一种等离子清洁装置的制造方法
【专利说明】
[技术领域]
[0001]本实用新型涉及全贴合领域，具体涉及一种等离子清洁装置。
[【背景技术】]
[0002]全贴合主要是将触摸屏与显示模组通过光学胶或水胶贴合在一起的工艺，贴合前会先进行压合区清洁，压合区清洁的主要目的是去除玻璃基板表面残留的固体微粒及有机物质；传统的方法是通过粘尘辊或无尘布+酒精进行清洁，但上述方法无法清除有机异物；因前端工艺需要，生产过程中的有机物较多，常见的主要有灌液晶过程中液晶的残留、UV胶等，如果不能有效去除这些有机物，就会产生压合异物、贴合气泡等不良现象。
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【发明内容】
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[0003]针对上述缺陷，本实用新型公开了一种等离子清洁方法及装置，解决了传统清洁方法无法清理有机异物的问题，进而减少了贴合成品的异物不良及气泡不良。
[0004]本实用新型的技术方案如下:
[0005]一种等离子清洁装置，包括等离子清洁模组、位于所述等离子清洁模组下方的用于放置工件并带动工件移动的工件移动平台、用于调节所述等离子清洁模组与工件间距的间距调节机构、与所述等离子清洁模组、工件移动平台、间距调节机构连接的电气控制装置。
[0006]本实用新型的等离子清洁装置中，工件固定于所述工件移动平台上并在工件移动平台的带动下进给；工作时，先通过间距调节机构调节等离子清洁模组与工件的间距，工件固定于工件移动平台上从等离子清洁模组下方均速通过，达到清除工件表面有机异物的目的，解决了传统清洁方法无法清理有机异物的问题，进而减少了贴合成品的异物不良及气泡不良。
[【附图说明】]
[0007]图1为本实用新型实施例的结构示意图；
[0008]图2为本实用新型一优选实施例的内部结构示意图。
[【具体实施方式】]
[0009]下面结合附图对本实用新型的【具体实施方式】做详细阐述。
[0010]如图1至图2所示，本实用新型的等离子清洁装置，包括等离子清洁模组2、位于所述等离子清洁模组2下方的用于放置工件3并带动工件3移动的工件移动平台4、用于调节所述等离子清洁模组2与工件间距的间距调节机构1、与所述等离子清洁模组2、工件移动平台4、间距调节机构I连接的电气控制装置11 ;
[0011]本实用新型的等离子清洁装置中，工件3固定于所述工件移动平台4上并在工件移动平台4的带动下进给；工作时，先通过间距调节机构I调节等离子清洁模组2与工件3的间距，工件3固定于工件移动平台I上从等离子清洁模组2下方均速通过，达到清除工件3表面有机异物的目的，解决了传统清洁方法无法清理有机异物的问题，进而减少了贴合成品的异物不良及气泡不良。
[0012]优选的，所述等离子清洁模组2包括用于产生正负离子的正极板7、负极板8、与所述正极板7和负极板8连接的电源12，以及用于产生吹送正负离子的惰性气体气流的惰性气体供给装置5、进气阀6 ;工作时，惰性气体供给装置5中的惰性气体通过送气阀6进入等离子发生部，当惰性气体进入等离子发生部预定时间后，电源12驱动正极板7、负极板8产生等离子体，等离子体在惰性气体气流的带动下高速撞击工件3表面，通过离子打破工件3表面有机异物脆弱的化学键，并使有机异物脱离工件3表面，达到去除工件3表面有机异物的目的，通过上述方法，可有效降低全贴合时气泡不良；
[0013]优选的，所述等离子清洁模组2内还设有用于监控温度的温控器13，用于监测和控制等离子清洁模组2中离子发生部的温度，使其工作于适宜的温度下，以保证使用安全和工作效率；
[0014]进一步的，本实用新型的等离子清洁装置还包括与所述等离子清洁模组2对接的风机9和废气处理装置10，产生的废气会通过风机9排送到废气处理装置10进行处理，使用更加环保；
[0015]优选的，所述工件移动平台4为一真空吸附平台，便于工件3的取放。
[0016]以上所述的本发明实施方式，并不构成对本发明保护范围的限定。任何在本发明的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的权利要求保护范围之内。
【主权项】
1.一种等离子清洁装置，其特征在于:包括等离子清洁模组、位于所述等离子清洁模组下方的用于放置工件并带动工件移动的工件移动平台、用于调节所述等离子清洁模组与工件间距的间距调节机构、与所述等离子清洁模组、工件移动平台、间距调节机构连接的电气控制装置。
2.如权利要求1所述的等离子清洁装置，其特征在于:所述等离子清洁模组包括用于产生正负离子的正极板、负极板、与所述正极板和负极板连接的电源，以及用于产生吹送正负离子的惰性气体气流的惰性气体供给装置、进气阀。
3.如权利要求1或2所述的等离子清洁装置，其特征在于:所述等离子清洁模组内还设有用于监控温度的温控器。
4.如权利要求2所述的等离子清洁装置，其特征在于:还包括与所述等离子清洁模组对接的风机和废气处理装置。
5.如权利要求1所述的等离子清洁装置，其特征在于:所述工件移动平台为一真空吸附平台。
【专利摘要】本实用新型公开了一种等离子清洁装置，包括等离子清洁模组、位于所述等离子清洁模组下方的用于放置工件并带动工件移动的工件移动平台、用于调节所述等离子清洁模组与工件间距的间距调节机构、与所述等离子清洁模组、工件移动平台、间距调节机构连接的电气控制装置。本实用新型的等离子清洁装置中，工件固定于所述工件移动平台上并在工件移动平台的带动下进给；工作时，先通过间距调节机构调节等离子清洁模组与工件的间距，工件固定于工件移动平台上从等离子清洁模组下方均速通过，达到清除工件表面有机异物的目的，解决了传统清洁方法无法清理有机异物的问题，进而减少了贴合成品的异物不良及气泡不良。
【IPC分类】B08B7-00
【公开号】CN204353149
【申请号】CN201420821238
【发明人】高军鹏
【申请人】深圳市易天自动化设备有限公司
【公开日】2015年5月27日
【申请日】2014年12月22日