一种多晶硅管道类设备清洗装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于多晶硅清洗技术领域，涉及一种多晶硅管道类设备清洗装置。
【背景技术】
[0002]作为生产太阳能发电板和电子元件的基础材料多晶硅产品，近年来可谓大起大落。经过多年的发展，多晶硅产品和组件市场逐渐平稳回升。多晶硅生产过程中对设备的洁净度要求极其严格，尤其是油分子和重金属离子，太阳能级的多晶硅纯度要求9个9%，电子级更是达到11个9%，在庞大的设备系统中，哪怕几个PPM的油分子都会造成无法出产品的严重后果。因此，多晶硅设备的开车前清洗技术多年以来，代表着工业清洗行业的最高水平。
[0003]多晶硅设备投产前的清洗，不仅仅是代表清洗技术的高低，关键是对清洗企业的综合实力体现，不仅对清洗技术的苛刻要求，重要的是对清洗现场的管理能力。清洗工艺流程，清洗剂，清洗后的保护，再到安装公司对管道和设备的安装，都对最后多晶硅产品有着很大的影响。多晶硅设备中的管道清洗，有着非常高的洁净度要求，比如清洗脱脂后，用去离子的纯水进行冲洗管道表面其他离子，然后需要对管道用无油，无水，无尘的三无压缩空气进行干燥处理，最后成品保护处理。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型解决的技术问题在于提供一种多晶硅管道类设备清洗装置，能够实现浸泡式循环流水线作业，缩短多晶硅设备清洗的时间。
[0005]本实用新型是通过以下技术方案来实现:
[0006]—种多晶硅管道类设备清洗装置，包括通过循环栗与加热循环槽相连接的浸泡池，管道类设备浸泡在浸泡池中的清洗液中，管道类设备的一端还通过管道与浸泡池清洗液进入口相连接，另一端通过管道与浸泡池清洗液排出口相连接。
[0007]所述的循环栗包括加热循环槽出口的主栗以及管道中继的换向栗站。
[0008]所述的换向栗站包括通向各方向的换向栗相串接。
[0009]所述的浸泡池内设有多层间隔，所述的间隔为横向间隔或纵向间隔。
[0010]与现有技术相比，本实用新型具有以下有益的技术效果:
[0011]本实用新型提供的多晶硅管道类设备清洗装置，能够实现管道类设备的浸泡式循环流水线作业，实现包括管内壁、外壁全方位的清洗，使多晶硅设备的管道清洗产能提高3-5倍，能大大缩短多晶硅设备清洗的时间。而且还通过循环栗的串接，可以实现多个浸泡池的工作，提高了清洗液的利用率；并利用清洗池内的间隔可实现分批次、不同处理时间的管道清洗，便于管理。
【附图说明】
[0012]图1为本实用新型的结果示意图。
【具体实施方式】
[0013]下面结合附图对本实用新型做进一步详细描述，所述是对本实用新型的解释而不是限定。
[0014]参见图1，一种多晶硅管道类设备清洗装置，包括通过循环栗与加热循环槽相连接的浸泡池，管道类设备浸泡在浸泡池中的清洗液中，管道类设备的一端还通过管道与浸泡池清洗液进入口相连接，另一端通过管道与浸泡池清洗液排出口相连接。
[0015]所述的循环栗包括加热循环槽出口的主栗以及管道中继的换向栗站。
[0016]所述的换向栗站包括通向各方向的换向栗相串接。
[0017]所述的浸泡池内设有多层间隔，所述的间隔为横向间隔或纵向间隔。
[0018]本实用新型提供的多晶硅管道类设备清洗装置，能够实现管道类设备的浸泡式循环流水线作业，实现包括管内壁、外壁全方位的清洗，使多晶硅设备的管道清洗产能提高3-5倍，能大大缩短多晶硅设备清洗的时间。而且还通过循环栗的串接，可以实现多个浸泡池的工作，提高了清洗液的利用率；并利用清洗池内的间隔可实现分批次、不同处理时间的管道清洗，便于管理。
[0019]以上给出的实施例是实现本实用新型较优的例子，本实用新型不限于上述实施例。本领域的技术人员根据本实用新型技术方案的技术特征所做出的任何非本质的添加、替换，均属于本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种多晶硅管道类设备清洗装置，其特征在于，包括通过循环栗与加热循环槽相连接的浸泡池，管道类设备浸泡在浸泡池中的清洗液中，管道类设备的一端还通过管道与浸泡池清洗液进入口相连接，另一端通过管道与浸泡池清洗液排出口相连接。2.如权利要求1所述的多晶硅管道类设备清洗装置，其特征在于，所述的循环栗包括加热循环槽出口的主栗以及管道中继的换向栗站。3.如权利要求2所述的多晶硅管道类设备清洗装置，其特征在于，所述的换向栗站包括通向各方向的换向栗相串接。4.如权利要求1所述的多晶硅管道类设备清洗装置，其特征在于，所述的浸泡池内设有多层间隔，所述的间隔为横向间隔或纵向间隔。
【专利摘要】本实用新型公开了一种多晶硅管道类设备清洗装置，包括通过循环泵与加热循环槽相连接的浸泡池，管道类设备浸泡在浸泡池中的清洗液中，管道类设备的一端还通过管道与浸泡池清洗液进入口相连接，另一端通过管道与浸泡池清洗液排出口相连接。本实用新型能够实现管道类设备的浸泡式循环流水线作业，实现包括管内壁、外壁全方位的清洗，使多晶硅设备的管道清洗产能提高3-5倍，能大大缩短多晶硅设备清洗的时间。
【IPC分类】B08B9/02
【公开号】CN205008326
【申请号】CN201520627229
【发明人】刘辉, 李频
【申请人】陕西庄臣环保科技有限公司
【公开日】2016年2月3日
【申请日】2015年8月19日