一种固定式黏尘系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种膜材清洁系统，尤其涉及一种采用气压缸对黏尘轮加压的方式工作。
【背景技术】
[0002]现有市场上的黏尘系统主要有英国Teknek，采用黏尘轮和黏尘纸卷加压方式对膜材进行清洁，使用时打开气源开关，气压缸推动黏尘轮压向黏尘纸卷，压紧膜材进行黏尘作业。
[0003]现有黏尘系统，设备本身体型较大不易安装，空间狭小的设备处无法安装，黏尘纸卷属于消耗材消耗速度快且价格昂贵，黏尘轮黏度不可调使用比较局限，同时针对特定的设备需要新设计安装基座。
【实用新型内容】
[0004]为了解决以上技术问题，本实用新型提供一种固定式黏尘系统，包括:依次设置的黏尘轮组立加工件、黏尘轮安装基座和黏尘轮气动控制部件，所述黏尘轮组立加工件包括:第一黏尘轮加工件和设置有所述第一黏尘轮加工件上方的第一气缸;黏尘轮安装基座包括:第二黏尘轮加工件、辊轮以及设置在所述辊上的气缸;所述黏尘轮气动控制部件包括第三黏尘轮加工件、导轨导块、设置在所述导轨导块下方轴承以及设置在所述轴承上的第二气缸。
[0005]优选的，所述第一黏尘轮加工件采用第一主基座。
[0006]优选的，所述第二黏尘轮加工件包括第二主基座、设置在所述第一气缸和第二主基座间的轴承基座，所述轴承基座下方还设置有轴承端盖；所述第二主基座下方设置有侧边挡块，所述第二主基座与侧边挡块之间采用拉杆相连。
[0007]优选的，所述轴承下方设置有轴承基座和第二轴承端盖，所述第二轴承端盖通过紧固螺丝与所述导轨导块相连;所述导轨导块旁边还设置有导槽滑块。
[0008]本实用新型的有益效果是:第一、自行设计黏尘轮规格和选材，省去了耗材(黏尘纸卷)使用，节约了成本;第二、自行设计黏尘轮组立基座，缩小了黏尘轮体积，便于黏尘系统安装使用;第三、黏尘轮组立采用易拆式，便于根据膜材不同而更换不同黏度的黏尘轮。
【附图说明】
[0009]图1是本实用新型整体结构示意图。
【具体实施方式】
[0010]下面结合附图，对本实用新型的较优的实施例作进一步的详细说明:
[0011 ]如图1所示，固定式黏尘系统包括:主基座I ；轴承基座2，轴承3，辊轮4 ；轴承端盖5 ；紧固螺丝6，气缸7 ；气缸8 ；拉杆9 ；轴承端盖10 ；轴承基座11 ；侧边挡块12;导轨导块13;导槽滑块14;螺丝15;紧固螺丝16;主基座18。
[0012]本实用新型中的黏尘系统相对于市场上已有的黏尘系统，不需要使用黏尘纸卷，成本大大节省;缩小了体积，使用范围更加广泛。
[0013]以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明，不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种固定式黏尘系统，其特征在于，包括:依次设置的黏尘轮组立加工件、黏尘轮安装基座和黏尘轮气动控制部件，所述黏尘轮组立加工件包括:第一黏尘轮加工件和设置有所述第一黏尘轮加工件上方的第一气缸;黏尘轮安装基座包括:第二黏尘轮加工件、辊轮以及设置在所述辊上的气缸;所述黏尘轮气动控制部件包括第三黏尘轮加工件、导轨导块、设置在所述导轨导块下方轴承以及设置在所述轴承上的第二气缸。2.如权利要求1所述的固定式黏尘系统，其特征在于，所述第一黏尘轮加工件采用第一主基座。3.如权利要求1所述的固定式黏尘系统，其特征在于，所述第二黏尘轮加工件包括第二主基座、设置在所述第一气缸和第二主基座间的轴承基座，所述轴承基座下方还设置有轴承端盖；所述第二主基座下方设置有侧边挡块，所述第二主基座与侧边挡块之间采用拉杆相连。4.如权利要求1所述的固定式黏尘系统，其特征在于所述轴承下方设置有轴承基座和第二轴承端盖，所述第二轴承端盖通过紧固螺丝与所述导轨导块相连;所述导轨导块旁边还设置有导槽滑块。
【专利摘要】本实用新型提供一种固定式黏尘系统，包括：依次设置的黏尘轮组立加工件、黏尘轮安装基座和黏尘轮气动控制部件，所述黏尘轮组立加工件包括：第一黏尘轮加工件和设置有所述第一黏尘轮加工件上方的第一气缸；黏尘轮安装基座包括：第二黏尘轮加工件、辊轮以及设置在所述辊上的气缸；所述黏尘轮气动控制部件包括第三黏尘轮加工件、导轨导块、设置在所述导轨导块下方轴承以及设置在所述轴承上的第二气缸。本实用新型的有益效果是：第一、自行设计黏尘轮规格和选材，省去了耗材使用，节约了成本；第二、自行设计黏尘轮组立基座，缩小了黏尘轮体积，便于黏尘系统安装使用；第三、黏尘轮组立采用易拆式，便于根据膜材不同而更换不同黏度的黏尘轮。
【IPC分类】B08B7/00
【公开号】CN205165280
【申请号】CN201520874666
【发明人】李欢, 陈墙林, 覃云侠, 高兵, 宁安旺
【申请人】深圳市盛波光电科技有限公司
【公开日】2016年4月20日
【申请日】2015年11月4日