自清洗UV消毒设备的制作方法

本发明涉及自清洗uv消毒设备。

背景技术：

在对水消毒时，现有消毒设备存在消毒不彻底或消毒功耗大的问题，因为水垢会逐渐积累在消毒设备表面，导致虽然uv灯开启量很大，却因为受到水垢影响而无法起到有效消毒，消毒效率低下；而且现有uv消毒设备结构设计不合理、清理繁琐费事，严重影响设备的消毒效率。

技术实现要素：

本发明的目的是提供一种消毒效率高的自清洗uv消毒设备。

为实现上述目的，本发明的自清洗uv消毒设备采用如下技术方案：自清洗uv消毒设备包括：

管道式反应器，内部设有圆柱形的反应腔，反应腔的长度方向两端分别设有进水口和出水口；反应腔的侧壁上安装有清洗振板，清洗振板的外侧面上安装有超声波发生器以在反应腔内产生微小气泡对固体表面冲刷清洗；

uv消毒灯组，可拆卸式安装在所述反应腔内，包括保持架以及周向间隔设置在保持架上的uv灯管；

紫外线传感器，用于检测反应腔内的紫外线强度，紫外线传感器的检测端位于所述反应腔内；

液位检测传感器，用于检测反应腔内水的液位；

控制器，分别与紫外线传感器、液位检测传感器控制连接以检测反应腔内的紫外线强度和水量，分别控制各个uv灯管的启闭，以根据水量和实时紫外线强度调整启动的uv灯管的数量。

本方案的有益效果：(1)采用管道式反应器，并将uv消毒灯组安装在管道内，在管道式反应器的反应腔侧壁上安装清洗振板，通过超声波发生器带动清洗振板震动，实现非接触式全腔体自动清洗，能量发生器带动清洗振板震动，在腔体内不断形成微小气泡，小气泡遇到固体破裂，破裂形成的能量在固体表面冲刷，持续保持与水接触的表面洁净；

(2)控制器以及紫外线传感器、液位检测传感器、uv消毒灯组的设置，可实时监测反应腔内的水量和紫外线强度，从而实现根据不同水量调节对应的紫外线光强的目的，达到在确保充分实现消毒效果的前提下充分利用紫外线能量，提高能源利用率。

进一步地，管道式反应器的一端具有锥头，锥头端部设有进口法兰，进口法兰的开口构成所述进水口，管道式反应器的另一端的开口处设有外翻法兰以用于与所述保持架的端部连接，所述出水口沿径向垂直设置在管道式反应器的侧壁上。此结构确保uv消毒灯组可以像抽屉一样整体从一侧抽拉，相对于常规方式的一根一根的安装方式，方便快捷。

进一步地，保持架包括分别设在两端的圆板和圆环，圆环设置在朝向进水口一端，圆板设置在朝向管道式反应器的开口一端，圆板与所述外翻法兰连接。

进一步地，uv灯管外套设有石英套管，石英套管的一端开口、另一端封闭，石英套管的开口一端具有可拆密封结构。石英套管是石英玻璃材质，一端封闭，一端开口，内部空心，开口处可放入紫外线灯管，保证紫外线灯管与水隔绝，防止其短路烧毁。紫外线光源可以透过石英材质的套管，不能透过普通玻璃的套管。

进一步地，管道式反应器内设有用于为所述圆环定位的环形挡板。

进一步地，自清洗uv消毒设备还包括控制柜，所述控制器安装在控制柜内，控制柜的下部设有支腿，所述管道式反应器安装在控制柜的下部。

进一步地，支腿的下部设有减震垫。

附图说明

图1是本发明的自清洗uv消毒设备的主视图(下部剖视)；

图2是图1中b处的局部放大图；

图3是图1中c处的局部放大图；

图4是图1中的a向视图；

图5为管道式反应器的纵剖视图；

图6为uv消毒灯组的纵剖视图；

图7为图6中d-d处剖视图；

图中：1-控制柜，11-支腿，2-管道式反应器，21-反应腔，22-进水口，23-出水口，24-清洗振板，25-超声波发生器，26-进口法兰，27-外翻法兰，28-环形挡板，29-外防护罩，3-uv消毒灯组，311-圆板，312-圆环，313-加强杆，32-uv灯管，33-石英套管，34-紫外线传感器，4-密封圈。

具体实施方式

本发明的自清洗uv消毒设备的具体实施例，如图1-图7所示，包括管道式反应器2，内部设有圆柱形的反应腔21，反应腔21的长度方向两端分别设有进水口22和出水口23；反应腔21的侧壁上安装有清洗振板24，清洗振板24的外侧面上安装有超声波发生器25以在反应腔21内产生微小气泡对固体表面冲刷清洗；

uv消毒灯组3，可拆卸式安装在所述反应腔21内，包括保持架以及周向间隔设置在保持架上的uv灯管32；

紫外线传感器34，用于检测反应腔21内的紫外线强度，紫外线传感器34的检测端位于所述反应腔21内；

液位检测传感器，用于检测反应腔21内水的液位，图中未显示位置，其应用方式在现有技术很常见，无需过多介绍；

控制器，包括plc等，分别与紫外线传感器34、液位检测传感器控制连接以检测反应腔21内的紫外线强度和水量，分别控制各个uv灯管32的启闭，以根据水量和实时紫外线强度调整启动的uv灯管32的数量。

具体第，管道式反应器2的一端具有锥头，锥头端部设有进口法兰26，进口法兰26的开口构成所述进水口22，管道式反应器2的另一端的开口处设有外翻法兰27以用于与所述保持架的端部连接，所述出水口23沿径向垂直设置在管道式反应器2的侧壁上。此结构确保uv消毒灯组3可以像抽屉一样整体从一侧抽拉，相对于常规方式的一根一根的安装方式，方便快捷。保持架包括分别设在两端的圆板311和圆环312，圆环312设置在朝向进水口22一端，圆板311设置在朝向管道式反应器2的开口一端，圆板311与所述外翻法兰27连接。uv灯管32外套设有石英套管33，石英套管33的一端开口、另一端封闭，石英套管33的开口一端具有可拆密封结构。石英套管33是石英玻璃材质，一端封闭，一端开口，内部空心，开口处可放入紫外线灯管，保证紫外线灯管与水隔绝，防止其短路烧毁。紫外线光源可以透过石英材质的套管，不能透过普通玻璃的套管。管道式反应器2内设有用于为所述圆环312定位的环形挡板28。自清洗uv消毒设备还包括控制柜1，所述控制器安装在控制柜1内，控制柜1的下部设有支腿11，所述管道式反应器2安装在控制柜1的下部。支腿11的下部设有减震垫。

本方案的特点：(1)采用管道式反应器，并将uv消毒灯组安装在管道内，在管道式反应器的反应腔侧壁上安装清洗振板，通过超声波发生器带动清洗振板震动，实现非接触式全腔体自动清洗，能量发生器带动清洗振板震动，在腔体内不断形成微小气泡，小气泡遇到固体破裂，破裂形成的能量在固体表面冲刷，持续保持与水接触的表面洁净；

(2)控制器以及紫外线传感器、液位检测传感器、uv消毒灯组的设置，可实时监测反应腔内的水量和紫外线强度，从而实现根据不同水量调节对应的紫外线光强的目的，达到在确保充分实现消毒效果的前提下充分利用紫外线能量，提高能源利用率。

技术特征：

1.自清洗uv消毒设备,其特征在于，包括：

管道式反应器，内部设有圆柱形的反应腔，反应腔的长度方向两端分别设有进水口和出水口；反应腔的侧壁上安装有清洗振板，清洗振板的外侧面上安装有超声波发生器以在反应腔内产生微小气泡对固体表面冲刷清洗；

uv消毒灯组，可拆卸式安装在所述反应腔内，包括保持架以及周向间隔设置在保持架上的uv灯管；

紫外线传感器，用于检测反应腔内的紫外线强度，紫外线传感器的检测端位于所述反应腔内；

液位检测传感器，用于检测反应腔内水的液位；

控制器，分别与紫外线传感器、液位检测传感器控制连接以检测反应腔内的紫外线强度和水量，分别控制各个uv灯管的启闭，以根据水量和实时紫外线强度调整启动的uv灯管的数量。

2.根据权利要求1所述的自清洗uv消毒设备，其特征在于：管道式反应器的一端具有锥头，锥头端部设有进口法兰，进口法兰的开口构成所述进水口，管道式反应器的另一端的开口处设有外翻法兰以用于与所述保持架的端部连接，所述出水口沿径向垂直设置在管道式反应器的侧壁上。

3.根据权利要求2所述的自清洗uv消毒设备，其特征在于：保持架包括分别设在两端的圆板和圆环，圆环设置在朝向进水口一端，圆板设置在朝向管道式反应器的开口一端，圆板与所述外翻法兰连接。

4.根据权利要求1-3任一项所述的自清洗uv消毒设备，其特征在于：uv灯管外套设有石英套管，石英套管的一端开口、另一端封闭，石英套管的开口一端具有可拆密封结构。

5.根据权利要求3所述的自清洗uv消毒设备，其特征在于：管道式反应器内设有用于为所述圆环定位的环形挡板。

6.根据权利要求1-3任一项所述的自清洗uv消毒设备，其特征在于：自清洗uv消毒设备还包括控制柜，所述控制器安装在控制柜内，控制柜的下部设有支腿，所述管道式反应器安装在控制柜的下部。

7.根据权利要求6所述的自清洗uv消毒设备，其特征在于：支腿的下部设有减震垫。

技术总结
本发明涉及自清洗UV消毒设备。包括管道式反应器，内部设反应腔，反应腔的长度方向两端分别设进水、出水口；反应腔的侧壁上安装有清洗振板，清洗振板的外侧面上安装有超声波发生器以在反应腔内产生微小气泡对固体表面冲刷清洗；UV消毒灯组可拆卸式安装在所述反应腔内，包括保持架以及周向间隔设置在保持架上的UV灯管；紫外线传感器用于检测反应腔内的紫外线强度，液位检测传感器用于检测反应腔内液位；控制器分别与紫外线传感器、液位检测传感器控制连接以检测反应腔内的紫外线强度和水量，分别控制各个UV灯管的启闭，以据水量和紫外线强度调整启动的UV灯管的数量。具有自清洗、自调节，消毒效率高、消毒效果好、清理维护方便的特点。

技术研发人员：王来文;邹俊慧;张仁清
受保护的技术使用者：无锡诚源环境科技有限公司
技术研发日：2020.06.11
技术公布日：2020.09.29