一种盖板玻璃清洗工艺的制作方法

文档序号:9361079阅读:1160来源:国知局
一种盖板玻璃清洗工艺的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种盖板玻璃清洗工艺。
【背景技术】
[0002]盖板玻璃素片(例如手机盖板玻璃、平板电脑玻璃、平板电视盖板玻璃、工业商业触摸屏盖板玻璃等)成型后用超声波清洗脏污杂质,然后进行印刷油墨,依据客户要求一般要进行5-9次不等色序反复印刷,每印刷一次油墨都要经过烤箱烘干后再进行下一色序印刷,油墨经过5-9次不等的烘烤后油墨散发出的油脂落在玻璃表面,使玻璃表面水滴角有20°上升到90°,导致下一制程因为水滴角过高(客户要求<60° ),引起气泡无法贴合生产,目前使用plasma(等离子机)800°高温处理玻璃表面以此来降低水滴角,因等离子机是生产的瓶颈,而且日夜班还各需要3人才能完成此工序生产,所以plasma需要进行技术改进。Plasma降低水滴角后使用成品超声波清洗机清洗(成品超声波使用的是18兆欧姆纯水和阴离子表面活性剂药液清洗),再进行检验,检验的良品进行AF防指纹镀膜,镀膜后用洗片机清洗过水流检测,良品进行包装出货,此加工过程复杂,生产效率低,产品不良率高。

【发明内容】

[0003]为解决上述技术问题,本发明提供一种盖板玻璃清洗工艺。
[0004]本发明的盖板玻璃清洗工艺,包括以下步骤:
1)盖板清洗后进行印刷油墨及烘烤,不使用等离子机,直接把印刷烘烤后的盖板玻璃采用超声波清洗机清洗,将超声波清洗机里面的阴离子表面活性剂药液改为非离子表面活性剂药液,温度设置为60°c,清洗时间为4分钟,因为非离子表面活性剂具有亲水性,能把盖板玻璃表面的油脂去除,也能清洗掉超声波清洗机里面的油污;
2)把非离子表面活性剂HLB值调试12-15之间,在水温60°C下可以润湿盖板玻璃表面,去除油脂,盖板玻璃的水滴角能够降到30°以内。
[0005]与现有技术相比本发明的有益效果为:本发明的盖板玻璃清洗工艺步骤简单,通过化学反应方式取代传统使用等离子机降低水滴角的工艺,能够减少盖板玻璃在周转过程中所发生刮伤不良现象,不仅提升良率而且也可以提升产能,生产成本大大降低。
【具体实施方式】
[0006]下面结合实施例,对本发明的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。
[0007]一种盖板玻璃清洗工艺,包括以下步骤:
I)盖板清洗后进行印刷油墨及烘烤,不使用等离子机,直接把印刷烘烤后的盖板玻璃采用超声波清洗机清洗,将超声波清洗机里面的阴离子表面活性剂药液改为非离子表面活性剂药液,温度设置为60°c,清洗时间为4分钟,因为非离子表面活性剂具有亲水性,能把盖板玻璃表面的油脂去除,也能清洗掉超声波清洗机里面的油污; 2)把非离子表面活性剂HLB值调试12-15之间,在水温60°C下可以润湿盖板玻璃表面,去除油脂,盖板玻璃的水滴角能够降到30°以内。
[0008]本发明的盖板玻璃清洗工艺步骤简单,通过化学反应方式取代传统使用等离子机降低水滴角的工艺,能够减少盖板玻璃在周转过程中所发生刮伤不良现象,不仅提升良率而且也可以提升产能,生产成本大大降低。
[0009]以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和变型,这些改进和变型也应视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种盖板玻璃清洗工艺,其特征在于,包括以下步骤: 1)盖板清洗后进行印刷油墨及烘烤,不使用等离子机,直接把印刷烘烤后的盖板玻璃采用超声波清洗机清洗,将超声波清洗机里面的阴离子表面活性剂药液改为非离子表面活性剂药液,温度设置为60°c,清洗时间为4分钟,因为非离子表面活性剂具有亲水性,能把盖板玻璃表面的油脂去除,也能清洗掉超声波清洗机里面的油污; 2)把非离子表面活性剂HLB值调试12-15之间,在水温60°C下可以润湿盖板玻璃表面,去除油脂,盖板玻璃的水滴角能够降到30°以内。
【专利摘要】本发明涉及一种盖板玻璃清洗工艺,包括以下步骤:1)盖板清洗后进行印刷油墨及烘烤,不使用等离子机,直接把印刷烘烤后的盖板玻璃采用超声波清洗机清洗,将超声波清洗机里面的阴离子表面活性剂药液改为非离子表面活性剂药液,温度设置为60℃,清洗时间为4分钟;2)把非离子表面活性剂HLB值调试12-15之间,在水温60℃下可以润湿盖板玻璃表面,去除油脂,盖板玻璃的水滴角能够降到30°以内。本发明的盖板玻璃清洗工艺步骤简单,通过化学反应方式取代传统使用等离子机降低水滴角的工艺,能够减少盖板玻璃在周转过程中所发生刮伤不良现象,不仅提升良率而且也可以提升产能,生产成本大大降低。
【IPC分类】B08B3/08, B08B11/04, B08B3/12
【公开号】CN105080921
【申请号】CN201410216555
【发明人】陈昱成, 胡书立
【申请人】宇瀚光电科技(苏州)有限公司
【公开日】2015年11月25日
【申请日】2014年5月22日
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