一种区熔锗锭的清洗装置的制作方法

本实用新型涉及锗锭抛光片清洗技术领域，具体为一种区熔锗锭的清洗装置。

背景技术：

随着大规模集成电路的发展,集成度的不断提高,线宽的不断减小,对锗锭片的质量要求也越来越高,特别是对锗锭抛光片的表面质量要求越来越严，这主要是因为抛光片表面的颗粒和金属杂质沾污会严重影响器件的质量和成品率,对于线宽为0.35μm的64兆DRAM器件,影响电路的临界颗粒尺寸为0.06μm,抛光片的表面金属杂质沾污应全部小于5× 1016 at/cm2,抛光片表面大于0.2μm的颗粒数应小于20个/片，在目前的集成电路生产中,由于锗锭抛光片表面沾污问题,仍有50%以上的材料被损失掉，在锗锭晶体管和集成电路生产中,几乎每道工序都有锗锭片清洗的问题,锗锭片清洗的好坏对器件性能有严重的影响,处理不当,可能使全部锗锭片报废,做不出管子来,或者制造出来的器件性能低劣,稳定性和可靠性很差，锗锭片清洗法不管是对于从锗锭片加工的人,还是对于从事半导体器件生产的人来说都有着重要的意义。

但是，现有的区熔锗锭的清洗装置存在以下缺点：1、现有的区熔锗锭的清洗是使用硝酸与氢氟酸（20:7）的混合酸通过将酸温加热到70℃左右进行表面清洗，主要是腐蚀掉表面的杂质尘埃，使产品锗锭外观变得较为光亮。但该清洗方式存在大量安全隐患，涉及到危化品使用、储存、高温工作、腐蚀性工作等，且清洗均为人工手动清洗。清洗时人工因素将会导致清洗效果的不同，且清洗效率低，人工劳动强度大，清洗过程中高温酸液腐蚀锗锭时，锗锭表面较滑，不易抓拿，锗锭容易从手上滑脱，溅起高温酸液或将锗锭摔断，造成产品的损失，同时酸侵蚀物料也会对物料造成损失，平均每根锗锭清洗后减少10-20g。2、现有的区熔锗锭的清洗装置无法对清洗后的锗锭进行及时干燥，工作效率低，从而影响器件的生产效率。

技术实现要素：

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种区熔锗锭的清洗装置，解决了现有的技术清洗效率低，锗锭易受到腐蚀并且清洗后无法及时干燥的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种区熔锗锭的清洗装置，包括外箱体和内箱体，所述外箱体的底部设置有底板，所述外箱体的内部安装有内箱体，所述内箱体的内部设置有物料框，所述物料框的上端通过螺栓与内箱体固定连接，所述内箱体的底部安装有多个超声波换能器，所述内箱体的底部和外箱体之间设置有超声波发生器，所述内箱体的后端面上部连接有进水管，所述进水管的上连接有加热器，所述加热器底部的进水管上连接有抽水泵，所述内箱体的底部一侧连接有排水管，所述排水管上安装有电磁阀，所述外箱体的上端设置有箱盖，所述箱盖的一端安装有铰链，所述箱盖的一端通过铰链与外箱体的铰接，所述外箱体的前侧面上安装有控制器，所述箱盖的内侧面上安装有加热盘管，所述加热盘管的底部安装有离心风机。

优选的，所述箱盖的两侧设置有电动推杆，所述电动推杆的上端和下端分别与安装在箱盖上的上铰接座和安装在外箱体上端的下铰接座转动连接。

优选的，所述外箱体的前端面上安装有箱盖开关，所述箱盖开关与两个电动推杆电性连接。

优选的，所述内箱体的一侧安装有温度传感器，所述温度传感器与控制器电性连接。

优选的，所述底板的底面四角位置安装有万向轮，所述万向轮的外部安装有液压支腿。

优选的，所述控制器上安装有液晶显示屏、电源按钮、温度调节旋钮和功率调节旋钮，所述控制器分别与液压支腿、超声波发生器、加热器和抽水泵电性连接。

本实用新型提供了一种区熔锗锭的清洗装置，具备以下有益效果。

（1）本实用新型通过设置超声波换能器和超声波发生器，通过超声波发生器发出20000Hz以上的超声波，超声波在清洗液中疏密相间的向前辐射，使液体流动而产生数以万计的直径为50-500μm 的微小气泡，存在于液体中的微小气泡在声场的作用下振动，以此使附着在锗锭表面的杂质振落，达到清洗的目的，解决了现有的技术清洗效率低，锗锭表面易受腐蚀的问题。

（2）本实用新型通过设置加热盘管和离心风机，使用时，当锗锭清洗结束后，通过排水管将水排出后，离心风机开启将加热盘管加热的热气朝向物料框鼓动，从而实现对物料框内锗锭进行干燥的目的，解决了现有的技术清洗结束后无法及时对锗锭进行干燥，影响器件生产的问题。

附图说明

图1为本实用新型的内部结构示意图。

图2为本实用新型的主视图。

图3为本实用新型的侧视图。

图中：1、外箱体；2、底板；3、万向轮；4、液压支腿；5、内箱体；6、物料框；7、螺栓；8、超声波换能器；9、超声波发生器；10、进水管；11、加热器；12、抽水泵；13、排水管；14、电磁阀；15、温度传感器；16、箱盖；17、铰链；18、电动推杆；19、下铰接座；20、上铰接座；21、控制器；22、液晶显示屏；23、电源按钮；24、温度调节旋钮；25、功率调节旋钮；26、箱盖开关；27、加热盘管；28、离心风机。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1-3所示，本实用新型提供一种技术方案：一种区熔锗锭的清洗装置，包括外箱体1和内箱体5，外箱体1的底部设置有底板2，外箱体1的内部安装有内箱体5，内箱体5的内部设置有物料框6，物料框6的上端通过螺栓7与内箱体5固定连接，内箱体5的底部安装有多个超声波换能器8，内箱体5的底部和外箱体1之间设置有超声波发生器9，内箱体5的后端面上部连接有进水管10，进水管10的上连接有加热器11，加热器11底部的进水管10上连接有抽水泵12，内箱体5的底部一侧连接有排水管13，排水管13上安装有电磁阀14，外箱体1的上端设置有箱盖16，箱盖16的一端安装有铰链17，箱盖16的一端通过铰链17与外箱体1的铰接，外箱体1的前侧面上安装有控制器21，箱盖16的内侧面上安装有加热盘管27，加热盘管27的底部安装有离心风机28，离心风机28型号为B4-68，箱盖16的两侧设置有电动推杆18，电动推杆18的上端和下端分别与安装在箱盖16上的上铰接座20和安装在外箱体1上端的下铰接座19转动连接，外箱体1的前端面上安装有箱盖开关26，箱盖开关26与两个电动推杆18电性连接，内箱体5的一侧安装有温度传感器15，温度传感器15与控制器21电性连接，温度传感器15型号为PT100，温度传感器15可实时监测清洗液的温度，并通过液晶显示屏22显示出来，底板2的底面四角位置安装有万向轮3，万向轮3的外部安装有液压支腿4，控制器21上安装有液晶显示屏22、电源按钮23、温度调节旋钮24和功率调节旋钮25，温度调节旋钮24和功率调节旋钮25可分别用于调节加热器11加热温度和超声波发生器9的输出功率，控制器21分别与液压支腿4、超声波发生器9、加热器11和抽水泵12电性连接，控制器21型号为S7-200。

使用时，通过万向轮3将设备移动至固定的地点，然后开启液压支腿4，将设备支撑起来，每次人工将20根锗锭一次性放入到清洗机内物料框6中，通过加热器11将从进水管10抽入的水体加热并输送至内箱体5内，淹没锗锭即可按动电源按钮23开启设备，进行超声波清洗，使附着在锗锭表面的杂质振落，清洗结束后，开启电磁阀14时清洗液从排水管13排出，然后开启离心风机28通过离心风机28将加热盘管27加热的空气鼓入到内箱体5内，对物料框6内的锗锭进行烘干干燥，片刻后关闭设备，按动箱盖开关26通过两个电动推杆18开启箱盖16，将锗锭取出即可。

综上可得，本实用新型通过设置超声波换能器8、超声波发生器9、加热盘管27和离心风机28，解决了现有的技术清洗效率低，锗锭易受到腐蚀并且清洗后无法及时干燥的问题。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。