掩膜板的寿命，同时废弃药液的也会对环境造成污染。

技术实现要素：

本发明的目的是解决现有的掩膜板上的残留物不易清洁的问题，提供一种掩膜板的清洁设备，清洁效果好，且不会对环境造成污染，并降低对掩膜板造成的损伤。

为实现上述目的，一方面，本发明提供一种清洁设备，包括：

承载台，用于承载待清洁基板；

红外激光器，在所述承载台承载有待清洁基板时，所述红外激光器在该待清洁基板上对应有照射区域，用于对所述照射区域进行红外加热，使得该待清洁基板在照射区域上的残留物汽化和/或升华。

进一步地，所述红外激光器为二氧化碳激光器；

进一步地，红外激光器的发射光的波长为10.6μm。

进一步地，所述清洁设备，还包括：

第一驱动系统，用于移动所述承载台；

第一控制系统，用于存储清洁程序，并运行所述清洁程序以用于控制所述第一驱动系统移动所述承载台，从而改变所述红外激光器在待清洁基板上所对应的照射区域。

进一步地，所述第一驱动系统包括：

第一驱动机构，用于控制所述承载台沿直角坐标系的第一轴方向运动；

第二驱动机构，用于控制所述承载台沿直角坐标系的第二轴方向运动；

所述第一轴方向与第二轴方向确定的平面平行于所述承载台用于承载待清洁基板的平面。

进一步地，所述承载台用于承载待清洁基板的平面上设置有至少一个出风口，且所述承载台内置有与所述出风口连通的输风管路；

所述清洁设备还包括：

与输风管路连接的输风机，用于通过所述输风管路向所述出风口输送热氮气。

进一步地，所述清洁设备还包括：

悬挂结构，设置在所述承载台用于承载待清洁基板的平面上方，所述红外激光器设置在所述悬挂结构上。

进一步地，所述清洁设备还包括：

第二驱动系统，用于移动所述悬挂结构；

第二控制系统，用于存储清洁程序，并运行所述清洁程序以用于控制所述第二驱动系统移动所述悬挂结构，从而改变所述红外激光器在待清洁基板上所对应的照射区域。

进一步地，所述清洁设备还包括：

吸尘系统，用于收集被汽化和/或升华的残留物。

进一步地，所述吸尘系统包括：

吸嘴、吸尘管路以及气泵；

其中，所述吸嘴设置在所述悬挂结构上，且开口朝向所述照射区域；所述吸尘管路连接所述吸嘴与气泵。

进一步地，所述吸尘系统还包括：

设置在所述吸尘管路中的冷凝滤网。

进一步地，所述清洁设备还包括：

设置在所述悬挂结构上的摄像系统，用于获取照射区域的图像。

进一步地，所述清洁设备还包括：

设置在所述悬挂结构上的红外线温度传感器，用于获取照射区域的温度。

进一步地，所述清洁设备还包括：

第三控制系统，用于根据所述红外线温度传感器获取到的照射区域的温度，控制所述红外激光器工作。

本发明的上述方案具有如下有益效果：

本发明的方案通过远红外线加热基板表面，使其上的有机材料达到沸点后脱离掩膜板，从而实现清洁目的。相比于现有技术中的使用有机药液浸泡式的化学清洁，或者使用声波的物理清洁，本实施例的清洁效果更好，且不会对环境造成污染，并降低对基板造成的损伤。

附图说明

图1为本发明的清洁设备的示意图；

图2为本发明的清洁设备在具体应用中的详细结构示意图；

附图标记：

图1：1-承载台；2-红外激光器；Mask-待清洁基板；D-红外激光器对应待清洁基板的照射区域；

图2：21-承载台；22-悬挂结构；23-红外激光器；24-吸尘系统；241-吸嘴；242-吸尘管路；243-气泵；244-冷凝滤网；25-残留物；26-红外线温度传感器；27-摄像系统。

具体实施方式

为使本发明要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

本发明针对现有技术的掩膜板上的残留物不易清洁的问题，提供一种清洁设备，清洁效果好，且不会对环境造成污染，并降低对掩膜板造成的损伤。

如图1所示，本发明的清洁设备包括：

承载台1，用于承载待清洁基板Mask，该待清洁基板Mask可以但不限于掩膜板；

红外激光器2，在承载台承载有待清洁基板时，红外激光器2在该待清洁基板3上对应有照射区域D，用于对照射区域进行红外加热，使得该待清洁基板在照射区域D上的残留物汽化和/或升华。

本实施例的清洁设备通过远红外线加热掩膜板表面，使其上的有机材残留物达到沸点后脱离掩膜板，从而实现清洁目的。相比于现有技术中的使用有机药液浸泡式的化学清洁，或者使用声波的物理清洁，本实施例的清洁效果更好，且不会对环境造成污染，并降低对掩膜板造成的损伤。

下面结合实际应用对本发明的清洁设备的进行详细介绍。

如图2所示，本发明的清洁设备包括：

承载台21，承载有待清洁基板Mask。

悬挂结构22，设置在承载台21用于承载待清洁基板的平面上方。

设置在悬挂结构22上的红外激光器23，用于对承载台承载21的待清洁基板的照射区域进行红外加热，使得照射区域的残留物25汽化和/或升华。

作为示例性介绍，本实际应用的红外激光器23可以为二氧化碳激光器。假设带清洁基板是掩膜板，在正常情况下，掩膜板经长期使用的过程中，会不断在不透光区积累有机残留物，从而在一定程度堵塞透光区，影响掩膜板使用效果。本发明经过多次实验后，发现当二氧化碳激光器发射波长为10.6μm的激光时，可以对有机残留物进行有效的汽化和/或升华，且对掩膜板产生较小的损伤，因此作为优选但不必需的方案，二氧化碳激光器的发射光的波长为10.6μm。

此外，实际应用的清洁设备还可以包括：设置在悬挂结构22上的吸尘系统24，用于收集被汽化和/或升华的残留物25。

作为示例性介绍，本实施例的吸尘系统24包括：吸嘴241、吸尘管路242以及气泵243。

其中，吸尘管路242连接吸嘴241与气泵243，吸嘴241开口朝向或大致朝向红外激光器23的照射区域。在气泵243工作时，吸嘴241产生负真空低压，从而对照射区域内已被汽化和/或升华的残留物25进行吸附。

当然，作为优选方案，本实施例的吸尘系统24还包括：

设置在吸尘管路242中的冷凝滤网244，当汽化和/或升华的残留物25被吸嘴241吸附后，可以被冷凝滤网244收集。操作人员可以定期取下冷凝滤网244对其收集的残留物进行处理。

此外，为了进一步提高清洁效果，本实际应用的清洁设备还包括有：输风机(未在图2中示出)。承载台21用于承载Mask的平面上设置有至少一个出风口211，该出风口211通过输风管路连接输风机。在进行清洁时，输风机通过输风管路向出风口211输送气体，气体在经过Mask的透光区后，能够加速残留物25脱离Mask，使残留物25更易于被吸尘系统24中的吸嘴241吸附。

当然，作为优选方案，输风机可以向出风口211输送气体为热氮气。在正常情况下，氮气的化学特性相对稳定，可避免与有机残留物发生反应，或者对掩膜板造成腐蚀，且一定热量下，也不会影响残留物25的汽化或升华。

进一步地，本发明的清洁设备在实际应用中可以自动化对掩膜板清洁，作为一种可行方案，清洁设备可以进一步包括：第一驱动系统和第一控制系统。

其中，第一驱动系统用于移动承载台21；第一控制系统用于存储清洁程序，并运行清洁程序以用于控制第一驱动系统移动承载台21，从而改变红外激光器23在Mask上所对应的照射区域。

作为示例性介绍，上述第一驱动系统可以包括：

第一驱动机构，用于控制承载台21沿直角坐标系的第一轴方向运动；

第二驱动机构，用于控制承载台21沿直角坐标系的第二轴方向运动；

其中，第一轴方向与第二轴方向确定的平面平行于承载台21用于承载Mask的平面。

显然，基于上述设计，本实施例的承载台能够在程序控制下，相对红外激光器23移动，从而让红外激光器23对Mask的不同位置进行红外加热。

当然，作为另一可行方案，本发明的清洁设备可以移动图2中的悬挂部件22来改变红外激光器23的照射区域，即本发明的清洁设备在实际应用中还可以包括：

第二驱动系统，用于移动悬挂结构22；

第二控制系统，用于存储清洁程序，并运行清洁程序以用于控制第二驱动系统移动悬挂结构22，从而改变红外激光器23在Mask上所对应的照射区域。

显然，第二驱动系统、第二控制系统与本文上述的第一驱动系统、第一控制系统的原理相同，本文不再进行举例赘述。

此外，考虑到清洁过程中，不同环境可能会对红外激光器加热效果产生不同的影响，导致残留物25的汽化或升华效果不稳定，本发明的清洁设备在实际应用中还可以进一步包括：

设置在悬挂结构22上的红外线温度传感器26，用于获取照射区域的温度。一般情况下，照射区域的温度可以有效反应残留物的汽化或升华效果，操作人员可以根据该红外线温度传感器26，合理控制红外激光器23加热时的功率，使照射区域的温度维持在正常范围内，以保证残留物25能够有效汽化或升华，并不使掩膜板产生热损伤。

当然在上述基础之上，本发明的清洁设备在实际应用中还可以实现对红外激光器23自动化控制。即清洁设备还可以包括：

第三控制系统，用于根据红外线温度传感器26获取到的照射区域的温度，控制红外激光器23工作，从而使照射区域被加热的温度能够恒定在合理的范围之内。

此外，进一步参考图2，本发明的清洁设备在实际应用中还可以包括：

设置在悬挂结构22上的摄像系统27，用于获取照射区域的图像。

作为示例性介绍，摄像系统27还可以进一步将照射区域的图像反馈回操作系统，操作人员或者操作系统可以根据图像对掩膜板的清洁效果进行评估。例如，将摄像系统27反馈的图像与干净的掩膜板的图像进行图形比对，从而确定出掩膜板的清洁程度。

综上所述，相比于现有技术，本发明的清洁设备具有以下优点：

1)采用红外激光使掩膜板上的残留物汽化和/或升华能够达到更高清洁效果，且不会产生额外的污染源；

2)通过吸尘系统能够有效收集汽化或升华的残留物，从而避免残留物污染环境；

3)承载台设置有出风口，能够对掩膜板输送热氮气，从而加快残留物脱离掩膜板，更有利于被吸尘系统收集；

4)通过控制系统实现了自动化清洁，因此该清洁设备可以在密封的无人化腔室完成，避免人工清洁对掩膜板造成的二次污染；

5)在清洁过程中，实时获取掩膜板照射区域的温度，从而动态控制红外激光器工作，使得不管在何种工作环境下，或者红外激光器工作的功率是多少，总能保证照射区域的温度恒定，从而稳定汽化或升华残留物。

以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。