一种硅料清洗方法和装置与流程

本发明属于光伏技术领域，特别是涉及一种硅料清洗方法和装置。

背景技术：

多晶铸锭产生的边皮以及头尾料占铸锭重量30％以上，现有技术采用酸洗或者是碱洗等纯化学方法进行处理，然而，边皮料、头料、尾料中的杂质不能有效的去除，或者耗费较多的酸、碱才能清洗干净，表层硬质杂质清洗效果不佳。

技术实现要素：

为解决上述问题，本发明提供了一种硅料清洗方法和装置，能够提高清洗效果且可以减少酸碱使用量。

本发明提供的一种硅料清洗方法，包括：

对硅料的表面进行喷砂和打磨；

对所述硅料进行酸洗和水漂洗；

对所述硅料进行超声清洗并进行干燥；

在对所述硅料进行水漂洗之后，超声清洗之前，还包括：

对所述硅料进行高压冲洗。

优选的，在上述硅料清洗方法中，

所述对所述硅料进行高压冲洗为：

利用高压水枪喷射的水流对所述硅料进行冲洗。

优选的，在上述硅料清洗方法中，

所述高压水枪喷射的水流的压强范围为0.5MPa至2MPa。

优选的，在上述硅料清洗方法中，

对所述硅料高压冲洗持续的时间范围为5秒至30秒。

优选的，在上述硅料清洗方法中，

在所述对所述硅料进行高压冲洗之后，还包括：

对冲洗后的水进行回收利用。

本发明提供的一种硅料清洗装置，包括设置于冲洗槽内的支撑平台，所述支撑平台上固定有硅料夹具，所述硅料夹具的上方固定有高压冲洗部件，所述高压冲洗部件的喷射部对准固定在所述硅料夹具上的硅料。

优选的，在上述硅料清洗装置中，所述高压冲洗部件包括高压水泵、高压水管和喷嘴，所述高压水管可沿轴向转动且所述高压水管上设置有一排喷嘴。

优选的，在上述硅料清洗装置中，所述高压冲洗部件包括高压水泵、高压水管和喷嘴，所述高压水管为固定式，且所述高压水管上设置有两排至三排喷嘴。

优选的，在上述硅料清洗装置中，还包括设置于所述冲洗槽旁边的利用过滤网连通的回水箱，所述高压水泵的进水口位于所述回水箱内。

优选的，在上述硅料清洗装置中，所述冲洗槽的顶部还利用盖板进行覆盖。

通过上述描述可知，本发明提供的上述硅料清洗方法和装置，由于该方法中在对所述硅料进行水漂洗之后，超声清洗之前，还包括对所述硅料进行高压冲洗，该装置包括设置于冲洗槽内的支撑平台，所述支撑平台上固定有硅料夹具，所述硅料夹具的上方固定有高压冲洗部件，所述高压冲洗部件的喷射部对准固定在所述硅料夹具上的硅料，因此能够提高清洗效果且可以减少酸碱使用量。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例提供的第一种硅料清洗方法的示意图；

图2为本申请实施例提供的第一种硅料清洗装置的示意图。

具体实施方式

本发明的核心思想在于提供一种硅料清洗方法和装置，能够提高清洗效果且可以减少酸碱使用量。

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本申请实施例提供的第一种硅料清洗方法如图1所示，图1为本申请实施例提供的第一种硅料清洗方法的示意图，该方法包括如下步骤：

S1：对硅料的表面进行喷砂和打磨；

S2：对所述硅料进行酸洗和水漂洗；

S3：对所述硅料进行高压冲洗；

需要说明的是，该种方式属于物理非接触式清洗，主要是利用高压水流冲击硅料表面，将残留物质清除，避免了操作人员接触有害的液体物质，保证生产安全性，而且效率更高。

S4：对所述硅料进行超声清洗并进行干燥。

通过上述描述可知，本发明提供的上述硅料清洗方法，由于具有一个高压冲洗的步骤，因此能够提高清洗效果且可以减少酸碱使用量。

本申请实施例提供的第二种硅料清洗方法，是在上述第一种硅料清洗方法的基础上，还包括如下技术特征：

所述对所述硅料进行高压冲洗为：

利用高压水枪喷射的水流对所述硅料进行冲洗。

所述高压水枪是一种常见的高压液体喷射装置，可以利用现有的高压水枪进行硅料的冲洗，易于获得且成本较低，且容易操作。

本申请实施例提供的第三种硅料清洗方法，是在上述第二种硅料清洗方法的基础上，还包括如下技术特征：

所述高压水枪喷射的水流的压强范围为0.5MPa至2MPa。

需要说明的是，利用这种压强范围的水流进行喷射，既能够保证冲洗的效果，又不会浪费能源。

本申请实施例提供的第四种硅料清洗方法，是在上述第三种硅料清洗方法的基础上，还包括如下技术特征：

对所述硅料高压冲洗持续的时间范围为5秒至30秒。

需要说明的是，当冲洗时间为5秒时，能够保证冲洗干净且不会耗费较多的电力，当冲洗时间为30秒时，保证冲洗效果更好，也不会造成电力的浪费，当冲洗时间位于这个区间内时，既能保证冲洗效果，又不会浪费电力。

本申请实施例提供的第五种硅料清洗方法，是在上述第一种至第四种硅料清洗方法中任一种的基础上，还包括如下技术特征：

在所述对所述硅料进行高压冲洗之后，还包括：

对冲洗后的水进行回收利用。

需要说明的是，若干次冲洗之后流下来的水仍然干净，因此将其回收后仍可以再利用，继续作为高压冲洗用水，从而节省冲洗的成本。

本申请实施例提供的第一种硅料清洗装置如图2所示，图2为本申请实施例提供的第一种硅料清洗装置的示意图。该硅料清洗装置包括设置于冲洗槽1内的支撑平台2，所述支撑平台2上固定有硅料夹具3，所述硅料夹具3的上方固定有高压冲洗部件，所述高压冲洗部件的喷射部对准固定在所述硅料夹具3上的硅料6。硅料放置在硅料夹具内固定好之后，启动高压冲洗部件带动水流经过高压水管喷射到硅料上，以实现硅料的快速彻底的清洗，从而能够提高清洗效果且可以减少酸碱使用量。

本申请实施例提供的第二种硅料清洗装置，是在上述第一种硅料清洗装置的基础上，还包括如下技术特征：

所述高压冲洗部件包括高压水泵9、高压水管4和喷嘴5，所述高压水管4可沿轴向转动且所述高压水管4上设置有一排喷嘴5。

在这种情况下，利用一排喷嘴，对硅料进行扫洗，逐渐对整个硅料的各个表面冲洗完毕，保证不会出现废液残留。

本申请实施例提供的第三种硅料清洗装置，是在上述第一种硅料清洗装置的基础上，还包括如下技术特征：

所述高压冲洗部件包括高压水泵、高压水管和喷嘴，所述高压水管为固定式，且所述高压水管上设置有两排至三排喷嘴。

在这种情况下，两排至三排喷嘴就能够同时冲洗硅料的整个单一表面，冲洗完后再换成另一个表面继续冲洗，以此类推，最终实现所有表面的冲洗。

本申请实施例提供的第四种硅料清洗装置，是在上述第二种或第三种硅料清洗装置的基础上，还包括如下技术特征：

继续参考图2，还包括设置于所述冲洗槽1旁边的利用过滤网7连通的回水箱8，所述高压水泵9的进水口位于所述回水箱8内。冲洗之后流下来的水经过过滤网的过滤之后，更为干净，再进入高压水泵再次喷射出去，实现水的循环利用，降低成本。

本申请实施例提供的第五种硅料清洗装置，是在上述第一种硅料清洗装置的基础上，还包括如下技术特征：

继续参考图2，所述冲洗槽1的顶部还利用盖板10进行覆盖，能够有效防止冲洗过程中液体溅到外面造成环境污染或操作人员的人身伤害。

另外，该装置还包括位于冲洗槽的下部的排水阀11以及与高压水泵9连通的进水阀13，在外界与高压水泵之间的管路上还设置有补水阀12，一般情况下，水从高压泵通过该进水阀13进行高压冲洗，当循环利用的水的洁净程度不符合要求之后，将水从排水阀11中放出，并从补水阀12重新补入干净的水。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。