专利名称：一种水处理反渗透膜化学清洗方法
一种水处理反渗透膜化学清洗方法技术领域一种水处理反渗透膜化学清洗方法，涉及一种工业水处理过程中的水处理 反渗透膜的化学清洗方法。
技术背景在工业水处理过程中，反渗透膜表面在运行中由于给水带入物质的污染而 产生污垢，例如原水中所含微生物；生水水质泥沙污染；金属氧化物的水合物、 钙的沉淀物、有机物等，当反渗透膜污堵时，其产水量、脱盐率、回收率明显 下降，严重时，反渗透将无法投入运行，造成生产被迫停止，即使预处理设计 合理、运行正常， 一般半年至一年反渗透需清洗一次。清洗工作通常依赖厂家 专业人员完成，但受时间、空间、设备、条件等诸多因素限制，专业清冼常常 具有很大的滞后性，对生产造成严重的影响，且清冼费用高。发明内容本发明的目的就是针对上述已有技术存在的不足，提供一种不受生产、工 艺、设备、时间、空间限制的，能有效解决处理过程滞后性问题的水处理反渗 透膜化学清洗方法。本发明的目的是通过以下技术方案实现的。一种水处理反渗透膜化学清洗方法，其特征在于采用含有EDTA的NaOH溶 液对反渗透膜上的微生物、有机物和二氧化硅的污染物进行清洗；采用HCL溶 液对反渗透膜上的碳酸氢钙、碳酸氢镁垢进行清洗。本发明的一种水处理反渗透膜化学清洗方法，其特征在于所述的NaOH溶液 的pH值为11-12，溶液中含有重量比为0. 5%-1%的EDTA。本发明的一种水处理反渗透膜化学清洗方法，其特征在于所述的HCL溶液 的pH值为2-3。本发明的一种水处理反渗透膜化学清洗方法，其特征在于清洗过程依次为(1) 清洗液注入在温度为25-30。C、压力为0.1-0. 15 MPa条件下，控制 流量为正常流量一半注入清洗液；(2) 循环清洗在温度为25-30，压力为0. 1-0. 15MPa条件下进行反复循 环清洗60分钟；压力控制为产水侧无渗透液；(3) 浸泡浸泡1-15小时；(4) 清洗在常温、压力为0.35MPa、流量为正常流量1-1.5倍条件下， 清洗30-60分钟；(5) 冲掉清洗液在常温、压力为0.35MPa、条件下，反渗透产水或超滤 产水冲掉清洗液。本发明的一种水处理反渗透膜化学清洗方法，清洗微生物膜、有机物和二 氧化硅对反渗透膜的污染时，采用NaOH+EDTA溶液，其中配有部分螯合剂，对,丐、 镁、铁等污垢离子均有络合的作用，在PH值11-12条件下可除去部分碳酸氢f丐、 碳酸氢镁垢并剥离微生物黏膜、有机物等，起到协同处理的效果。采用HCL在 PH值2-3条件下进行清洗碳酸盐水垢、多数金属氧化物引起污堵。其清洗过程 和步骤相同。清洗时，将水处理反渗透设备完全打开一段浓水侧清洗阀及渗透液回流阀， 打开一段清洗液进口阀，关闭对应机组的其它阀门。低流量进药启动反渗透化学清洗泵，缓慢调节保安过滤器出口门用出口 阀控制流量，以低流量注入清洗液，并用低压排除压力容器内的余水，用仅够 补偿从进水到浓缩出水的压降的压力进行清洗。此压力应低于基本不产生渗透 液为宜，低压可使浓缩物在膜上再沉积减至最少，对于防止清洗液被稀释是必 不可少的。反复循环清洗清洗液将以浓縮液的流态和透过液的形态两种形式存在，反复循环这两种液体至清洗液水箱。循环一定时间后，取样测清洗液的浓度和ra值，如果PH值变化0.5左右，则应加试剂进行调节，若清洗液过于浑浊，则 应重新配制清洗液。浸泡关闭清洗泵，对清洗单元进行浸泡。
一般情况下，浸泡时间为1小时已足够，就污染情况而定，如果反渗透膜污染严重，则应浸泡在10-15小时 左右，在较长时间的浸泡期间，若反渗透清洗液温度下降，需用较慢的循环流 量注入温度较高的清洗液，保持恒定的浸泡温度对反渗透清洗大有好处。在浸 泡的同时也可采用振荡式冲洗法。大流量清洗在大流量的前提下进药和清洗30-60分钟，8英寸膜流量为 9. lm3/h乘以清洗段的膜元件个数。冲掉清洗液 一段、二段清洗完毕后，关闭清洗液进出口阀门，打开冲洗排 水门，采用过滤水箱水进行漂洗15-30分钟，时间的长短主要以冲洗水水样的ra值、电导率等为依据。此过程可有效地清洗剥落的污垢。清洗采取两种和两种以上药液配方，须将原药液冲洗干净后，再开始用另 一种药液清洗。动态清洗在一定的流速下依靠其动能会有利于污物冲刷和剥落，静态时对 于剥落的和未剥落的死角处又有机会溶解，动静交替的效果不容置疑。清洗后的反渗透装置在开始运行时，应先将运行初期的产品水排放掉，排 放时间至少为io分钟。采用本发明的方法，可以对氧化铝生产过程中的自备电站化学水处理反渗 透进行有效清冼，清冼效果良好，技术成熟可靠，操作方便易行。采用将高压 泵出口逆止倒装技术，成功地对污堵的保安过滤器滤芯进行清洗，延长了保安 过滤器滤芯的使用寿命，降低了生产成本。
具体实施方式
一种水处理反渗透膜化学清洗方法，采用含有EDTA的NaOH溶液对反渗透 膜上因微生物、有机物和二氧化硅等引起的污染物进行清洗；采用HCL溶液对 反渗透膜上因碳酸氢钙、碳酸氢镁等垢物进行清洗。所述的NaOH溶液的pH值 为11-12，溶液中含有重量比为0. 5%-1%的EDTA。所述的HCL溶液的pH值为2-3。 清洗过程依次为(1) 清洗液注入在温度为25-30°C、压力为0.1-1 MPa条件下，控制流 量为正常流量一半注入清洗液；(2) 循环清洗在温度为25-30，压力为5MPa条件下进行反复循环清洗 60分钟；压力控制为产水侧无渗透液；(3) 浸泡浸泡1-15小时;(4) 清洗在常温、压力为0.35MPa、流量为正常流量1-1. 5倍条件下，清 洗30-60分钟；(5) 冲掉清洗液在常温、压力为0.35MPa、条件下，用反渗透产水或超滤产 水冲掉清洗液。实施例1采用含有EDTA的NaOH溶液对反渗透膜上的微生物、有机物和二氧化硅的 污染物进行清洗；采用HCL溶液对反渗透膜上的碳酸氢钙、碳酸氢镁垢进行清 洗。清清过程中NaOH溶液的pH值为11，溶液中含有重量比为0. 5%的EDTA。所述的HCL溶液的pH值为2。其清洗过程依次为(1) 清洗液注入在温度为25。C、压力为O. lMPa条件下，控制流量为正 常流量一半注入清洗液；(2) 循环清洗在温度为25°C，压力为0. 1-0. 15MPa条件下进行反复循环 清洗60分钟；压力控制为产水侧无渗透液；(3) 浸泡浸泡1-15小时；(4) 清洗在常温、压力为0.35MPa、流量为正常流量1-1. 5倍条件下，清洗60分钟；(5) 冲掉清洗液在常温、压力为0.35MPa、条件下，用超滤产水或反渗透 冲掉清洗液。实施例2一种水处理反渗透膜化学清洗方法，NaOH溶液的pH值为12，溶液中含有 重量比为1。/。的EDTA。所述的HCL溶液的PH值为3。其清洗过程依次为(1) 清洗液注入在温度为3(TC、压力为O. 15 MPa条件下，控制流量为 正常流量一半注入清洗液；(2) 循环清洗在温度为3CTC，压力为0. 1-0. ]5MPa条件下进行反复循环 清洗60分钟；压力控制为产水侧无渗透液；(3) 浸泡浸泡1-15小时；(4) 清洗在常温、压力为0.35MPa、流量为正常流量1-1. 5倍条件下，清洗30分钟；(5) 冲掉清洗液在常温、压力为0.35MPa、条件下，用超滤产水或反渗透 冲掉清洗液。
权利要求
1.一种水处理反渗透膜化学清洗方法，其特征在于采用含有EDTA的NaOH溶液对反渗透膜上的微生物、有机物和二氧化硅的污染物进行清洗；采用HCL溶液对反渗透膜上的碳酸氢钙、碳酸氢镁垢进行清洗。
2. 根据权利要求1所述的一种水处理反渗透膜化学清洗方法，其特征在于 所述的NaOH溶液的pH值为11-12，溶液中含有重量比为0. 5%-1%的EDTA。
3. 根据权利要求1所述的一种水处理反渗透膜化学清洗方法，其特征在于 所述的HCL溶液的pH值为2-3。
4. 根据权利要求1所述的一种水处理反渗透膜化学清洗方法，其特征在于 清洗过程依次为(1) 清洗液注入在温度为25-30°C、压力为0. 1-0. 15MPa条件下，控制 流量为正常流量一半注入清洗液；(2) 循环清洗在温度为25-30，压力为5MPa条件下进行反复循环清洗 60分钟；压力控制为产水侧无渗透液；(3) 浸泡浸泡1-15小时；(4) 清洗在常温、压力为0.35MPa、流量为正常流量1-1. 5倍条件下，清 洗30-60分钟；(5) 冲掉清洗液在常温、压力为0.35MPa、条件下，用反渗透产水或超滤产 水冲掉清洗液。
全文摘要
一种水处理反渗透膜化学清洗方法，涉及一种工业水处理过程中的水处理反渗透膜的化学清洗方法。其特征在于采用含有EDTA的NaOH溶液对反渗透膜上的微生物、有机物和二氧化硅的污染物进行清洗；采用HCl溶液对反渗透膜上的碳酸氢钙、碳酸氢镁垢进行清洗。采用本发明的方法，可以对氧化铝生产过程中的自备电站化学水处理反渗透进行有效清冼，清冼效果良好，技术成熟可靠，操作方便易行。
文档编号B01D65/00GK101224391SQ200710175988
公开日2008年7月23日 申请日期2007年10月17日 优先权日2007年10月17日
发明者瑛 王 申请人:中国铝业股份有限公司