一种具有自动切换清洗工具功能的晶圆片清洗机构的制作方法

1.本实用新型属于晶圆片清洗的技术领域，尤其涉及一种具有自动切换清洗工具功能的晶圆片清洗机构。


背景技术：

2.晶圆片的表面清洁度能够影响半导体元件的质量，因此晶圆片的清洗工艺是半导体元件生产中的重要工序，目前在晶圆片的清洗工艺中需要用到多个不同的清洗工具来对晶圆片进行不同方式的清洗，并且这些清洗工具都需要单独的机械臂来控制送至晶圆片上方对晶圆片进行清洗，如附图1所示，其包括三个清洗臂20，每个清洗臂20上都安装有相应的清洗装置30，工作时，清洗臂20分别控制对应的清洗装置30对晶圆片10进行清洗。
3.但是在长时间的生产加工中发现，腔体越小，则晶圆片上带有颗粒的可能性越低，但是腔体变小后，由于机械臂的数量可能会有三个甚至更多，这样就对腔体的安装空间有更高的要求；同时多个机械臂的移动也会影响腔体内部的气流，导致颗粒被带到晶圆片上的可能性增加，从而影响了晶圆片的整体清洗效率和速率。


技术实现要素：

4.本实用新型目的是为了克服现有技术的不足而提供一种结构简单，能够自动切换不同的清洗工具来满足晶圆片不同的清洗要求，确保了晶圆片清洗效率和速率的具有自动切换清洗工具功能的晶圆片清洗机构。
5.为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种具有自动切换清洗工具功能的晶圆片清洗机构，包括腔体，在所述腔体内设有可转动的承载台；所述承载台的上设有用于夹持晶圆片的夹爪，包括：
6.升降机械臂，所述升降机械臂设于所述腔体内；
7.横移机械臂，所述横移机械臂设于所述升降机械臂上；
8.电磁铁，所述电磁铁设于所述横移机械臂的前端；
9.清洗工具，至少两个所述清洗工具分别设于所述腔体内对应的承载板上，且，所述清洗工具上具有用于电磁铁吸附的磁吸区域；
10.其中，所述电磁铁在所述升降机械臂和所述横移机械臂的配合下吸附任意清洗工具中的磁吸区域后，将清洗工具送至晶圆片上方对晶圆片进行清洗。
11.进一步的，所述电磁铁的通断电经由控制器控制；所述承载板上还设有用于感应电磁铁的感应传感器，且，所述感应传感器与所述控制器相连。
12.进一步的，所述承载台的外侧还设有可上下升降的防护罩。
13.进一步的，所述清洗工具的数量为三个，且三个所述清洗工具分别为刷子、喷淋头以及二流体喷淋头。
14.进一步的，所述承载板上设有用于限位清洗工具的限位槽。
15.由于上述技术方案的运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：
16.本实用新型方案的具有自动切换清洗工具功能的晶圆片清洗机构，将电磁铁安装在横移机械臂上，而横移机械臂与升降机械臂相连，然后利用电磁铁的通断电可以按照规定的清洗顺序，自动切换到所需的清洗工具，再利用相应的清洗工具对晶圆片进行按需清洗，对整体的结构进行简化的同时还能满足相应的功能，提升了装置的运转率，提高了对晶圆片的清洗效率和良品率，具有较强的实用性和推广性。
附图说明
17.下面结合附图对本实用新型技术方案作进一步说明：
18.附图1为现有技术的结构示意图；
19.附图2为本实用新型的使用状态时的结构示意图；
20.附图3为本实用新型的另一使用状态时的结构示意图；
21.其中：腔体1、承载台2、夹爪3、升降机械臂4、横移机械臂5、电磁铁6、清洗工具7、磁吸区域8、防护罩9、晶圆片10、承载板11、感应传感器12、清洗臂20、清洗装置30。
具体实施方式
22.下面结合附图及具体实施例对本实用新型作进一步的详细说明。
23.请参阅附图2
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3，本实用新型一实施例所述的一种具有自动切换清洗工具功能的晶圆片清洗机构，包括腔体1、承载台2、夹爪3、升降机械臂4、横移机械臂5、电磁铁6和清洗工具7；所述腔体1内设有可转动的承载台2；所述承载台2上设有夹爪3，晶圆片10被夹爪3夹持设置在承载台上，并且所述晶圆片10与承载台2同步转动；另外，所述承载台2的外侧还设有可上下升降的防护罩9，可以防止清洗时的清洗液飞溅出来。
24.所述腔体1内还设有竖向设置的升降机械臂4，所述升降机械臂4可以在晶圆片10的上方进行上下移动，所述横移机械臂5横向设置在升降机械臂4上；工作时，升降机械臂4同步带动横移机械臂5在晶圆的上方上下移动；另外，所述横移机械臂5可以在晶圆片的上方进行横向移动，所述电磁铁6设于所述横移机械臂5的前端，电磁铁6通电时具有吸力；其中，所述电磁铁6的通断电经由控制器（图中未示出）控制，所述承载板11上还设有用于感应电磁铁6的感应传感器12，当电磁铁6移动到感应传感器12感应的区域时，感应传感器12将相关信号发送至控制器，控制器控制电磁铁通电/断电。
25.本实施例中具有依次上下分别设置在三个承载板11上的三个清洗工具7，三个清洗工具7分别为刷子、喷淋头和二流体喷淋头，并且每个清洗工具7上具有用于电磁铁6吸附的磁吸区域8，当电磁铁6通电后吸附住磁吸区域8，从而将对应的清洗工具固定住；另外，刷子、喷淋头和二流体喷淋头分别经由对应承载板11的限位槽进行限位。
26.当然，本实用新型中的清洗工具不限于三个，也可以是四个或五个，从而满足不同的清洗需求。
27.下面对具体的工作流程进行描述：
28.当需要用到刷子时，横移机械臂和升降机械臂相互配合将电磁铁移至刷子对应的磁吸区域8处，感应传感器感应到电磁铁的位置后将信号发送给控制器，控制器控制电磁铁得电，电磁铁将刷子的磁吸区域8吸附，刷子被固定在横移机械臂上，然后横移机械臂和升降机械臂驱动刷子对晶圆片进行刷洗。
29.接着需要用到喷淋头时，首先横移机械臂和升降机械臂相互配合将与电磁铁6吸附的刷子放回对应承载板的限位槽内；此时感应传感器再次感应到电磁铁的位置后将信号发送给控制器，控制器控制电磁铁断电，从而将刷子与电磁铁6分离。
30.然后横移机械臂和升降机械臂相互配合将电磁铁移动至喷淋头对应的磁吸区域8处，感应传感器感应到喷淋头的位置后将信号发送给控制器，控制器控制电磁铁得电，电磁铁将喷淋头的磁吸区域8吸附，喷淋头被固定在横移机械臂上，然后横移机械臂和升降机械臂驱动喷淋头对晶圆片进行清洗。
31.最后，当需要用到二流体喷淋头时，其操作过程与喷淋头的操作过程一样。
32.本实用新型的具有自动切换清洗工具功能的晶圆片清洗机构，将电磁铁安装在横移机械臂上，而横移机械臂与升降机械臂相连，然后利用电磁铁的通断电可以按照规定的清洗顺序，自动切换到所需的清洗工具，再利用相应的清洗工具对晶圆片进行按需清洗，对整体的结构进行简化的同时还能满足相应的功能，提升了装置的运转率，提高了对晶圆片的清洗效率和良品率，具有较强的实用性和推广性。
33.以上仅是本实用新型的具体应用范例，对本实用新型的保护范围不构成任何限制。凡采用等同变换或者等效替换而形成的技术方案，均落在本实用新型权利保护范围之内。


技术特征：
1.一种具有自动切换清洗工具功能的晶圆片清洗机构，包括腔体，在所述腔体内设有可转动的承载台；所述承载台的上设有用于夹持晶圆片的夹爪，其特征在于，包括：升降机械臂，所述升降机械臂设于所述腔体内；横移机械臂，所述横移机械臂设于所述升降机械臂上；电磁铁，所述电磁铁设于所述横移机械臂的前端；清洗工具，至少两个所述清洗工具分别设于所述腔体内对应的承载板上，且，所述清洗工具上具有用于电磁铁吸附的磁吸区域；其中，所述电磁铁在所述升降机械臂和所述横移机械臂的配合下吸附任意清洗工具中的磁吸区域后，将清洗工具送至晶圆片上方对晶圆片进行清洗。2.根据权利要求1所述的具有自动切换清洗工具功能的晶圆片清洗机构,其特征在于：所述电磁铁的通断电经由控制器控制；所述承载板上还设有用于感应电磁铁的感应传感器，且，所述感应传感器与所述控制器相连。3.根据权利要求1所述的具有自动切换清洗工具功能的晶圆片清洗机构，其特征在于：所述承载台的外侧还设有可上下升降的防护罩。4.根据权利要求1所述的具有自动切换清洗工具功能的晶圆片清洗机构，其特征在于：所述清洗工具的数量为三个，且三个所述清洗工具分别为刷子、喷淋头以及二流体喷淋头。5.根据权利要求1所述的具有自动切换清洗工具功能的晶圆片清洗机构,其特征在于：所述承载板上设有用于限位清洗工具的限位槽。

技术总结
本实用新型涉及一种具有自动切换清洗工具功能的晶圆片清洗机构，包括腔体，腔体内设有可转动的承载台；承载台上设有夹爪，升降机械臂设于腔体内；横移机械臂设于所述升降机械臂上；电磁铁设于横移机械臂的前端；至少两个清洗工具分别设于腔体内对应的承载板上，清洗工具上具有磁吸区域；电磁铁在升降机械臂和横移机械臂的配合下吸附任意清洗工具中的磁吸区域后，将清洗工具送至晶圆片上方对晶圆片进行清洗，本实用新型利用电磁铁的通断电可以按照规定的清洗顺序自动切换到所需的清洗工具，再利用清洗工具对晶圆片进行按需清洗，对整体的结构进行简化的同时还能满足相应的功能，提升了装置的运转率，提高了晶圆片的清洗效率和良品率。良品率。良品率。


技术研发人员：余涛 朴灵绪 郭巍
受保护的技术使用者：若名芯半导体科技（苏州）有限公司
技术研发日：2021.01.29
技术公布日：2022/1/4