卷对卷聚酰亚胺膜的清洗系统的制作方法
【技术领域】
[0001] 本实用新型有关于一种卷对卷聚酷亚胺膜的清洗系统，特别是指一种聚酷亚胺膜 经过激光加工后，予W清除其膜面杂质或污垢，使其更有利于之后的金属化制程。
【背景技术】
[0002] 可晓性铜锥积层板（Flexiblecoppercladlaminate,FCCL)广泛应用于电子产 业中作为电路基板（PCB)，FC化除了具有轻、薄及可晓的优点外，用聚酷亚胺膜还具有电性 能、热性能及耐热性优良的特点外，其较低的介电常数值k)性，使得电信号得到快速的传 递，良好的热性能，可使组件易于降溫，较高的玻璃化溫度（Tg)，可使组件在较高的溫度下 良好运行。
[0003] 晓性铜锥基材要分为二大类，一为传统接着剂型Ξ层软板基材（3FC化)，另一种为 新型无接着剂二层软板基材（2FCCL)两大类，此两类基材材料，其制造方法不同，其应用产 品项目也不同，Ξ层软板基材一般应用于大宗软板产品上，二层软板基材具有轻薄短小的 优势，可应用于较高阶软板制造上。就现有二层软板基材的制造方法而言，可分为涂布型 WastingType)、压合型化amination)、瓣锻型及湿式锻法型四种，其系皆在一介电材料上 形成金属层，W完成可晓性金属基板的制作，该等制造方法皆为现有技术，于此不加寶述。
[0004] 而现有可晓性电路板的制造方式，是先将前述晓性铜锥基板进行钻孔，使基板12 上形成多个贯孔14,再于贯孔14内形成导电介质16(如传统化铜、电锻铜及传统导电石墨 等金属化微孔，W形成导电介质16)，最后再将晓性金属基板12上进行电锻二次铜18,使一 次铜10上方及贯孔14内形成二次铜18,而得W使基板12上、下电路导通，此种现有可晓 性电路板的制造上较为繁琐，且成本较高，且电路板的厚度较大，不利于细线及高密度的需 求，而贯孔14内的传统导电介层16制作方式（如传统化铜、电锻铜及传统导电石墨等金属 化微孔），其厚度较大，亦不利于微孔化的需求。 阳0化]为解决上述现有技术可晓性电路板及制作的缺点，创作人遂创作出本实用新型， 其是于聚压亚胺膜上先进行激光加工，W形成预钻孔，再进行后续化学锻儀及电锻铜制程， W解决上述现有的缺点，但于激光加工后将在聚酷亚胺膜上残留有杂质/污垢，此时便不 利于后续化学锻儀及电锻铜制程，而，如何有效清洗激光加工后的聚酷亚胺膜，是为业界努 力研究的种要课题。 【实用新型内容】
[0006] 本实用新型的目的是提供一种卷对卷聚酷亚胺膜的清洗系统。
[0007] 为达成所述目的，本实用新型的卷对卷的聚酷亚胺膜清洗系统，其包括有一放卷 装置，用W将卷筒式聚酷亚胺膜进行放卷；一膜面清洁装置与放卷装置连接，用W清洁该聚 酷亚胺膜；膜面清洁装置包括一干式清洁机和一湿式清洁机，其可先为一干式处理机再为 一湿式处理机，或可先为一湿式处理机再为一干式处理机；及一收卷装置与膜面清洁装置 连接，用W将清洁的聚酷亚胺膜收起成卷。
[0008] 优选实施例，于该膜面清洁装置前设置有一黏尘装置。
[0009] 优选实施例，该黏尘装置为黏层轮。
[0010] 优选实施例，该干式清洁机为电晕、电浆或紫外光照射的高能量处理机。
[0011] 优选实施例，该湿式清洁机为化学清洗装置。
[0012] 优选实施例，该湿式清洁机还包括有一超音波震荡装置。
[0013] 优选实施例，该膜面清洁装置后设有一烘干处理机。
[0014] 本实用新型的有益效果：为解决上述现有可晓性电路板及制作的缺点，本实用新 型通过W上清洗系统，可有效地将激光加工完成预钻孔的聚酷亚胺膜清洗完成，W便于后 续金属化制成（如化学锻儀及电锻铜）。
【附图说明】
[0015] 图1为本实用新型卷对卷聚酷亚胺膜的清洗系统的第一实施例。
[0016] 图2为本实用新型卷对卷聚酷亚胺膜的清洗系统的第二实施例。
[0017] 图3为本实用新型卷对卷聚酷亚胺膜系统的清洗方法的流程的第一实施例。
[0018] 图4为本实用新型卷对卷聚酷亚胺膜系统的清洗方法的流程的第二实施例。
[0019] 图5为未实施膜面清洗而直接化锻。
[0020] 图6为未实施膜面清洗而直接化锻。
[0021] 图7为实施膜面清洗后进行化锻。
[0022] 【符号说明】
[0023] 放卷装置 30、40
[0024] 黏尘装置 31、41 阳0巧]干式清洁机 32、45 阳0%] 湿式清洁机 33、42
[0027] 超音波震荡装置34、43
[0028] 烘干处理机 35、44
[0029] 收卷装置 36、46
【具体实施方式】
[0030] 为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白，W下结合具体实施例，并 参照附图，对本实用新型进一步详细说明。
[0031] 本实用新型卷对卷聚酷亚胺膜的清洗系统，其中，该聚酷亚胺膜是已完成激光加 工形成多个预钻孔，在激光加工时将造成该聚酷亚胺膜表面及孔残留有杂质，而若后续欲 进行金属化制程（如化学锻儀及电锻铜）时，该杂质若未能有效予W清除，将对后续金属化 制程造成不利的影响，甚而影响到晓性电路板的质量。
[0032] 请参阅图1所示，本实用新型卷对卷聚酷亚胺膜清的清洗系统的第一实施例，其 依序包括有下列装置。
[0033] 一放卷装置30,其是用W将卷筒式聚酷亚胺膜进行放卷制程。
[0034]一黏尘装置31，其为一黏层轮，用W黏着膜面的较大的杂质。
[0035] 一膜面清洁装置，其依序为一干式清洁机32,再为一湿式清洁机33,其中，该湿 式清洁机33还包括有一超音波震荡装置34 ;干式清洁机32可为电晕（Corona)、电浆 (Plasma)及紫外线照射（UVirradiation)等物理性高能量处理机。
[0036] 烘干处理机35,其用W烘干该清洗完成的聚酷亚胺膜。及
[0037] 一收卷装置36,将烘干完的聚酷亚胺膜收起成卷。
[0038] 请参阅图2所示，本实用新型卷对卷聚酷亚胺膜的清洗系统的第二实施例，其依 序包括有下列装置。
[0039] 一放卷装置40,其用W将卷筒式聚酷亚胺膜进行放卷制程。
[0040]一黏尘装置41，其为一黏层轮，用W黏着膜面的较大的杂质。
[0041] 一膜面清洁装置，其是一湿式清洁机42,其中，该湿式清洁机42还包括有一超音 波震荡装置43。
[0042] 一烘干处理机44,其用W烘干该清洗完成的聚酷亚胺膜。及
[0043] 一干式清洁机45,其用W清洁该聚酷亚胺膜，其可为电晕（Corona)、电浆 (Plasma)及紫外线照射（UVirradiation)等物理性高能量处理机为之。及
[0044] 一收卷装置46,是将烘干完的聚酷亚胺膜收起成卷。
[0045] 请参阅图3所示，为本实用新型卷对卷聚酷亚胺膜系统的清洗方法的流程的第一 实施例：步骤S1 :首先，提供一卷筒式聚酷亚胺膜；步骤S2 :将该聚酷亚胺膜进行放卷制 程；步骤S3 :将聚酷亚胺膜进行一黏尘制程，W黏除较大颗粒的杂质；步骤S4 :该聚酷亚胺 膜进行一膜面清洁，其中该膜面清洁是先进行干式膜面清洁制程；步骤S5 :再将完成干式 膜面清洁的聚酷亚胺膜进行湿式膜面清洁制程；步骤S6 :进行烘干制程；步骤S7 :W及进 行一收卷制程。
[0046] 请参阅图4所示，为本实用新型卷对卷的聚酷亚胺膜系统的清洗方法的流程的第 二示意图，步骤S11 :首先，提供一卷筒式聚酷亚胺膜；步骤S12 :将该聚酷亚胺膜进行放卷 制程；步骤S13 :将聚酷亚胺膜进行一黏尘制程，W黏除较大颗粒的杂质；步骤S14 :该聚酷 亚胺膜进行一膜面清洁，其中该膜面清洁是先进行湿式膜面清洁制程；步骤S15 :进行烘干 制程；步骤S16 :进行干式膜面清洁制程；步骤S17 :W及进行一收卷制程。
[0047] 其中，该干式膜面清洁制程可W电晕（Corona)、电浆（Plasma)及紫外线照射 OJVirradiation)等物理性高能量制程为之，此不但可清洁膜面外，亦可具有不同程度的表 面改质，W增加其表面的附着力，而电晕方式更可活化膜面的亲水性，有利于后续的湿式膜 面清洗制程。
[0048] 其中，该湿式膜面清洁制程可为化学药液清洗，其还包括有一超音波震荡制程，可 促进化学药液对膜面污垢的处理效率。
[0049] 如下表格显示，经电晕处理可提升化儀作业的质量。 阳化0]
[0051] 图5为未实施膜面清洗而直接化锻，而有漏锻的情形发生。
[0052] 图6为未实施膜面清洗而直接化锻，而钻孔边缘有漏锻的情形发生。
[0053] 图7为实施膜面清洗后进行化锻，其外观正常，未有漏锻的情形。
[0054] W上所述，仅为本实用新型中的【具体实施方式】，但本实用新型的保护范围并不局 限于此，任何熟悉该技术的人在本实用新型所掲露的技术范围内，可理解想到的变换或替 换，都应涵盖在本实用新型的包含范围之内。
【主权项】
1. 一种卷对卷聚酰亚胺膜的清洗系统，其特征在于依序包括有： 一放卷装置，用以将卷筒式聚酰亚胺膜进行放卷； 一膜面清洁装置与放卷装置连接，用以清洁该聚酰亚胺膜；膜面清洁装置包括一干式 清洁机和一湿式清洁机，其依序为一干式清洁机，再为一湿式清洁机；或依序为一湿式清洁 机，再为一干式清洁机；及 一收卷装置与膜面清洁装置连接，用以将清洁的聚酰亚胺膜收起成卷。2. 如权利要求1所述的系统，其特征在于，于该膜面清洁装置前设置有一黏尘装置。3. 如权利要求2所述的系统，其特征在于，该黏尘装置为黏层轮。4. 如权利要求1所述的系统，其特征在于，该干式清洁机为电晕、电浆或紫外光照射的 高能量处理机。5. 如权利要求1所述的系统，其特征在于，该湿式清洁机为化学清洗装置。6. 如权利要求1所述的系统，其特征在于，该湿式清洁机还包括有一超音波震荡装置。7. 如权利要求1所述的系统，其特征在于，该膜面清洁装置后设有一烘干处理机。
【专利摘要】本实用新型是一种卷对卷聚酰亚胺膜的清洗系统，该清洗系统依序包括有一放卷装置，用以将卷筒式聚酰亚胺膜进行放卷；一膜面清洁装置与放卷装置连接，用以清洁该聚酰亚胺膜；膜面清洁装置包括一干式清洁机和一湿式清洁机，其可先为一干式处理机，再为一湿式处理机，或可先为一湿式处理机，再为一干式处理机；及一收卷装置与膜面清洁装置连接，用以将清洁的聚酰亚胺膜收起成卷。
【IPC分类】B08B3/08, B08B3/12, B08B7/00, B08B13/00, B08B7/04
【公开号】CN205008319
【申请号】CN201520299948
【发明人】陈宗仪, 滨泽晃久, 陈文钦, 邱建峰, 范士诚
【申请人】柏弥兰金属化研究股份有限公司, 达迈科技股份有限公司, 荒川化学工业股份有限公司
【公开日】2016年2月3日
【申请日】2015年5月11日