一种清洁设备及清洁方法
【专利摘要】本发明提供一种清洁设备及清洁方法。其中，清洁设备用于去除基板上的残留物，包括：设置在所述基板上的形变单元；激励单元，用于生成所述形变单元的激励源，使所述形变单元在所述激励源作用下发生形变，从而带动所述基板振动，以脱落所述残留物。本发明的技术方案在基板上设置有形变单元，并控制形变单元在激励源作用下产生形变，该形变过程能够轻柔地带动基板产生振动，从而在不损伤基板的前提下，使基板表面的残留物脱落下来，以达到清洁效果。
【专利说明】
一种清洁设备及清洁方法
技术领域
[0001 ]本发明涉及显示器的制作领域，特别是一种清洁设备及清洁方法。
【背景技术】
[0002]随着平板显示技术的不断发展，液晶显示器(LCD，Liquid Crystal Display)已成功应用于便携式电脑(Notebook)、监控器(Monitor)、电视机(TV)等显示设备中。目前，LCD已成为信息显示的主流产品，其显示品质随着制造工艺技术的进步而不断优化。
[0003]在LCD面板的生产过程中，为了使液晶分子能够正确的取向，需要在阵列(Array)基板和彩膜(CF，Color Filter)基板的表面涂上一层聚酰亚胺(PI，Polyimide)膜，然后在PI膜上进行摩擦(Rubbing)工艺，以实现液晶分子的取向。因此，Array基板与CF基板的PI膜涂布(Coater)工艺是非常重要的一步工艺。
[0004]现有涂布设备的结构如图1所示，主要包括:设备框架11、转印板12、辊轮(图中未直接示出)、辊轴13和工作台14。其中，辊轴13固定在设备框架11的侧壁上，辊轴13的转动带动其连接的辊轮转动，图1中矩形的转印板12是包裹在辊轮的侧表面上的;转印板12由柔性材料支撑，表面上设有小坑(约15μπι深)，成网状排布，排布的密度大约为400Line/inch(线/英寸)，小坑的倾斜角度为45°，目的是使PI液在转印板12上涂布均匀。工作台14上用于放置玻璃基板(如Array基板、CF基板)，在玻璃基板放置在工作台14上后，包裹在辊轮上的转印板12与玻璃基板接触;此时，借助工作台14的传动功能，玻璃基板在工作台14的流水线上传动，辊轮也同时转动，从而将转印板12上的PI液涂布在玻璃基板上，形成PI膜。
[0005]如果PI膜上有异物或PI膜涂布不均匀，就会严重影响IXD面板的画面品质，而且还会造成严重的物料浪费。通常在投入Array基板和CF基板前，先投入样品(Dummy)玻璃基板，在Dummy玻璃基板上涂布PI膜，先通过检查机进行检查，然后在Mac/Mic (微观/宏观)显微镜设备上进行观察，看PI膜涂布的是否均匀，是否有异物导致的不良。如果有异物导致的不良，则需要对转印板进行擦拭，清除转印板上的异物，再进行Dummy玻璃基板投入观察效果，直到没有异常再进行Array基板和CF基板的投入。目前对转印板上异物的擦拭工作都是由工作人员进到涂布设备里进行擦拭，这种方法并不能保证彻底将转印板的残留物去除干净，可能会影响后续PI膜涂布的质量。
【发明内容】
[0006]本发明要解决的技术问题是提供一种清洁设备及清洁方法，能够有效去除基板在经人工清洗后所留下的残留物。
[0007]为解决上述技术问题，本发明的实施例提供一种清洁设备，用于去除基板上的残留物，包括:
[0008]设置在所述基板上的形变单元；
[0009]激励单元，用于生成所述形变单元的激励源，使所述形变单元在所述激励源作用下发生形变，从而带动所述基板振动，以脱落所述残留物。
[0010]可选地，所述形变单元为弹性腔体，所述激励源为气体或液体;所述激励单元用于向所述弹性腔体内输送气体或液体，使该弹性腔体发生形变，带动所述基板振动，以脱落所述残留物。
[0011]可选地，所所述形变单元为膨胀膜，且该膨胀膜具有随温度变化的膨胀系数，所述激励源用于改变所述膨胀膜的温度；
[0012]其中，所述膨胀膜在所述激励源作用下热胀冷缩，进而带动所述基板发生振动，以脱落所述残留物。
[0013]可选地，所述膨胀膜至少一部分由塑料纤维制成。
[0014]可选地，所述塑料纤维为聚己二酰己二胺纤维。
[0015]可选地，所述膨胀膜表面形成有吸盘结构，并通过该吸盘结构吸附在所述基板上。
[0016]可选地，所述激励源为气体，所述激励单元包括:温度控制部，用于通过输出不同温度的气体，对设置有所述膨胀膜的基板进行冷热循环处理。
[0017]可选地，所述清洁设备包括:正对所述基板设置的静电模块，用于对所述基板和所述残留物电离，使所述基板和所述残留物携带相同极性的电荷。
[0018]可选地，所述清洁设备包括:清洁腔室，所述激励单元以及设置有所述形变单元的基板位于所述清洁腔室内；
[0019]气流循环部，设置在所述清洁腔室的腔壁上，用于排出温度控制部输出的气体，以保持清洁腔室内外的气体流动性。
[0020]可选地，所述清洁设备还包括:设置在该清洁腔室内的排污槽，用于排放从所述基板脱落的残留物。
[0021]另一方面，本发明还提供一种清洁方法，用于去基板上的残留物。其中所述基板上设置有形变单元，所述形变单元能够在激励源作用下发生形变;所述清洁方法包括:
[0022]生成所述形变单元的激励源，使所述形变单元在所述激励源作用下发生形变，从而带动所述基板振动，以脱落所述残留物。
[0023]可选地，所述形变单元为膨胀膜，所述膨胀膜具有随温度变化的膨胀系数;生成所述形变单元的激励源，包括:对贴附有所述膨胀膜的基板进行冷热循环处理，使所述膨胀膜热胀冷缩进而带动所述基板发生形变，脱落所述残留物。
[0024]本发明的上述技术方案的有益效果如下:
[0025]本发明的技术方案在基板上设置有形变单元，并控制形变单元在激励源作用下产生形变，该形变过程能够轻柔地带动基板产生振动，从而在不损伤基板的前提下，使基板表面的残留物脱落下来，以达到清洁效果。
【附图说明】
[0026]图1为现有的PI膜涂布设备的结构示意图；
[0027]图2为本发明的清洁设备的结构示意图；
[0028]图3为本发明的设置有洗吸盘结构的膨胀膜；
[0029]图4为本发明的清洁设备的详细结构示意图。
【具体实施方式】
[0030]为使本发明要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
[0031]针对目前基板(如转印板)在人工清洗后存在残留物的问题，本发明提供一种解决方案。
[0032]—方面，本发明的实施例提供一种清洁设备，用于去除基板上的残留物。
[0033]如图2所示，基板21表面贴附有形变单元22(形变单元22优选贴附在基板不设置功能图案的表面上)，该形变单元22可以在激励源作用下发生形变。
[0034]对应地，本实施例的清洁设备包括:
[0035]激励单元23，用于生成该形变单元22的激励源，使形变单元22发生形变，从而带动基板21振动，将残留物从基板21上脱落下来。
[0036]在本实施例中，利用形变单元产生的形变可以实现较大的振动幅度，从而能够有效脱落基板上的残留物。同时，这种形变方式产生的振动较为柔和，因此能够避免对基板的结构以及基板表面已形成的功能图形带来损伤。
[0037]在涉及到实际应用中，像PI膜涂布设备的转印板就具有很高的清洁要求，在人工清洗过后，转印板上仍然会残留一些颗粒物，因此采用本实施例的清洁装置可以进一步对人工清洗后的转印板进行二次清洁，且不会破坏转印板上的网状摩擦表面，这保证了 PI膜的工艺质量，有益于提尚显不广品的良品率。
[0038]当然，在具体实施过程中，上述形变单元可以有很多种实现方式。例如，本实施例的形变单元可以为弹性腔体，对应的激励源为气体或液体，上述激励单元通过向弹性腔体内输送气体或液体，使该弹性腔体发生形变，带动所述基板振动。或者本实施例的形变单元为膨胀膜，且该膨胀膜具有随温度变化的膨胀系数，对应的激励源为温度，上述激励单元通过温度调整，控制膨胀膜热胀冷缩，进而带动所述基板发生振动。不管本实施例采用何种形变方式，可以知道到是，但凡是通过形变单元的形变带动基板振动脱落残留物的技术方案都应属于本发明的保护范围。
[0039]下面以脱落转印板的残留物为例，对本实施例采用膨胀膜的方案进行详细介绍。
[0040]本实施例的膨胀膜至少一部分可以由具有良好膨胀特性的塑料纤维制成，如聚己二酰己二胺纤维。如图3所示，膨胀膜22在贴附转印板的一侧形成有吸盘结构221，本实施例的膨胀膜22通过其一侧的吸盘结构221吸附在转印板上。
[0041]当然需要给予说明的是，图3中仅用于示例性介绍本实施例的吸盘结构。在实际应用中，本实施例的吸盘结构可以是均匀分布在膨胀膜一侧的多个凹槽结构，通过按压在转印板上的膨胀膜，使凹槽结构在内部空气被挤出后，真空吸附在转印板上。
[0042]进一步地，本实施例的膨胀膜与转印板的形状相对应，均为矩形。其中，膨胀膜的两个侧分别与转印板的两个侧边相固定。在进行冷热交替的处理时，膨胀膜发生形变，不断对转印板的两个侧边进行扯动，使转印板两个侧边发生翘起，从而振动脱落残留物。其中，作为优选方案，膨胀膜的一侧边可以非活动固定在转印板，而另一侧边则可以通过吸盘结构吸附在转印板上。在发生形变的过程中，膨胀膜设置有吸盘结构的一侧会向另一侧不断靠拢或远离，这使得膨胀膜对转印板扯动的力度与方向会根据形变发生变化，从而提高了残留物的脱落效果。
[0043]当然，上述实现方式仅用于示例性介绍本实施例的膨胀膜。在实际应用中，还可以进一步根据转印板的强度来合理设置吸盘结构的面积。例如针对高强度的转印板，膨胀膜可以具有大面积的吸盘结构，能够几乎完全吸附在转印板上，从而在热胀冷缩的过程中，带动转印板发生较强烈的振动，以获得更好的清洁效果;或者，针对低强度的转印板，则可以在膨胀膜的边缘区域设置吸盘结构，只让膨胀膜的边缘带动转印板振动，从而降低对转印板带来损伤。
[0044]这里需要给予说明的是，作为其他可行方案，本实施例的膨胀膜也可以不设置吸盘结构，直接通过胶体与转印板固定。
[0045]此外，本实施例的膨胀膜可以是部分由塑料纤维制成，也可以是全部由塑料纤维制成。作为示例性介绍，膨胀膜用于与转印板连接的两侧可以由塑料纤维制成，在进行温度控制时，膨胀膜主要是两侧发生热胀冷缩，从而提高拉拽转印板的效果。
[0046]下面结合一个实际应用对本实施例的清洁设备的整体设计进行详细介绍。
[0047]如图4所示，本实施例的清洁设备具有一清洁腔室，在该清洁腔室内部设置有温度控制部41(即本文上述的激励单元)、支架42以及气流循环部43。其中，
[0048]支架42具有多个在竖直方向上排列的支撑板44，每一支撑板44可盛放贴附有膨胀膜的转印板45。
[0049]温度控制部41设置在支架42侧面，按照图4箭头所示的方向，向支架42盛放的转印板45输送不同温度的气体(一般为空气)，使得设置有膨胀膜的转印板45受到冷热交替的循环处理。
[0050]气流循环部43设置在清洁腔室的腔壁上，用于排出温度控制部41输出的气体，以保持清洁腔室内外的气体流动性。
[0051]此外，为进一步加速残留物从转印板上脱落，本实施例的清洁腔室内还设置有正对转印板45的静电模块46，该静电模块46用于产生静电场，该静电场能够对转印板45及其表面残留物进行电离，使转印板45和残留物携带相同极性的电荷后相互排斥。在具体的实际应用中，上述静电模块46可以是电极结构，通过对该电极结构进行通电可以产生强静电场。
[0052]进一步地，本实际应用中，还可以在清洁腔室设置排污槽47，该排污槽47用于排放从转印板脱落的残留物。优选地，排污槽可以是水槽，设置在转印板45的下方，转印板45上的残留物在脱落后掉入水槽中，使得水槽内的流水将残留物带走，从而防止残留物再挥发到清洁腔室中。
[0053]综上所述，本发明的实际应用具有以下优点:
[0054]I)通过吹风的方式使膨胀膜热胀冷缩，在一定程度上可以吹走转印板上的残留物，从而提高转印板清洁效果。
[0055]2)通过设置的静电场可以使转印板与其残留物携带相同电荷，从而相互排斥，易于脱落。
[0056]3)通过支架可以在竖直方向上盛放多个待清洁的转印板，温度控制部从支架侧边可以同时对多个待清洁的转印板输出空气，提高了清洁效率，对于大生产线，高工作效率对应高稼动率。此外，来自侧向的风力还能够将转印板上的残留物吹落，更有益于清洁。
[0057]4)在清洁完成后，操作人员可直接将盛放有转印板的支架放在仓库中进行保存，等待下次印刷PI薄膜时使用。
[0058]另一方面，本发明的实施例还提供一种清洁方法，用于去除基板上的残留物。其中，基板上设置有形变单元，该形变单元能够在激励源作用下发生形变，本实施例清洁方法包括:
[0059]生成形变单元的激励源，使改形变单元在激励源作用下发生形变，从而带动所基板振动，以脱落基板上的残留物。
[0060]本实施例的方法通过激励源使形变单元发生形变，在形变过程中，形变单元能够轻柔地带动基板产生振动，从而在不损伤基板的前提下，使基板表面的残留物脱落下来，以达到清洁效果。
[0061]在具体实现中，上述形变单元可以是膨胀膜，该膨胀膜具有随温度变化的膨胀系数。其中，本实施例可以对设置有所述膨胀膜的基板进行冷热循环处理，控制所述膨胀膜热胀冷缩，进而带动所述基板发生振动，以脱落基板上的残留物。
[0062]当然，作为优选方案，本实施例可以对设置有膨胀膜的基板输出不同温度的气体，以使膨胀膜受到冷热循环处理，该方案的优点是可以进一步借助风力吹走基板上的残留物，从而实现更好的清洁效果。
[0063]显然，本实施例的清洁方法与本发明的清洁装置相对应，因此均能够实现相同的技术效果。
[0064]以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种清洁设备，用于去除基板上的残留物，其特征在于，包括: 设置在所述基板上的形变单元； 激励单元，用于生成所述形变单元的激励源，使所述形变单元在所述激励源作用下发生形变，从而带动所述基板振动，以脱落所述残留物。2.根据权利要求1所述的清洁设备，其特征在于， 所述形变单元为弹性腔体，所述激励源为气体或液体； 所述激励单元用于向所述弹性腔体内输送气体或液体，使该弹性腔体发生形变，带动所述基板振动，以脱落所述残留物。3.根据权利要求1所述的清洁设备，其特征在于， 所述形变单元为膨胀膜，且该膨胀膜具有随温度变化的膨胀系数，所述激励源用于改变所述膨胀膜的温度； 其中，所述膨胀膜在所述激励源作用下热胀冷缩，进而带动所述基板发生振动，以脱落所述残留物。4.根据权利要求3所述的清洁设备，其特征在于， 所述膨胀膜至少一部分由塑料纤维制成。5.根据权利要求4所述的清洁设备，其特征在于， 所述塑料纤维为聚己二酰己二胺纤维。6.根据权利要求3所述的清洁设备，其特征在于， 所述膨胀膜表面形成有吸盘结构，并通过所述吸盘结构吸附在所述基板上。7.根据权利要求3所述的清洁设备，其特征在于， 所述激励源为气体，所述激励单元包括: 温度控制部，用于通过输出不同温度的气体，对设置有所述膨胀膜的基板进行冷热循环处理。8.根据权利要求1所述的清洁设备，其特征在于，还包括: 正对所述基板设置的静电模块，用于对所述基板和所述残留物电离，使所述基板和所述残留物携带相同极性的电荷。9.根据权利要求8所述的清洁设备，其特征在于，还包括: 清洁腔室，所述激励单元以及设置有所述形变单元的基板位于所述清洁腔室内； 气流循环部，设置在所述清洁腔室的腔壁上，用于排出温度控制部输出的气体，以保持清洁腔室内外的气体流动性。10.根据权利要求9所述的清洁设备，其特征在于，还包括: 设置在该清洁腔室内的排污槽，用于排放从所述基板脱落的残留物。11.一种清洁方法，用于去除基板上的残留物，其特征在于，所述基板上设置有形变单元，所述形变单元能够在激励源作用下发生形变;所述清洁方法包括: 生成所述形变单元的激励源，使所述形变单元在所述激励源作用下发生形变，从而带动所述基板振动，以脱落所述残留物。12.根据权利要求11所述的清洁方法，其特征在于， 所述形变单元为膨胀膜，所述膨胀膜具有随温度变化的膨胀系数； 生成所述形变单元的激励源，包括: 对设置有所述膨胀膜的基板进行冷热循环处理，控制所述膨胀膜热胀冷缩，进而带动所述基板发生振动，以脱落所述残留物。
【文档编号】G02F1/1337GK106076980SQ201610384100
【公开日】2016年11月9日
【申请日】2016年6月1日 公开号201610384100.8, CN 106076980 A, CN 106076980A, CN 201610384100, CN-A-106076980, CN106076980 A, CN106076980A, CN201610384100, CN201610384100.8
【发明人】井杨坤, 刘飞, 徐志伟, 车晓盼, 陈传辉
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 合肥京东方光电科技有限公司