1.一种臭氧催化氧化深度处理头孢制药废水系统，包括顶部设有排气口(9)、底部设有进水口(4)和上部设有净化水出口(8)的催化氧化室(6)；其特征在于:所述催化氧化室(6)内部净化水出口(8)下方设有臭氧催化剂填料层(7)；所述催化氧化室(6)的进水口(4)连接有三通管，其中一管口连接微纳米气泡发生装置(2)，另一管口为排空口；所述微纳米气泡发生装置(2)的进气口连接臭氧发生器(3)，微纳米气泡发生装置(2)的进水口连接头孢制药废水源；所述微纳米气泡发生装置(2)与头孢制药废水源连接的管道上设有动力装置(1)；所述催化氧化室(6)的排气口(9)连接尾气净化装置(10)；所述催化氧化室(6)的净化水出口(8)连接排水装置。
2.根据权利要求1所述的一种臭氧催化氧化深度处理头孢制药废水系统，其特征在于：所述微纳米气泡发生装置(2)的压力为0.09～0.10MPa。
3.根据权利要求1所述的一种臭氧催化氧化深度处理头孢制药废水系统，其特征在于：所述尾气净化装置(10)为臭氧分解器。
4.根据权利要求1所述的一种臭氧催化氧化深度处理头孢制药废水系统，其特征在于：所述臭氧催化剂填料层(7)的高度为120～180cm。
5.根据权利要求1所述的一种臭氧催化氧化深度处理头孢制药废水系统，其特征在于：所述净化水出口(8)与臭氧催化剂填料层(7)上端面的距离为35～65cm，净化水出口(8)与排气口(9)之间的距离为35～65cm。
6.根据权利要求1所述的一种臭氧催化氧化深度处理头孢制药废水系统，其特征在于：催化氧化室所述催化氧化室(6)为中空塔体形状。
7.根据权利要求1所述的一种臭氧催化氧化深度处理头孢制药废水系统，其特征在于：所述臭氧催化剂填料层(7)的横截面与催化氧化室(6) 内腔横截面相同。