滚刷及应用其的清洗装置的制作方法

本实用新型涉及显示领域，具体涉及在显示领域制造过程中的一种滚刷及应用其的清洗装置。

背景技术：

在显示技术领域，平板显示器具有完全平面化、轻、薄、省电等特点,符合未来图像显示器发展的必然趋势。目前主要的平板显示器包括:PDP(Plasma display panel)、LCD(Liquid crystal displays)、FED(Field emission displays)、OLED(Organic light-emittingdiode displays)等，特别是LCD、OLED具有体积小、功耗低、制造成本相对较低和无辐射等特点，在当前的平板显示器市场已经占据了主导地位。

在平板显示器的制备工艺中，基板的清洁度决定了显示器的光学性能以及加载在基板上的元件的性能与质量。清洗是一种去除工艺中的基板污染或微粒以提高产品良率的工艺技术，通过对基板的有效清洗，可以提高膜层间的粘附力。因此，对基板的清洗决定了产品的良率。

如图1所示，现有技术中的基板清洗装置包括清洗槽1a，贯穿于槽两端的驱动轴3a，在驱动轴的外周设置有滚刷2a，该滚刷在驱动轴的带动下转动，清除基板表面的微粒。该滚刷2a上方设置有水管5a，在该水管5a面向滚刷2a的一侧连接有喷头6a，用于向滚刷2a提供纯水；该滚刷2a下方设置有放置待清洗基板4a的平台。该技术方案通过在滚刷2a清除基板表面微粒的同时，实现基板的清洗。

上述技术方案中，由于喷头喷淋的纯水是喷洒在滚刷表面，其作用主要为润湿、清洗刷体。若污染物未完全被刷体粘离，仍会留存在基板表面；同时，当纯水喷洒至刷体时，会将刷体粘附的污染物洗出再次回到基板表面，清洗效果欠佳。

技术实现要素：

因此，本实用新型要解决现有技术中的清洗装置清洗效果欠佳的问题。

鉴于此，本实用新型提供一种滚刷，包括：

驱动轴，具有中空腔体；

刷体，包覆在所述驱动轴的外壁上；配水组件，开设在所述驱动轴外壁上，并与所述中空腔体连通；

所述配水组件远离所述驱动轴的一端不超出所述刷体的外壁。

可选地，所述配水组件远离所述驱动轴的一端与所述刷体的外壁的间距为刷体厚度的1/10～1/5。

可选地，所述配水组件包括中空的配水支管，所述配水支管与所述驱动轴的轴向垂直。

可选地，所述配水组件还包括设置在所述配水支管远离所述驱动轴一端端部的喷嘴。

本实用新型还提供一种清洗装置，包括：

槽体，以及架设在槽壁上的滚刷；所述滚刷为上述任一项所述的滚刷。

可选地，还包括用于收集所述槽体内洗液再利用的洗液回流装置。

可选地，所述回流装置包括开设在所述槽体底部的回流孔、过滤装置和水泵，所述槽体内部的洗液通过回流孔进入所述过滤装置过滤，再通过所述水泵泵入所述驱动轴。

可选地，所述清洗槽还包括有温控组件，用于对所述驱动轴内洗液的温度进行处理。

可选地，所述温控加热组件包括：

传感器，用于测量所述洗液的温度；

控制器，获取所述传感器的测量数据，进行处理后生成控制信息；

加热组件，获取所述控制信息，对所述驱动轴内洗液的温度进行处理。

本实用新型技术方案，具有如下优点：

1.本实用新型提供的滚刷，包括驱动轴，具有中空腔体；刷体，包覆在所述驱动轴的外壁上；配水组件，开设在所述驱动轴外壁上并与所述中空腔体连通；所述配水组件设置在所述刷体内部，且远离所述驱动轴的一端与所述刷体外壁的间距为所述刷体厚度的1/10～1/5。通过将配水组件、刷体以及驱动轴一体设置，并且配水组件设置在刷体内部，从而实现刷洗和冲洗一体设置且同时进行，刷洗出的污染物能够被及时冲洗，增加了滚刷对基板的清洁效果。

2.本实用新型提供的滚刷，通过将配水支管与驱动轴的轴向垂直设置，能够增加洗液对基板的冲击力，提高滚刷对基板的清洁效果；配水支管端部喷嘴的设置增大了配水组件的冲洗半径和水压，提高滚刷对基板的清洁效果。

3.本实用新型提供的清洗装置，包括槽体，以及架设在槽壁上的滚刷；该滚刷中的配水组件、刷体以及驱动轴一体设置，能够增加滚刷的清洗效果。

4.本实用新型提供的清洗装置，还包括有回流装置，该回流装置包括开设在槽体底部的回流孔、过滤装置和水泵，槽体内部的洗液通过回流孔进入过滤装置过滤，再通过水泵泵入所述驱动轴。通过回流装置的设置，能够实现洗液的多次循环利用，节约了使用成本。

5.本实用新型提供的清洗装置，其清洗槽还包括温控组件，用于对驱动轴内洗液的温度进行处理。该清洗装置能够自动测量驱动轴内洗液的温度，并实现相应的控制，保证了较好的清洗效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中清洗装置的结构示意图；

图2为本实用新型中清洗装置的结构示意图；

图3为本实用新型中温控加热组件的结构示意图。

附图标记：

图1：1a-槽体；2a-滚刷；3a-驱动轴；4a-基板；5a-水管；6a-喷头；7a-刷体；

图2：1b-槽体；2b-滚刷；21-驱动轴；22-刷体；23-中空腔体；24-配水组件；241-配水支管；242-喷嘴；3b-基板；

图3：30-温控加热组件；31-传感器；32-控制器；321-数据存储单元；322-数据处理单元；33-加热组件。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

本领域技术人员应当理解的是，实施例1和实施例2中刷体22的厚度是指在驱动轴21的径向截面图中，刷体22的外壁与驱动轴21外壁之间的距离。

此外，下面所描述的本实用新型不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。

实施例1

本实施例提供一种滚刷2b，用于对基板3b进行清洗。如图2所示，该滚刷2b包括具有中空腔体23的驱动轴21，包覆在驱动轴21外壁上的刷体22；在驱动轴21外壁上开设有若干与所述中空腔体23连通的配水组件24，所述配水组件24均设置在所述刷体22内部，具体地，所述配水组件24远离驱动轴21的一端与刷体22的外壁的间距为刷体22厚度的1/10～1/5，从而在刷体22外壁形成刷体22与基板3b的接触缓冲区。由于该缓冲区的存在，滚刷2b在满足刷洗质量的同时，能够避免刷体22工作时配水组件24对基板3b的损伤。本实用新型中所述的刷体厚度是指在驱动轴的径向截面图中，所述刷体外壁与其靠近驱动轴外壁的内壁之间的厚度。所述接触缓冲区是由所述配水组件24与刷体22的外壁之间存在距离差，这样在刷洗过程中不会因为配水组件而损坏所述基板。

本实施例中的驱动轴21为具有连通中空腔体23的中空柱体，其具有与外部端口(图中未显示)连接的开口，洗液从外部端口通过开口注入该中空腔体23内。作为本实用新型的一种可选的实施例，在该中空腔体23内设置有水管(图中未示出)，避免洗液与驱动轴21内的中空腔体23直接接触，有效防止碱性洗液对该驱动轴21的腐蚀，提高了驱动轴21的使用寿命。

作为本实用新型的一个实施例，配水组件24包括中空的配水支管241，配水支管241与驱动轴21的轴向垂直。中空腔体23内的洗液通过该配水支管直接喷射在基板3b上，能够增加洗液对基板的冲击力，提高基板3b的清洗效果。本实施例中，配水组件24还包括设置在配水支管241远离驱动轴21一端端部的喷嘴242，喷嘴242的设置增大了配水组件24的冲洗半径和水压，提高滚刷2b对基板3b的清洁效果。可选的，喷嘴242选自但不限于橡胶喷嘴等弹性组件，以避免配水组件24对待清洗物的损伤。

但是本实用新型的保护范围并不限于此，所有能够实现如本实用新型将洗液引至待清洗物表面，且与刷体集成为一体的目的的配水组件，均属于本实用新型的保护范围。

本实用新型通过将配水组件24、刷体22以及驱动轴21一体设置，不但能够实现配水组件24对基板3b的冲洗，还能实现配水组件24对刷体22的润湿、冲洗，刷体22刷洗出的污染物能够被配水组件24引出的洗液及时冲洗，从而能够增加滚刷2b对基板3b的清洁效果。

实施例2

本施例提供一种清洗装置，如图2所示，包括槽体1b，以及架设在槽壁上的滚刷2b；该滚刷2b为实施例1中的滚刷2b。本实施例中滚刷相关细节请参见实施例1，在此不再赘述。

本实施例中的槽体1b的底部设置有输送装置，用于实现基板3b的输送。作为本实用新型的一种可选实施例，该输送装置为传送带，但是本实用新型的保护范围并不限于此，所有能够实现本实用新型目的的均属于本实用新型的保护范围。此外，由于不同基板3b对其表面清洁度的要求不同，即该基板3b对清洗装置的清洗时间的要求不同，因此，在本实施例中，通过调整传送带的传送速度，达到清洗时间的控制。例如，需要清洗时间长的基板3b，降低传送带的传送速度；需要清洗时间短的基板3b，提高传送带的传送速度。

本实用新型提供的清洗装置，还包括有洗液回流装置(图中未示出)，用于实现洗液的循环再利用，节约了成本。该回流装置包括开设在槽体底部的回流孔、过滤装置以及水泵；在清洗过程中，槽体内部的洗液通过回流孔进入过滤装置过滤，再通过水泵泵入驱动轴21内的中空腔体23。

为保证洗液的温度，本实施例中的清洗装置还包括有温控加热组件30，用于对驱动轴21内洗液的温度进行处理。如图3所示，该温控加热组件30包括传感器31、控制器32以及加热组件33。其中，传感器31用于测量驱动轴21内的中空腔体23内洗液的温度，将该测量温度传送给控制器32。

控制器32包括有数据存储单元321以及数据处理单元322，其中数据存储单元321中存储不同基板3b在清洗时所需要的对应温度基值；数据处理单元322，用于获取传感器31所测量的温度数值，并用该温度数值与数据存储单元321中的温度基值进行比较，生成控制信息。

加热组件33，实时获取控制器32所生成的控制信息，同时对中空腔体23内洗液的温度进行处理。本实施例中的加热组件33选自但不限于电阻丝，所有能够实现本实用新型目的的加热组件，均属于本实用新型的保护范围。

本实施例提供的清洗装置，该清洗装置中设置有温控加热组件30，用于对驱动轴21内洗液的温度进行处理。该清洗装置能够自动测量驱动轴21腔体23内洗液的温度，并实现相应的控制，保证了较好的清洗效果。

作为本实用新型的可变换实施例，实施例1和实施例2中的清洗装置并不仅限于基板的清洁，而适用于任意待清洁物体。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型创造的保护范围之中。