去离子装置应用系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种去离子装置应用系统。
【背景技术】
[0002]目前，去离子水就是将水通过阳离子交换树脂(常用的为苯乙烯型强酸性阳离子交换树脂)，则水中的阳离子被树脂所吸收，树脂上的阳离子H+被置换到水中，并和水中的阳离子组成相应的无机酸；含此种无机酸的水再通过阴离子交换树脂(常用的为苯乙烯型强碱性阴离子)0H-被置换到水中，并和水中的H+结合成水，此即去离子水。去离子水在现代工业中有着非常广泛的用途，使用去离子水，是我国很多行业提高产品质量的，赶超世界先进水平的重要手段之一。由于去离子水中的离子数可以被人为的控制，从而，使它的电阻率、溶解度、腐蚀性、病毒细菌等物理、化学及病理等指标均得到良好的控制。在工业生产及实验室的实验中，如果涉及到使用水的工艺都被使用了去离子水，那么，许多参数会更接近设计或理想数据，产品质量将变得易于控制。
[0003]由于去离子水中容易受各种包装物及空气溶解而影响其水中的离子含量，且市面上包装后的去离子水保质期基本为一个月。这对偏远地区或时间紧急的状况(如沙漠、戈壁滩、军事演习等)是十分不利的，且频繁更换也造成水的浪费和时间的消耗。
【发明内容】
[0004]本发明的目的是提供一种去离子装置应用系统，可以在不需占用额外时间的情况下，对系统内的离子水进行去离子。
[0005]本发明的技术方案如下:
一种去离子装置应用系统，包括有循环泵、去离子交换柱和水箱，其特征在于:所述循环泵的输出端与所述去离子交换柱的输入端相连接，去离子交换柱的输出端与所述水箱的输入端相连接，所述水箱的输出端与所述循环泵的输入端相连接，水箱内设有电导率传感器，所述的电导率传感器和循环泵分别与控制器电连接。
[0006]所述的去离子装置应用系统，其特征在于:所述的电导率传感器为宽温电导率传感器。
[0007]本发明的有益效果:
本发明通过电导率传感器检测溶液电导率值，在电导率高于要求值时开启循环泵，溶液在去离子交换柱内进行离子交换，降低了电导率值，从而将溶液电导率控制在要求值以内。
【附图说明】
[0008]图1为本发明结构示意图。
【具体实施方式】
[0009]参见图1，一种去呙子装置应用系统，包括有循环泵1、去呙子交换柱2和水箱3，循环泵I的输出端与去离子交换柱2的输入端相连接，去离子交换柱2的输出端与水箱3的输入端相连接，水箱3的输出端与循环泵I的输入端相连接，水箱3内设有电导率传感器4，电导率传感器4和循环泵I分别与控制器电连接。
[0010]本发明中，电导率传感器4为与设备工作温度一致的宽温电导率传感器。
[0011]设备在工作时，首先设定一个电导率值，该电导率值一般接近于设备所需的标准电导率值，水箱3内的电导率传感器4将电导率值实时反馈至控制器，当水箱3内的实时电导率值大于设定值时，通过控制器控制循环泵I的通断来控制系统内去离子水的电导率。
[0012]具体工作过程如下:
如图1所示，电导率传感器4实时监测水箱3内电导率值，当水箱3内的实时电导率值大于设定值时，开启循环泵1，水箱3内的去离子水经循环泵I进入去离子交换柱2，被污染的去离子水在去离子交换柱2内进行置换反应(可以根据实际需要选择不同的抛光树脂，如阳离子抛光树脂，阴离子抛光树脂，混合抛光树脂)，再流回水箱3，即完成一个循环过程。当水箱3内的实时电导率值在设备所需的标准电导率值范围内，可以停止循环泵I。
[0013]以上所述的实施例仅仅是对本发明的优选实施方式进行描述，并非对本发明的范围进行限定，在不脱离本发明设计精神的前提下，本领域普通技术人员对本发明的技术方案作出的各种变形和改进，均应落入本发明权利要求书确定的保护范围内。
【主权项】
1.一种去离子装置应用系统，包括有循环泵、去离子交换柱和水箱，其特征在于:所述循环泵的输出端与所述去离子交换柱的输入端相连接，去离子交换柱的输出端与所述水箱的输入端相连接，所述水箱的输出端与所述循环泵的输入端相连接，水箱内设有电导率传感器，所述的电导率传感器和循环泵分别与控制器电连接。2.根据权利要求1所述的去离子装置应用系统，其特征在于:所述的电导率传感器为宽温电导率传感器。
【专利摘要】本发明公开了一种去离子装置应用系统，包括有循环泵、去离子交换柱和水箱，循环泵的输出端与去离子交换柱的输入端相连接，去离子交换柱的输出端与水箱的输入端相连接，水箱的输出端与循环泵的输入端相连接，水箱内设有电导率传感器，电导率传感器和循环泵分别与控制器电连接。本发明通过电导率传感器检测溶液电导率值，在电导率高于要求值时开启循环泵，溶液在去离子交换柱内进行离子交换，降低了电导率值，从而将溶液电导率控制在要求值以内。
【IPC分类】C02F1/42
【公开号】CN104891604
【申请号】CN201510256761
【发明人】曹臣, 王震, 汪长江, 赵贝
【申请人】合肥天鹅制冷科技有限公司
【公开日】2015年9月9日
【申请日】2015年5月19日