一种用于复合绝缘子处理用旋转支撑装置及方法与流程

文档序号:11877378阅读:294来源:国知局
一种用于复合绝缘子处理用旋转支撑装置及方法与流程

本发明涉及一种用于复合绝缘子处理用旋转支撑装置及方法。



背景技术:

硅橡胶复合绝缘子因其具有优异的防污闪性能,在电力系统中得到大量的推广和使用。复合绝缘子具有如此优异的防污闪性能,其最为重要的原因便是硅橡胶材料优良的憎水性和憎水迁移性。但随着运行年限的增加及外部环境的影响,其表面憎水性能会逐渐降低。研究证明,积污严重的硅橡胶材料在低温、高湿的大气环境下,表面憎水性的自然迁移速度会大大降低,甚至会出现完全迁移不出来的情况。因此,特殊天气条件下,如何快速提高或恢复染污硅橡胶材料表面憎水性是一个亟待解决的问题。

放电等离子体射流中富含活性粒子,用于材料表面处理时,会改变材料表面的分子结构,使材料表现出不同的表面性能。已有研究表明,放电处理后的憎水性未充分迁移的染污硅橡胶试片憎水性显著增强。该过程的典型特点是处理时间短,通常可以在几秒到2min的时间内完成,操作简单。更为重要的是在自然条件下,处理后的染污硅橡胶憎水性能长期(跟踪25天)维持不变,不会随着自然迁移过程而丧失。可见,放电处理技术是一种能够快速有效地改善染污硅橡胶材料表面憎水性的措施。

然而,目前将等离子体射流表面强化处理技术应用在实际染污复合绝缘子上在国内尚属空白。此外为了便于射流强化处理染污复合绝缘子伞裙表面及芯棒圆柱表面,使其表面附着的污秽物能与大气压低温等离子体射流充分接触进行表面处理,必须将其安装于支撑台并由支撑台带动染污复合绝缘子旋转。究其国内研究情况,目前尚未发现能够用于短串复合绝缘子支撑及可调速旋转的应用装置。



技术实现要素:

本发明为了解决上述问题,提出了一种用于复合绝缘子处理用旋转支撑装置及方法,本发明能够便于将异型不易处理到的伞裙内部表面及芯棒表面完全均匀暴露于射流处理喷头下,提高了处理效果的便捷度和时效性,从而大大加快了处理进程。

为了实现上述目的,本发明采用如下技术方案:

一种用于复合绝缘子处理用旋转支撑装置,包括支撑架、连接件和旋转电机,其中,所述支撑架承载复合绝缘子,所述连接件一端连接复合绝缘子的端部,另一端连接旋转电机的输出轴;

所述支撑架包括底座和活动设置于底座上的两个支撑板,所述支撑板之间的间距可调,所述支撑板上设置有用于固定复合绝缘子端部的悬孔。

所述支撑板之间设置有距离调节机构,配合绝缘子串的长度调节两个支撑板之间的距离。

所述距离调节机构包括旋转固定螺母和螺杆,所述旋转固定螺母设置于支撑板上,与螺杆相配合。

所述支撑板为可拆卸机构,包括通过固定卡槽相连接的上、下两部分,所述悬孔设置于上、下两部分的连接处。

所述底座上设置有卡槽,以活动固定支撑板。

所述悬孔在两个支撑板的位置相对应,保持绝缘子串水平放置。

所述底座与支撑板均为绝缘材质。优选为有机玻璃。

所述旋转电机的转速可调,且输出轴与复合绝缘子高压端保持同一高度。

一种复合绝缘子等离子体射流表面强化处理系统,采用上述旋转支撑装置,还包括流射喷头,所述喷头设置于支撑架上端,沿绝缘子串固定方向水平运动。

基于上述系统的工作方法,根据需要处理的染污复合绝缘子串长度,通过调整两支撑板距离,将染污复合绝缘子两端放置在悬孔内,加以固定,调节旋转电动机转速,使其满足处理转速需要,利用射流喷头依次对绝缘子串的每个伞裙进行喷射。

本发明的有益效果为:

(1)采用发明装置作为旋转支撑装置能够便于将异型不易处理到的伞裙内部表面及芯棒表面完全均匀暴露于射流处理喷头下,提高了处理效果的便捷度和时效性,从而大大加快了处理进程;

(2)设计合理,结构简单,便于不同串长、不同芯棒厚度复合绝缘子支撑、安装及拆卸,具有便捷调速等优势。

附图说明

图1为本发明的主视图;

图2为本发明的侧视图;

图3为本发明的俯视图。

其中,1-支撑支架,2-固定用旋转臂手(连接件),3-可调速旋转电动机,4-固定卡槽,5-悬孔,6-旋转螺栓孔,7-有机玻璃板,8-活动卡槽,9-绝缘子串。

具体实施方式:

下面结合附图与实施例对本发明作进一步说明。

如图1所示,一种复合绝缘子处理用旋转支撑装置,包括依次相连的复合绝缘子支撑用支架(1)、固定用旋转臂手(2)、可调速旋转电动机(3)。

所述复合绝缘子支撑支架(1)包括水平有机玻璃底座,竖直可活动有机玻璃平板(左侧)、竖直固定有机玻璃平板(右侧)及调节串长用旋转螺母螺栓。

所述可活动有机玻璃平板如图2所示,有机玻璃平板尺寸为高50cm,宽30cm,厚度3cm;分为上下两部分,上部分高度15cm,下部分高度35cm,通过平板固定卡槽(4)相连接,连接部分组成复合绝缘子支撑用悬孔(5),用于复合绝缘子串低压端金具支撑用,下部分平板开有旋转螺栓孔(6)。整体活动平板通过突出有机玻璃板(7)与底座活动卡槽(8)相连接,用于滑动和固定。所述复合绝缘子支撑用悬孔直径为5cm;所述旋转螺栓孔直径为3cm,所述上下平板连接卡槽深度10cm。所述绝缘子支撑用悬孔及旋转螺栓孔位于平板中轴线上,所述旋转螺栓孔距离地板高度10cm。所述下平板突出有力玻璃板深度4cm,宽6cm,距离中轴线5cm。

所述竖直固定有机玻璃平板与底座直接相连,开孔位置大小及卡槽结构与可活动平板相同。

如图3所示,所述水平底座为有机玻璃平板,长100cm,宽30cm,厚度8cm,所述活动卡槽(8)深度4cm,宽6cm,用于支撑竖直有机玻璃平板。

所述调节串长用旋转螺母螺栓(8)用于固定两竖直有机玻璃平板,螺栓直径3cm,长度100cm,螺母直径5cm,通过旋转活动平板固定螺母可以调节两平板之间距离,从而便于调节支撑用复合绝缘子串长。

所述的用于等离子体射流处理用染污复合绝缘子旋转支撑装置,所述固定用旋转臂手为连接旋转电动机与染污复合绝缘子用臂手,一端与旋转电动机直接相连,此相连端内径为4cm,深度5cm,与旋转电动机连接端外径相同;另一端采用可调节臂手与复合绝缘子高压端金具相连,可稳定固定复合绝缘子高压端。

所述的用于等离子体射流处理用染污复合绝缘子旋转支撑装置,所述可调速旋转电动机,可以定额加速,调节转速范围为7转/分钟~45转/分钟(7.5、9、13.5、15、22.5、27、33.5、45转/分钟)。所述可调速旋转电动机输出连接端要求与复合绝缘子高压端保持同一高度。

所述处理等离子体射流为低温等离子体射流,所述复合绝缘子表面污秽为高岭土及硅藻土。

根据需要处理的染污复合绝缘子串长,通过旋转滑板螺母,确定两竖直有机玻璃板距离,将有机玻璃板上下部分拆卸,将染污复合绝缘子两端放置在复合绝缘子用支撑悬孔内并将有机玻璃板整体安装用于固定复合绝缘子。调节旋转电动机转速,使其满足处理转速需要。将射流喷头放置在距离伞裙及芯棒表面3cm处,每处伞裙处理时间30s,此后向左平移至下一伞裙处直至完全处理完复合绝缘子表面。此后关闭旋转电动机,将染污复合绝缘子取下用于后续试验处理。

采用发明装置作为旋转支撑装置能够便于将异型不易处理到的伞裙内部表面及芯棒表面完全均匀暴露于射流处理喷头下,提高了处理效果的便捷度和时效性,从而大大加快了处理进程。

上述参数的调整、改变均属于本领域技术人员容易想到的简单替换,属于不具有创造性的劳动。

上述虽然结合附图对本发明的具体实施方式进行了描述,但并非对本发明保护范围的限制,所属领域技术人员应该明白,在本发明的技术方案的基础上,本领域技术人员不需要付出创造性劳动即可做出的各种修改或变形仍在本发明的保护范围以内。

当前第1页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1