一种硅片清洗机纯水回收系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及半导体材料生产技术领域，具体涉及一种硅片清洗机纯水回收系统。
【背景技术】
[0002]电路级硅抛光片在对表面进行镜面抛光加工后，表面受到抛光粘片蜡、抛光液等的严重污染，而抛光硅片的表面洁净度是产品最为关键的质量参数之一，抛光工序后硅片表面必须要被去除颗粒、金属离子和有机污染物，湿法化学清洗工艺是最有效的硅片清洗技术。在湿法化学清洗工艺中，硅片通过一系列多个酸碱性不同化学液槽的清洗，以达到去除表面颗粒、有机物污染、金属离子的目的。抛光硅片表面是一层二氧化硅薄膜，二氧化硅表面为亲水性表面，所以硅片浸湿后表面会附带有一层水膜，这层水膜中包含着用于清洗硅片的化学品，残留的某一碱性化学品会和之后的另一种化学液槽中的酸性化学品反应，对硅片的后续加工造成失效。所以各个化学液槽之后都配置纯水槽，用来对从前一道化学液槽出来的硅片进行漂洗，去除硅片表面的化学液残留，避免影响清洗效果。纯水槽分为溢流槽和快速倒洗槽两种，纯水溢流槽是通过从纯水槽底部不断供应新鲜的纯水，多余的纯水从槽上沿向外溢流，使硅片表面的化学液被不断地稀释，随溢流的纯水排到槽外。快速倒洗槽是在硅片进入水槽中，槽底部的排放阀门打开，纯水被快速排空，槽子两侧上方的喷嘴开始对硅片进行纯水喷淋，当纯水再次注满槽体并做短暂溢流后，槽内的纯水重新快速排空。此过程通常重复几个周期，将硅片表面残留的化学液完全去除。
[0003]在现有的清洗机中，纯水槽使用过的纯水都被直接排放掉，而用于清洗硅抛光片纯水属于超纯水，水中颗粒物、金属离子含量、电阻率值和有机物总含量等众多的参数都有严格的指标，需要经过多重离子交换树脂、RO反渗透、紫外灯杀菌等等一系列复杂的处理过程才能获得，因此超纯水价格也是较为昂贵，现有硅片清洗机使用过程中造成大量的超纯水被排入下水地沟，纯水消耗居高不下，成为清洗过程中最高的运行成本。
【实用新型内容】
[0004]为解决上述技术问题，本实用新型提供一种硅片清洗机纯水回收系统，该装置可以有效解决目前现有硅片清洗机因大量消耗纯水而运行成本高的问题，减少了纯水排放量、大幅度降低生产成本。
[0005]本实用新型所采用的技术方案是:一种硅片清洗机纯水回收系统，包括纯水槽、排水收集池、主排水管路、直排水管路、回收排水管路以及回收水储罐，所述纯水槽设置在排水收集池内部，排水收集池的底部呈锥形，且排水收集池通过底端开口与主排水管路的一端连接，主排水管路的另一端通过三通气动阀分别连接直排水管路和回收排水管路的进水端，回收排水管路上设有Ph值测试仪，回收排水管路的出水端连接至回收水储罐，回收水储罐的底部设有出水管路，出水管路上设有水泵，所述的三通气动阀与PLC控制器连接。
[0006]与现有技术相比，本实用新型至少具有下述优点及有益效果:
[0007]本实用新型所述的清洗机纯水回收系统，加工简单，安装操作方便，可以有效解决目前现有硅片清洗机因大量消耗纯水而运行成本高的问题，减少了纯水排放量、大幅度降低生产成本。
【附图说明】
[0008]图1为本实用新型的结构示意图；
[0009]附图标记:1、纯水槽，2、排水收集池，3、主排水管路，4、三通气动阀，5、直排水管路，6、回收排水管路，7、PH值测试仪，8、回收水储罐，9、出水管路，10、水泵。
【具体实施方式】
[0010]为使本实用新型的内容更明显易懂，以下结合具体实施例，对本实用新型进行详细描述。
[0011]如图所示，一种硅片清洗机纯水回收系统，包括纯水槽1、排水收集池2、主排水管路3、直排水管路5、回收排水管路6以及回收水储罐8，所述纯水槽I设置在排水收集池2内部，排水收集池2的底部呈锥形，且排水收集池2通过底端开口与主排水管路3的一端连接，主排水管路3的另一端通过三通气动阀4分别连接直排水管路5和回收排水管路6的进水端，回收排水管路6上设有Ph值测试仪7，回收排水管路6的出水端连接至回收水储罐8，回收水储罐8的底部设有出水管路9，出水管路9上设有水泵10，所述的三通气动阀4与PLC控制器连接。
[0012]为了使本实用新型具有更好的效果，排水收集池2使用高纯PVC材质制成。
[0013]本实用新型的纯水槽I设置在排水收集池2内部，纯水槽I溢流或排放出的使用过的纯水都存储在排水收集池2内，三通气动阀4受PLC程序控制开启状态，硅片在水槽漂洗初期溢流和排放的纯水中含有的化学液的浓度偏高，此阶段三通气动阀4控制纯水从直排水管路5排放至外界；硅片在纯水槽I漂洗后期溢流和排放的纯水中含有的化学液的浓度偏低，PH值接近7时，此阶段三通气动阀4控制纯水从回收排水管路6排放，流入回收水储罐8，切换排放的时间节点在PLC程序中设定。PH值测试仪7安装在回收排水管路6上，通过PH值进行回收水质得监控。回收水储罐8通过出水管路9和厂务纯水站连接，水泵10将需要回收的纯水送入纯水站再生利用。
[0014]本实用新型的硅片清洗机纯水回收系统可以对清洗机排放的大部分纯水实现回收利用，大幅度降低了清洗机纯水的消耗量。该系统中除了直排水管路5，还增加了一路回收排水管路6，该回收排水管路6和厂务纯水站相连接，通过PLC控制器程序控制主排水管路3上的三通气动阀4实现使用后纯水可以在直排水管路5和回收排水管路6之间切换排放，排入回收排水管路6的纯水经过回收水储罐8被水泵10打入厂务纯水站，只需经过反渗透、过滤等简单处理，即可再生为完全合格的纯水得以再度利用，以解决现有硅片消耗、排放大量超纯水弓I起的运行成本突高的问题。
[0015]本实用新型所列举的技术方案和实施方式并非是限制，与本实用新型所列举的技术方案和实施方式等同或者效果相同方案都在本实用新型所保护的范围内。
【主权项】
1.一种硅片清洗机纯水回收系统，其特征在于:包括纯水槽(I)、排水收集池(2)、主排水管路(3)、直排水管路(5)、回收排水管路(6)以及回收水储罐(8)，所述纯水槽(I)设置在排水收集池(2)内部，排水收集池(2)的底部呈锥形，且排水收集池(2)通过底端开口与主排水管路(3)的一端连接，主排水管路(3)的另一端通过三通气动阀(4)分别连接直排水管路(5)和回收排水管路(6)的进水端，回收排水管路(6)上设有Ph值测试仪(7)，回收排水管路(6)的出水端连接至回收水储罐(8)，回收水储罐(8)的底部设有出水管路(9)，出水管路(9)上设有水泵(10)，所述的三通气动阀(4)与PLC控制器连接。
【专利摘要】本实用新型公开一种硅片清洗机纯水回收系统，包括纯水槽、排水收集池、主排水管路、直排水管路、回收排水管路以及回收水储罐，所述纯水槽设置在排水收集池内部，排水收集池的底部呈锥形，且排水收集池通过底端开口与主排水管路的一端连接，主排水管路的另一端通过三通气动阀分别连接直排水管路和回收排水管路的进水端，回收排水管路上设有Ph值测试仪，回收排水管路的出水端连接至回收水储罐，回收水储罐的底部设有出水管路，出水管路上设有水泵，所述的三通气动阀与PLC控制器连接。本实用新型可以有效解决目前现有硅片清洗机因大量消耗纯水而运行成本高的问题，减少了纯水排放量、大幅度降低生产成本。
【IPC分类】B08B13/00
【公开号】CN204685622
【申请号】CN201520361523
【发明人】熊诚雷, 史舸, 邵奇, 沈激, 张倩
【申请人】麦斯克电子材料有限公司
【公开日】2015年10月7日
【申请日】2015年5月30日