一种半导体制冷件用瓷板清洗装置的制作方法

文档序号:20622730发布日期:2020-05-06 22:24阅读:247来源:国知局
一种半导体制冷件用瓷板清洗装置的制作方法

本实用新型涉及半导体制冷件生产设备技术领域,具体地说是涉及半导体制冷件用瓷板清洗装置。



背景技术:

半导体制冷件包括瓷板和瓷板上面的晶粒,为了保证产品质量,所用的瓷板必须清洁的;可是,经过生产、仓储、运输等生产工序,瓷板上面粘接有灰尘或油污,在焊接晶粒前需要将这些灰尘和油污除去,以实现瓷板的清洁,以免影响产品的质量。

现有技术中,还没有对瓷板上油污或灰尘进行除去的装置,所用的工具也是简单地用水盆对瓷板进行清洗,具有使用不便、清洗效果差的缺点。



技术实现要素:

本实用新型的目就是针对上述缺点,提供一种使用方便、清洗效果好的半导体制冷件用瓷板清洗装置。

本实用新型的技术方案是这样实现的,一种半导体制冷件用瓷板清洗装置,其特征是:包括一个架子,在架子左右端安装有电机带动的传递辊,还有传送带安装在传递辊上,所述的传递辊形成循环回路,所述传送带上具有吸附瓷板的吸盘,传送带下面的机架上安装有清洗槽,所述的传送带伸入到清洗槽里面,传送带下面还安装有电机带动的辊刷,所述的辊刷具有辊刷轴,所述的辊刷轴和传送带前进的方向垂直,所述的辊刷上面接触传送带。

进一步地讲,所述的清洗槽里面具有连接电源的电加热管。

进一步地讲,所述的辊刷是多个的,多个辊刷从左至右安装在清洗槽内。

进一步地讲,所述的机架上还安装有第一原料槽和第二原料槽,所述的第一原料槽和第二原料槽分别安装在传送带上面两端的机架上。

进一步地讲,所述的传送带具有清洗槽出来的出端,还有它还包括一个清水水管,清水水管开口朝着出端的传送带。

本实用新型的有益效果是:这样的清洗装置具有对半导体制冷件用瓷板清洗效果好、使用方便的优点。

附图说明

图1是本实用新型侧面结构示意图。

其中:1、架子2、传递辊3、传送带4、吸盘5、清洗槽6、辊刷7、瓷板8、电加热管9、第一原料槽10、第二原料槽11、清水水管。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步的描述。

如图1所示,一种半导体制冷件用瓷板清洗装置,其特征是:包括一个架子1,在架子左右端安装有电机带动的传递辊2,还有传送带3安装在传递辊上,所述的传递辊形成循环回路,所述传送带上具有吸附瓷板的吸盘4,传送带下面的机架上安装有清洗槽5,所述的传送带伸入到清洗槽里面,传送带下面还安装有电机带动的辊刷6,所述的辊刷具有辊刷轴,所述的辊刷轴和传送带前进的方向垂直,所述的辊刷上面接触传送带。

本实用新型使用时,可以将所要清洗的瓷板7放置在吸盘上,所述的吸盘是橡胶制成的,吸盘上面具有凹槽,瓷板放上去后按压瓷板,凹槽里面的空气排出形成真空或负压状态,是瓷板吸附在吸盘上,所述的吸盘在我们的日常生活中广泛应用。传送带运行,带动瓷板到下面并深入到清洗槽里面,辊刷的转动可以对瓷板的表面进行清洗,实际上只清洗瓷板一面即可,清洗的一面是焊接晶粒的一面,达到本实用新型的目的。

进一步地讲,所述的清洗槽里面具有连接电源的电加热管8。

这样可以对清洗槽里面的清洗液进行加热。

进一步地讲,所述的辊刷是多个的,多个辊刷从左至右安装在清洗槽内。

这样多次对瓷板进行刷洗,效果更好。

进一步地讲,所述的机架上还安装有第一原料槽9和第二原料槽10,所述的第一原料槽和第二原料槽分别安装在传送带上面两端的机架上。

这样第一原料槽和第二原料槽可以分别放置没有清洗的瓷板和清洗后的瓷板,使用效果更好。

进一步地讲,所述的传送带具有清洗槽出来的出端,图中箭头f是传送带运行的方向,还有它还包括一个清水水管11,清水水管开口朝着出端的传送带。

这样可以使用清水对从清洗槽里面出来的瓷板进行清水冲洗,瓷板更清洁。

以上所述仅为本发明的具体实施例,但本发明的结构特征并不限于此,任何本领域的技术人员在本发明的领域内,所作的变化或修饰皆涵盖在本发明的专利范围内。



技术特征:

1.一种半导体制冷件用瓷板清洗装置,其特征是:包括一个架子,在架子左右端安装有电机带动的传递辊,还有传送带安装在传递辊上,所述的传递辊形成循环回路,所述传送带上具有吸附瓷板的吸盘,传送带下面的机架上安装有清洗槽,所述的传送带伸入到清洗槽里面,传送带下面还安装有电机带动的辊刷,所述的辊刷具有辊刷轴,所述的辊刷轴和传送带前进的方向垂直,所述的辊刷上面接触传送带。

2.根据权利要求1所述的半导体制冷件用瓷板清洗装置,其特征是:所述的清洗槽里面具有连接电源的电加热管。

3.根据权利要求1或2所述的半导体制冷件用瓷板清洗装置,其特征是:所述的辊刷是多个的,多个辊刷从左至右安装在清洗槽内。

4.根据权利要求1或2所述的半导体制冷件用瓷板清洗装置,其特征是:所述的机架上还安装有第一原料槽和第二原料槽,所述的第一原料槽和第二原料槽分别安装在传送带上面两端的机架上。

5.根据权利要求3所述的半导体制冷件用瓷板清洗装置,其特征是:所述的机架上还安装有第一原料槽和第二原料槽,所述的第一原料槽和第二原料槽分别安装在传送带上面两端的机架上。

6.根据权利要求3所述的半导体制冷件用瓷板清洗装置,其特征是:所述的传送带具有清洗槽出来的出端,还有它还包括一个清水水管,清水水管开口朝着出端的传送带。


技术总结
本实用新型涉及半导体制冷件生产设备技术领域,名称是一种半导体制冷件用瓷板清洗装置,它包括一个架子,在架子左右端安装有电机带动的传递辊,还有传送带安装在传递辊上,所述的传递辊形成循环回路,所述传送带上具有吸附瓷板的吸盘,传送带下面的机架上安装有清洗槽,所述的传送带伸入到清洗槽里面,传送带下面还安装有电机带动的辊刷,所述的辊刷具有辊刷轴,所述的辊刷轴和传送带前进的方向垂直,所述的辊刷上面接触传送带。这样的清洗装置具有对半导体制冷件用瓷板清洗效果好、使用方便的优点。

技术研发人员:付国军;陈磊;陈建民;王丹;赵丽萍;张文涛;钱俊有
受保护的技术使用者:许昌市森洋电子材料有限公司
技术研发日:2019.08.12
技术公布日:2020.05.05
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