湍流空穴磁脉冲清管器的制作方法

文档序号:12930022

本实用新型属于管道清理装置技术领域,具体涉及一种湍流空穴磁脉冲清管器。



背景技术:

目前,管道清理使用的方法有化学技术、高压水射流、PIG技术和空穴技术。经过长期使用观察,空穴技术与其它技术相比,具有显著的优越性。

湍流空穴清管器使用时,首先利用湍流清洗装置把被清洗管道内液体从层流提高到湍流状态,即雷诺数RE达到4000以上,让管道内的液体彻底形成湍流。液体从管道清洗装置的后方向前推动其前进的过程中,在清管器的前后就产生了压力差,水流首先通过射流橡胶皮碗的射流槽,然后经内层清扫器叶片和外层清扫器叶片的夹缝中穿过,引起叶片的振动,产生高频、剧烈振颤,清洗装置被由此产生的急速旋转的涡流和旋转湍流所包围,形成了连续移动的低压区---这个区域的流水始终呈汽化状态,由此产生的细微大量汽泡,气泡又迅速被压缩直至崩裂,瞬时激射出强力的微射湍流,无数的微射湍流汇聚成旋转冲击波,彻底粉碎管壁上的沉积物。

当管道内污垢较多时,从管壁上脱落的沉积物可能在清管器前方聚集,聚集在一起的污垢可能会堵塞管道,导致清管器无法前进。

湍流空穴清管器在使用过程中,一旦出现卡阻的问题,则需要对清管器的位置进行定位,现有的湍流空穴清管器通常采用如专利申请号为:2014103261732名称是《一种智能清管器跟踪系统》的类似结构,在清管器上安装信号发射器;由于清管器工作环境特殊,因此,信号发射器易发生损坏,如果清管器被卡阻在管道中,则无法对其进行定位,造成管道长时间无法运行,影响生产效率。



技术实现要素:

本实用新型就是针对上述问题,提供一种使用寿命长,清理管道过程中不易卡阻的湍流空穴磁脉冲清管器。

为了实现本实用新型的上述目的,本实用新型采用如下技术方案,本实用新型包括磁脉冲发射机,其特征在于:磁脉冲发射机设置为中空筒状,磁脉冲发射机的中心设置有电池槽,磁脉冲发射机的一端设置有电池槽的密封盖,磁脉冲发射机的另一端为封闭;所述磁脉冲发射机的外表面前端和中部均设置有清扫组件;所述磁脉冲发射机中部的清扫组件内设置有湍流发生器,所述磁脉冲发射机内设置有连通湍流发生器的管路,所述磁脉冲发射机封闭的一端设置有与所述管路连通的湍流喷射口。

作为本实用新型的一种优选方案,所述管路通过单向阀与湍流发生器相连;管路上设置有湍流阻隔单向阀。

作为本实用新型的另一种优选方案,所述磁脉冲发射机的封闭的一端外设置有吊环。

作为本实用新型的第三种优选方案,所述清扫组件包括与磁脉冲发射机相连的射流皮碗,射流皮碗外设置有内清扫叶,内清扫叶外设置有外清扫叶,外清扫叶表面设置有硬垢清扫块。

本实用新型的有益效果:1、本实用新型通过将脉冲发射机本体作为清管器的主体,其结构稳定,外部没有多余的连接结构,因此,不易损坏,能保证清管器在发生卡阻的情况下,立刻精确定位,提高了本实用新型的使用寿命。

2、本实用新型通过设置湍流发生器和湍流喷射口,可在清管器的前端喷射湍流,从而将清管器前端的污垢冲散,避免污垢聚集而阻塞管道。

3、本实用新型通过在管路上设置湍流阻隔单向阀,可以避免湍流在管路中产生回流,从而保持湍流的强度。

4、本实用新型通过设置吊环,便于对本实用新型吊运。

5、本实用新型通过设置硬垢清扫块,可提高对管道内污垢的清理效果。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

附图中1为电池槽、2为密封盖、3为第二单向阀、4为湍流发生器、5为硬垢清扫块、6为清扫组件、7为湍流阻隔单向阀、8为外清扫叶、9为内清扫叶、10为射流皮碗、11为磁脉冲发射机、12为湍流喷射口、13为吊环、14为管路。

具体实施方式

本实用新型包括磁脉冲发射机11,其特征在于:磁脉冲发射机11设置为中空筒状,磁脉冲发射机11的中心设置有电池槽1,磁脉冲发射机11的一端设置有电池槽1的密封盖2,磁脉冲发射机11的另一端为封闭;所述磁脉冲发射机11的外表面前端和中部均设置有清扫组件6;所述磁脉冲发射机11中部的清扫组件6内设置有湍流发生器4,所述磁脉冲发射机11内设置有连通湍流发生器4的管路14,所述磁脉冲发射机11封闭的一端设置有与所述管路14连通的湍流喷射口12。

作为本实用新型的一种优选方案,所述管路14通过单向阀与湍流发生器4相连;管路14上设置有湍流阻隔单向阀7。

作为本实用新型的另一种优选方案,所述磁脉冲发射机11的封闭的一端外设置有吊环13。

作为本实用新型的第三种优选方案,所述清扫组件6包括与磁脉冲发射机11相连的射流皮碗10,射流皮碗10外设置有内清扫叶9,内清扫叶9外设置有外清扫叶8,外清扫叶8表面设置有硬垢清扫块5。

所述湍流发生器4和管路14之间设置有第二单向阀3。

可以理解的是,以上关于本实用新型的具体描述,仅用于说明本实用新型而并非受限于本实用新型实施例所描述的技术方案,本领域的普通技术人员应当理解,仍然可以对本实用新型进行修改或等同替换,以达到相同的技术效果;只要满足使用需要,都在本实用新型的保护范围之内。

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