一种晶片清洗装置的制作方法

文档序号:17917807发布日期:2019-06-14 23:54阅读:来源:国知局
技术总结
本实用新型涉及一种晶片清洗装置,包括输送带一,输送带二,安装架一,安装架二,所述的输送带一安装在安装架一上,所述的输送带二安装在安装架二上,所述的安装架一上安装有转轴一,转轴二和转轴三,所述的转轴一、转轴二和转轴三上安装有清洗辊,所述的安装架二上安装有转轴四,转轴五和转轴六,所述的转轴四,转轴五和转轴六安装有清洗辊,所述的安装架一上方设有输送管一,所述的输送管一上设有喷嘴一,所述的安装架二上方设有输送管二,所述的输送管二上设有喷嘴二,所述的安装架一上安装有承接板一,所述的安装架二上安装有承接板二。本实用新型通过晶片清洗装置的设置,实现了石英晶片的双面清洗,提高了清洗效率,提高了产品质量。

技术研发人员:刘文越;葛四合;邓天将
受保护的技术使用者:益阳市华光科技电子有限公司
技术研发日:2018.09.21
技术公布日:2019.06.14

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