清洗设备用清洗槽的制作方法

文档序号:10024800阅读:201来源:国知局
清洗设备用清洗槽的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及清洗过滤技术领域,具体涉及一种清洗设备用清洗槽。
【背景技术】
[0002]清洗设备是一种可用于自动清洗各种物件表面的油、蜡、尘等污渍与污迹的机械设备,目前常见的清洗设备有超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等,清洗设备广泛适用于众多的商用和家用场合,例如工厂中清洗各种零件,家中用来清洗餐具等。
[0003]清洗设备一般都包括用于盛放清洗液和待清洗物的清洗槽,清洗槽内的清洗液可以完全浸泡住待清洗物,这样可达到更好的清洗效果。清洗槽内还设有主滤网,主滤网可将清洗液中的杂质过滤出来,这样能够有效防止杂质堵塞排水管道以及清洗设备的清洗液循环利用系统。由于现有的清洗槽的底部设计较平,排水时水中的污物容易沉积在底面,清洗槽在安装主滤网的槽体处的开口面积与清洗槽的最大开口面积近似相等,这样就需要尺寸很大的主滤网才能完全将清洗槽隔离开,进而才能达到良好的过滤效果,这样就势必增加了生产成本。另外,清洗设备一般还设有用于增强清洗效率和效果的超声波振子,超声波振子一般设在清洗槽的槽体的外侧,超声波振子发出的超声波最好是直接指向待清洗物,这样超声波沿途中损耗少,这样才能达到更高效、更良好的清洗效果。超声波在穿过滤网时损耗严重,严重降低了清洗设备的清洗效率和清洗效果。

【发明内容】

[0004]本实用新型的目的在于针对现有技术中的不足,提供一种结构设计合理、成本低,清洗效果好、清洗效率高的清洗设备用清洗槽。
[0005]本实用新型的目的通过以下技术方案实现:
[0006]提供一种清洗设备用清洗槽,包括槽体和内置于所述槽体的主滤网,所述槽体的下部设置为由四周向内侧倾斜呈漏斗状的槽体结构,所述主滤网设于所述漏斗状的槽体结构的下方。
[0007]其中,所述槽体设置为呈阶梯状设置的两级槽体结构,其中位于所述槽体的中部的呈漏斗状设置的一槽体结构为第一槽体结构,位于所述槽体的底部的另一槽体结构为第二槽体结构,所述主滤网设于两级槽体结构之间的所述槽体。
[0008]其中,所述第一槽体结构底部的倾斜面外侧设有超声波振子。
[0009]其中,所述超声波振子设于所述第一槽体结构底部的两相对倾斜面的外侧。
[0010]其中,所述第一槽体结构的底部开口面积小于所述槽体的最大开口面积的70%。
[0011]其中,所述第一槽体结构底部斜面的上边缘与其下边缘之间的垂直距离大于5mm。
[0012]其中,所述第二槽体结构设置为由四周向内侧倾斜呈漏斗状的槽体结构。
[0013]其中,所述第二槽体结构的底部设置为呈阶梯状设置的多阶槽体。
[0014]其中,所述第二槽体结构的底部搭接有用于集液的液杯。
[0015]其中,所述主滤网固定开设有喷液口的喷管。
[0016]本实用新型的有益效果:
[0017]本实用新型的清洗设备用清洗槽,通过将槽体的下部设置为由四周向内侧倾斜呈漏斗状的槽体结构,使主滤网设于漏斗状的槽体结构的下方,由于漏斗状的槽体结构的开口面积小于槽体最大开口面积,这样就减小了所用主滤网的尺寸,不仅达到良好的过滤效果,并且降低了材料成本。之外,本实用新型通过将超声波振子设于漏斗状的槽体结构的倾斜面,这样主滤网将不会阻挡进而损耗超声波振子所发出的超声波,并且倾斜面使得超声波振子所发出的超声波更加指向槽体的中间,进而可获得更好的清洗效果和更高的清洗效率。
【附图说明】
[0018]利用附图对本实用新型作进一步说明,但附图中的实施例不构成对本实用新型的任何限制,对于本领域的普通技术人员,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据以下附图获得其它的附图。
[0019]图1为本实用新型的清洗设备用清洗槽的结构示意图。
[0020]图2为本实用新型的清洗设备用清洗槽的剖视图。
[0021]图1和图2中包括:
[0022]1-槽体、IA-第一槽体结构、IB-第二槽体结构;
[0023]2-超声波振子;
[0024]3-主滤网、3A-喷管、3B-喷嘴;
[0025]4-过滤筒;
[0026]5-液杯;
[0027]6-排水阀;
[0028]7-液栗。
【具体实施方式】
[0029]结合以下实施例对本实用新型作进一步描述。
[0030]本实用新型的一种清洗设备用清洗槽的【具体实施方式】,如图1和图2所示,其结构包括槽体1、主滤网3和若干个超声波振子2。槽体I设有呈阶梯状设置的两级漏斗状的槽体结构,其中,位于槽体I的中部的一漏斗状的槽体结构为第一槽体结构1A,位于槽体I的底部的另一漏斗状的槽体结构为第二槽体结构1B。主滤网3设于两级漏斗状的槽体结构之间的槽体1,超声波振子2设于第一槽体结构IA的倾斜面外侧,具体的,超声波振子2设于第一槽体结构IA的两相对倾斜面的外侧,从两个方向对清洗槽的待清洗物进行超声波清洗,以达到更好的清洗效果,当然超声波振子2也可设于第一槽体结构IA的四周倾斜面的外侧,进而可全方位无死角地对清洗槽的待清洗物进行超声波清洗。
[0031]由于主滤网3设于两级漏斗状的槽体结构之间的槽体I,且第一槽体结构IA的底部开口面积小于槽体I的最大开口面积的70%,这样不仅使主滤网3的尺寸减小,有效降低了生产成本,并且主滤网3可以牢固地卡在两级漏斗状的槽体结构之间的槽体1,方便了主滤网3的固定安装。同时由于超声波振子2设于第一槽体结构IA的倾斜面的外侧,而主滤网3设于第一槽体结构IA的下方,这样主滤网3将不会阻挡超声波振子2所发出的超声波,当然也不会对超声波造成损耗,又由于倾斜面的设置使超声波振子2所发出超声波直接指向清洗槽的中间,即指向位于清洗槽中间的待清洗物,进而可获得更好的清洗效果和更高的清洗效率。
[0032]本实施例中,第一槽体结构IA的上边缘与其下边缘之间的垂直距离大于5mm,确保第一槽体结构IA的倾斜面的斜度能够使超声波振子2所发出超声波直接指向清洗槽的待清洗物,进而达到良好的清洗效果,同时,第一槽体结构IA的倾斜面的这个斜度还能达到快速汇聚清洗液的作用,污物也不容易在倾斜面停留。清洗液通过第一槽体结构IA快速聚集起来达到主滤网3,主滤网3将清洗液所携带的杂质过滤出来,经过主滤网3过滤后的清洗液达到第二槽体结构1B,第二槽体结构IB同样能够达到快速聚集清洗液的作用。第二槽体结构IB的底部搭接有用于集液的液杯5,液杯5的底部设有用于排液的排水阀6,液杯5还设有将液杯5的清洗液抽到主滤网3的开设有喷液口的喷管3A内或者其他喷洗机构的液栗7,这样即形成清洗液循环利用系统。本实施例中,喷管3A的喷液口设有开有喷液孔的喷嘴3B,清洗液经喷嘴3B的喷液孔喷向清洗槽的待清洗物。
[0033]本实施例中,主滤网3的周侧向内侧倾斜也形成漏斗状的结构,且主滤网3的漏斗状结构的底部开设有通孔,通孔配合有过滤筒4,过滤筒4位于液杯5内。主滤网3过滤的杂质经清洗液流的冲击下会从主滤网3的四周向内移动进而汇入过滤筒4,可将过滤筒4从主滤网3的通孔拿出,方便杂质的清理。
[0034]最后应当说明的是,以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案,而非对本实用新型保护范围的限制,尽管参照较佳实施例对本实用新型作了详细地说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。
【主权项】
1.清洗设备用清洗槽,包括槽体和内置于所述槽体的主滤网,其特征在于:所述槽体的下部设置为由四周向内侧倾斜呈漏斗状的槽体结构,所述主滤网设于所述漏斗状的槽体结构的下方。2.根据权利要求1所述的清洗设备用清洗槽,其特征在于:所述槽体设置为呈阶梯状的两级槽体结构,其中位于所述槽体的中部的呈漏斗状设置的一槽体结构为第一槽体结构,位于所述槽体的底部的另一槽体结构为第二槽体结构,所述主滤网设于两级槽体结构之间的所述槽体。3.根据权利要求2所述的清洗设备用清洗槽,其特征在于:所述第一槽体结构的底部倾斜面外侧设有超声波振子。4.根据权利要求3所述的清洗设备用清洗槽,其特征在于:所述超声波振子设于所述第一槽体结构底部的两相对倾斜面的外侧。5.根据权利要求2所述的清洗设备用清洗槽,其特征在于:所述第一槽体结构的底部开口面积小于所述槽体的最大开口面积的70%。6.根据权利要求2所述的清洗设备用清洗槽,其特征在于:所述第一槽体结构底部斜面的上边缘与其下边缘之间的垂直距离大于5mm。7.根据权利要求2所述的清洗设备用清洗槽,其特征在于:所述第二槽体结构设置为由四周向内侧倾斜呈漏斗状的槽体结构。8.根据权利要求2所述的清洗设备用清洗槽,其特征在于:所述第二槽体结构的底部设置为呈阶梯状设置的多阶槽体。9.根据权利要求2所述的清洗设备用清洗槽,其特征在于:所述第二槽体结构的底部搭接有用于集液的液杯。10.根据权利要求1所述的清洗设备用清洗槽,其特征在于:所述主滤网固定开设有喷液口的喷管。
【专利摘要】清洗设备用清洗槽,涉及清洗设备技术领域,?其结构包括槽体和内置于槽体的主滤网,通过将槽体的下部设置为由四周向内侧倾斜呈漏斗状的槽体结构,并使主滤网设于漏斗状的槽体结构的下方,由于漏斗状的槽体结构的开口面积小于槽体最大开口面积,这样就减小了所用主滤网的尺寸,不仅达到良好的过滤效果,并且降低了材料成本。之外,本实用新型通过将超声波振子设于漏斗状的槽体结构的倾斜面,主滤网设于漏斗状的槽体结构的下方,这样主滤网将不会阻挡进而损耗超声波振子所发出的超声波,并且倾斜面使得超声波更加指向槽体的中间,进而可获得更好的清洗效果和更高的清洗效率。
【IPC分类】B08B3/12, B08B13/00
【公开号】CN204934124
【申请号】CN201520596190
【发明人】卢小平, 周飞
【申请人】卢小平
【公开日】2016年1月6日
【申请日】2015年8月10日
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