一种工业产业园废水处理的成套装置的制作方法

1.本实用新型涉及工业废水处理领域，特别是工业产业园废水中去除溶解性硅离子的成套装置。


背景技术：

2.光伏行业是目前国内节能降耗的主要手段，充分利用太阳光，实现光电能量的转换。随着行业的发展产生废水量也逐年增加，按发展趋势废水量预计将占工业废水量2%。现有技术中，对于如此大量的废水都是直接排放下水道，造成水资源的大量浪费，而且废水中含有高浓度的硅离子不符合排放水质要求。
3.根据膜系统对硅离子浓度要求，确定进出水水质要求如下。
4.项目sio2进水（mg/l）≤200出水（mg/l）≤60


技术实现要素：

5.针对上述现有技术中的问题，本实用新型的目的是提一种工业产业园废水处理的成套装置。它能对工业产业园的光伏废水进行预处理，有效去除废水中70%以上的硅离子，保证膜系统的安全运行。
6.为了达到上述发明目的，本实用新型的技术方案以如下方式实现：
7.一种工业产业园废水处理的成套装置，其结构特点是，它包括依次连接的混合搅拌槽、絮凝搅拌槽和沉淀反应槽。所述混合搅拌槽包括两个快速混合区，每个快速混合区中置有一台快速混合搅拌器。所述絮凝搅拌槽包括四个絮凝反应区，每个絮凝反应区中置有一台絮凝搅拌器。沉淀反应槽中上层为斜管澄清区、下层为预沉浓缩区。
8.在上述工业产业园废水处理的成套装置中，所述快速混合搅拌器采用轴流式弧形叶轮，所述絮凝搅拌器采用框式结构。
9.本实用新型由于采用了上述结构，能有效去除光伏废水中70%以上的硅离子，使处理后水质达到排放标准，保证膜系统的安全运行。
10.下面结合附图和具体实施方式对本实用新型做进一步说明。
附图说明
11.图1是本实用新型成套装置的结构示意图；
12.图2是本实用新型中沉淀反应槽的结构示意图；
13.图3是本实用新型中快速混合搅拌器的结构示意图；
14.图4是本实用新型中絮凝搅拌器的结构示意图。
具体实施方式
15.参看图1至图4，本实用新型工业产业园废水处理的成套装置，它包括依次连接的混合搅拌槽、絮凝搅拌槽和沉淀反应槽。混合搅拌槽包括两个快速混合区1，每个快速混合区1中置有一台快速混合搅拌器5。絮凝搅拌槽包括4个絮凝反应区2，每个絮凝反应区2中置有一台絮凝搅拌器6。沉淀反应槽中上层为斜管澄清区3、下层为预沉浓缩区4。快速混合搅拌器5采用轴流式弧形叶轮，絮凝搅拌器6采用框式结构，水利条件好。
16.本实用新型中，快速混合搅拌器5立式安装在快速混合区1中，絮凝搅拌器6安装在絮凝反应区2的中心处。搅拌器的配置及设计非常重要，我们通过一系列反应实际模拟出最佳的水利模型，使运行混合絮凝效果达到最佳，使除硅的效率达到70%以上。
17.本实用新型工作时：
18.污水首先流入快速混合区1，在此利用石灰调节ph同时作为混凝剂，再投加三氯化铁与混凝剂接触后进行混凝。两台快速混合搅拌器5连续运行，以帮助混凝剂反应并避免矾花沉淀。
19.经过加药的混合液通过沟道进入絮凝反应区2，往里加入高分子助凝剂，并将后续预沉浓缩区4部分污泥回流至絮凝反应区2入口，加速矾花的增长及增加矾花的密度，提高沉淀效果。
20.絮凝反应区2内设置四台絮凝搅拌器6，采用变频控制，通过控制其转速，保证矾花絮凝良好。絮凝反应区2出水各自进入后续预沉浓缩区4，大部分矾花就在这里沉淀和浓缩。每座预沉浓缩区4里设置刮泥机一台，通过连续刮扫促进了沉淀污泥的浓缩，部分污泥通过污泥循环泵回流到絮凝反应区2中，剩余污泥通过污泥排放泵排出系统外。斜管澄清区3在预沉浓缩区4上方，用于去除残留的矾花和产生最终合格的水。


技术特征：
1.一种工业产业园废水处理的成套装置，其特征在于，它包括依次连接的混合搅拌槽、絮凝搅拌槽和沉淀反应槽；所述混合搅拌槽包括两个快速混合区（1），每个快速混合区（1）中置有一台快速混合搅拌器（5），絮凝搅拌槽包括四个絮凝反应区（2），每个絮凝反应区（2）中置有一台絮凝搅拌器（6），沉淀反应槽中上层为斜管澄清区（3）、下层为预沉浓缩区（4）。2.根据权利要求1所述工业产业园废水处理的成套装置，其特征在于，所述快速混合搅拌器（5）采用轴流式弧形叶轮，所述絮凝搅拌器（6）采用框式结构。

技术总结
一种工业产业园废水处理的成套装置，涉及工业废水处理领域。本实用新型的结构特点是，它包括依次连接的混合搅拌槽、絮凝搅拌槽和沉淀反应槽。所述混合搅拌槽包括两个快速混合区，每个快速混合区中置有一台快速混合搅拌器。所述絮凝搅拌槽包括四个絮凝反应区，每个絮凝反应区中置有一台絮凝搅拌器。沉淀反应槽中上层为斜管澄清区、下层为预沉浓缩区。同现有技术相比，本实用新型能对工业产业园的光伏废水进行预处理，有效去除废水中70%以上的硅离子，保证膜系统的安全运行。保证膜系统的安全运行。保证膜系统的安全运行。


技术研发人员：许轶萌 陈尚武 徐继峥 辛盛洋 汪浩洁
受保护的技术使用者：同方环境股份有限公司
技术研发日：2020.12.30
技术公布日：2021/9/17