专利名称：一种电动加热生产高纯度氢气的膜分离器的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种结构紧凑、易于扩展，用于从含氢的合成其中分离、生产高纯度 氢气的膜分离器，特别涉及到采用电预热、恒温、易于加热、温控效果较好的膜分离器。 该膜分离器能从含氢混合气中生产高纯度的氢气。
背景技术：
目前世界上90%的氢气来自于碳氢化合物(天然气，煤，生物质等)的重整，气化或
裂解等化学过程后经过纯化得到，合成气的提纯是其中一个关键的工艺过程。可用的提纯
技术有变压吸附，高分子膜分离，钯膜分离，低温分离等。与其他分离技术相比，钯膜
分离可以生产只含ppb级别杂质的高纯度氢气，尤其适应燃料电池的要求；另外钯膜分离
器占地小，在小型化方面也较其他几种分离方法容易。
氢气在钯膜中的传递服从所谓的"溶解一扩散"(Solution-diffiision)机理，它包含以下几个过程氢气从边界层中扩散到钯膜表面；氢气在膜表面分解成氢原子；氢原子被钯膜溶
解；氢原子在钯膜中从高压侧扩散到低压侧；氢原子在钯膜低压侧重新合成为氢分子；氢
气扩散离开膜表面。根据上述理论，氢气在钯膜中的穿透率与膜的温度，厚度，合金成分，
以及氢气在膜两侧的分压有关，并可用Sievert'sLaw来表达-
式中
i :气体常数；r:温度;A膜面积;￡:膜厚度;￡:活化能;A:氢气高压侧分压;P/:氢 气低压侧分压;w:压力指数;k指数函数前系数；M:透过率。
应用钯膜分离生产氢气需要在钯膜的工作温度下进行，对钯膜分离器进行升温的方法 有好几种，如可以通过在钯膜组件上加工一些微尺度通道，通过这些微尺度通道可以采用 电加热或者热流体加热，该方法升温速率比较快，且可以进行很好的温度控制，但是在钯 膜组件上加工微尺度通道有一定的难度。另外为防止钯膜组件的温度散失可以在钯膜组件 的外侧放置绝热材料，如陶瓷等。对膜分离器则可以通过其辅助组件进行加热，该加热方式加工相对简单，应用起来也比较方便。
中国发明专利"一种利用微尺度通道传热的快速启动钯膜组件"(申请号 200710031743.5)公开了一种钯膜组件，该钯膜组件包括膜支撑框架、多孔金属支撑体及 钯合金膜，两多孔支撑体及钯合金膜分别依次位于膜支撑框架的两侧，膜支撑框架内含被 净化氢气气流通道和小尺度通道，所述小尺度通道为穿行于膜支撑框架内部的一个加热用 的气体的流通通道，其截面为矩形，截面尺寸0.2-1.0毫米x02-1.0毫米，连接小尺度的通 道入口和出口设在含膜支撑框架上；支撑体上氢气气流通道为矩形齿状，气体到出口设置 在支撑框架上端。该组件利用热流体在小尺度通道内的流动传热可以快速使钯合金膜组件 升温至所需要的工作温度(一般为450-600度)，进一步减少了升温时间，降低了钯合金膜 组件的金属含量。
中国发明专利"一种含有陶瓷隔热层及利用小尺度通道换热的钯膜组件"(申请号 200810029464.X)公开了另外一种钯膜组件。该组件在膜支撑框架两侧从内到外依次设有 多孔金属支撑片及钯膜，膜支撑框架内含被净化氢气流通通道和小尺度通道，小尺度通道 为穿行与膜支撑框架内部的一个加热用气体流通通道，其截面为矩形，连接小尺度通道的 通道入口和出口设在含膜支撑框架上；膜支撑框架氢气气流通道位于膜支撑框架中心两个 对称的矩形齿状组合，在两钯合金膜外侧分别设有陶瓷隔热层。该组件利用小尺度通道内 的高温或低温流体的流通传热以及陶瓷层的隔热作用，可使膜的运行温度异于组件外介质 的工作温度，从而保证即使膜在最佳运行温度(一般为450-600°0下运行，又使组件外的 制氢过程在其最佳温度下运行。
中国发明专利(200710031743.5、 200810029464.X)涉及的是在钯膜组件上添加微尺 度加热通道，此方法升温速率快，节约材料，但在钯膜组件上加工微尺度通道在加工技术 上还存在一定的困难。本专利针对这种情况，设计了一种简便的用电加热及恒温的膜分离 器。
实用新型内容
本实用新型针对化工生产及实验室中制得的含氢合成气，以钯膜组件为主要部件，以 电加热为主要加热方式，提供了一种结构紧凑、易于扩展、预热/恒温、效果较好的电动加 热钯膜分离器。
本实用新型的主要实施方案如下
种电动加热生产高纯度氢气的膜分离器，包括钯膜组件，合成气流通框架、盲板法兰、 石墨垫片、连接螺栓及螺母等辅助设备，其特征在于，膜分离器中的合成气流通框架四壁里面含有电加热丝。在两盲板法兰之间设有多个钯膜组件，盲板法兰与钯膜组件之间及钯 膜组件与钯膜组件之间设有合成气流通框架，盲板法兰与合成气流通框架之间及合成气流 通框架与钯膜组件之间安装石墨垫片。
所述合成气流通框架为方形框架，中间为空腔；方形框架与盲板法兰或钯膜组件形成 封闭的空间，在合成气流通框架设有含氢合成气导入和导出管，导入和导出管与钯膜组件 的气体流通空间连通；在合成气流通框架四周设有凸台；合成气流通框架的四壁设有凹槽， 凹槽内设有电加热丝，电加热丝的外面设有绝缘保温材料。
所述盲板法兰为方形板；在盲板法兰和钯膜组件与合成气流通框架连接的一面四周分 别设有凹槽，凹槽内设有石墨垫圈，合成气流通框架的凸台与盲板法兰和钯膜组件上的凹 槽密封连接，在盲板法兰的四周上开圆孔，用于组装时螺栓固定。
为了进一步实现本实用新型的目的，所述钯膜组件的膜支撑框架两侧分别有多孔烧结 金属支撑体和钯合金膜，膜支撑框架内含有被净化氢气气流流通通道，该通道为两对称的 矩形齿状组合，通道宽度为3-5毫米，通道之间的支撑框架为3-5毫米，气体导出口设置在 支撑框架上下两端，与气流通道连通；所述的膜支撑框架的四周加工一用于与合成气流通 框架密封的长方形凹槽，所述凹槽宽3 — 7毫米、深1一3毫米。
所述合成气流通框架为不锈钢方形框架，中间为空腔，四壁为凹槽；方形框架与盲板 法兰或钯膜组件形成封闭的空间，在合成气流通框架设有含氢合成气导入和导出管，在合 成气流通框架四周加工有凸台，凸台宽度比盲板法兰和钯膜组件的凹槽的宽度窄0.3 — 0.7 毫米，高度与盲板法兰和钯膜组件的凹槽深度相同，合成气流通框架的四壁加工成长方形 凹槽(导入和导出管处除外)，凹槽的宽度为3-5毫米，深度为3-5毫米，凹槽内放置电加 热丝，电加热丝的功率根据所生产氢气的量决定，电加热丝的外面放置绝缘保温材料。
所述盲板法兰和钯膜组件与合成气流通框架连接的一面四周分别设有的凹槽为长方形 凹槽，所述凹槽宽度为3—7毫米、深度为1一3毫米。
所述合成气流通框架的凸台宽度比盲板法兰和钯膜组件的凹槽的宽度窄0.3—0.7毫 米，高度与盲板法兰和钯膜组件的凹槽深度相同。
所述石墨垫圈为由耐高温的石墨制成的长方形垫圈，宽度与盲板法兰和钯膜组件的凹 槽的宽度相同，厚0.3-0.5毫米。
钯膜分离器组装完毕后，外面包覆保温材料以减少散热损失。保温材料可选用耐高温 的陶瓷纤维或其他材料，材料厚度以保证保温材料外表面温度不高于环境温度10 aC计算 确定。本实用新型中对分离器采用电加热，易于在实验室内实现，升温速率较快，且温度易 于控制。
图1.生产高纯度氢气的膜分离器组装图。 图2.图1的局部放大图。 图3.钯膜组件半剖图。 图4.图3中钯膜组件A-A剖面图。 图5.图3中钯膜组件B-B剖面图。 图6-l.合成气流通框架右视图。 图6-2.图6-1合成气流通框架D-D剖面图。 图6-3.图6-2合成气流通框架C-C剖面图。 图7-L合成气流通框架组装右视图。 图7-2.图7-1合成气流通框架组装D-D剖面图。 图7-3.图7-2合成气流通框架组装C-C剖面图。 图8-1.盲板法兰结构示意图。 图8-2.图8-l盲板法兰结构E-E剖面图。
具体实施方式
以下结合附图和具体实例对本实用新型做进一步说明。需要说明的是，所举的实例， 其作用只是进一步说明本实用新型的技术特征，而不是限定本实用新型。
如图l、 2所示， 一种电动加热生产高纯度氢气的膜分离器，包括钯膜组件l、合成气 流通框架2、盲板法兰3、石墨垫圈4、螺栓及螺母5、电加热丝205。在两盲板法兰3之 间设有多个钯膜组件1,盲板法兰3与钯膜组件1之间及钯膜组件与钯膜组件之间设有合 成气流通框架2，用合成气流通框架2将两者分隔，为保持密封，盲板法兰与合成气流通 框架之间及合成气流通框架与钯膜组件之间安装石墨垫片。钯膜组件的数量可根据所需的 氢气产量、分离器的操作条件(温度、压力等)、钯膜的面积、厚度等几何尺寸来决定。若 整个装置所需要的钯膜组件的数量为N，则所需要的合成气流通框架的数量为N+1，石 墨垫片的数量为2N+3，盲板法兰数量为2。为给膜分离器加热，在合成气流通框架四壁 的凹槽内放置电加热丝205，电加热丝的功率根据膜分离器的大小进行选择。例如当合成 气流通框架数为2个，钯膜组件数为1个，盲板法兰数为2，合成气流通框架的尺寸为 82x186x6-60x164x6毫米，钯膜组件的尺寸为82x186x6毫米，盲板法兰的尺寸为122x226x6
6毫米，保温材料的厚度是50毫米，要求保温材料的外温是50度，温度从25'C升高到600'C ， 升温速率为每分钟3度，则升温阶段所需的电加热丝的功率为120W，恒温阶段所需的电加 热丝的功率为25W。如果合成气流通框架数为4，钯膜组件数为2，盲板法兰数为2，则升 温阶段所需的电加热丝的功率为150W，恒温阶段所需的电加热丝的功率为32W。合成气 流通框架，石墨垫片、盲板法兰，都通过连接螺栓和螺母固定。加热以及恒温阶段的控制 用温度控制箱。目前温度控制箱可采用手动控制、自动控制等。
如图3 5所示，钯膜组件1包括膜支撑框架101、多孔烧结金属支撑体105、钯合金膜 106及氢气导出管104。膜支撑框架101两侧分别有多孔烧结金属支撑体105和钯合金膜 106，膜支撑框架101内含有被净化氢气气流流通通道102，该通道为两对称的矩形齿状组 合，通道宽度为3-5毫米，通道之间的支撑框架为3-5毫米，气体导出口 104设置在支撑框 架101上下两端，与气流通道104连通。支撑框架101采用不锈钢，多孔烧结金属支撑体 105采用烧结不锈钢。支撑框架与烧结金属之间采用焊接连接。钯合金膜106釆用钯银合 金膜，膜的厚度为10-50微米。钯合金膜106与金属支撑框架101和多孔烧结金属支撑体 105之间采用金属扩散的方法密封连接在一起，该方法是将该组件至于高温高压环境下， 使得钯合金膜106的分子与金属支撑框架101的分子相互扩散，从而达到密封的效果。膜 支撑框架IOI四周加工宽为3—7毫米，优选5毫米，深为1一3毫米，优选l毫米的凹槽 103;组装时，槽103内加厚度0.3-0.5毫米宽度为5毫米的石墨垫片4，与合成气流通框架 2的凸台203对接(图2.)。
如图6-l、 6-2、 6-3所示，合成气流通框架2为一不锈钢方形框架，中间为空腔、四壁 为一长方形凹槽。安装后，与其两侧的盲板法兰及钯膜组件形成封闭的空间201，合成气 可在此空间流动，并有一定的停留时间。在合成气流通框架2两端焊接含氢合成气导入和 导出管202，导入和导出管与气体流通空间201连通。在框架两侧加工一宽4.5毫米、高1 毫米的凸台203，用于合成气流通框架2与钯膜组件1或盲板法兰3安装组合时密封(图2)。 如图7-1、 7-2、 7-3所示，在合成气流通框架的四壁加工成宽度为3-5毫米、深度为3-5毫 米的长方形凹槽204，凹槽内放置电加热丝205，用来对膜分离器的预热以及恒温，电加热 丝的周围填充绝缘保温材料206，减小膜分离器的热损失和膜分离器的导电。
如图8-l、 8-2所示，盲板法兰3为一方形不锈钢板301，厚度为15毫米。在盲板法兰 的四周上开圆孔303，用于组装时螺栓5固定(图1)。在盲板法兰3与合成气流通框架2 连接的一面加工宽为5毫米，深为1毫米的长方形凹槽302;在组装时(图l)，凹槽302 内加厚度0.3-0.5毫米宽度为5毫米的石墨垫圈4，再与合成气流通框架2的凸台203密封。石墨垫圈4为一长方形垫圈，由耐髙温的石墨制成。该垫圈宽5毫米，厚0.3-0.5毫米。
钯膜的适宜工作温度是450—600°C,钯膜分离器组装完毕后，外面包覆保温材料以减 少散热损失。保温材料可选用耐高温的陶瓷纤维或其他材料，材料厚度以保证保温材料外 表面温度不高于环境温度10°C计算确定。
如图1 2所示，含有2个钯膜组件的钯膜分离器的组装顺序为盲板法兰、石墨垫片、 合成气流通框架，石墨垫片、钯膜组件、石墨垫片、合成气流通框架，石墨垫片、钯膜组 件、石墨垫片、合成气流通框架，石墨垫片、盲板法兰；整个装置的部件通过连接螺栓及 螺母固定。当需要增加钯膜组件数量时，可在盲板法兰内依次添加石墨垫片、合成气流通 框架，钯膜组件即可。
工作时，首先通过电加热丝205对膜分离器进行预热，当温度升高至钯膜的工作温度 (一般在450-600eC)时，将高压的含氢混合气体由合成气流通框架2的导入管202引入， 在含氢气体流通通道中，混合气体中的氢气与钯膜106接触，通过钯膜106、烧结金属105 传递到氢气流通通道102，再由氢气引出管104引出钯膜分离器，成为高纯度的产品氢气。 膜分离器的预热以及恒温阶段的温度控制有温度控制箱控制。
在通常的膜分离器的加热方式一般采用高温的惰性气体或者是在钯膜组建内部加工为 尺度孔道，采用高温惰性气体加热膜分离器时在实验室内很难进行，并且温度不容易控制， 由于采用的是通过合成气流通框架的导入管引入高温惰性气体，在氢气分离提纯的过程中 不能进行热量的即时补充。本实用新型采在合成气流通框架的四壁加工一定宽度和一定深 度的长方形凹槽，凹槽内放置电加热丝，用电加热对膜分离器预热和恒温，易于在实验室 内实现，升温速率较快，且温度易于控制。
权利要求1、一种电动加热生产高纯度氢气的膜分离器，其特征在于在两盲板法兰之间设有多个钯膜组件，盲板法兰与钯膜组件之间及钯膜组件与钯膜组件之间设有合成气流通框架，盲板法兰与合成气流通框架之间及合成气流通框架与钯膜组件之间安装石墨垫片；所述合成气流通框架为方形框架，中间为空腔；方形框架与盲板法兰或钯膜组件形成封闭的空间，在合成气流通框架设有含氢合成气导入和导出管，导入和导出管与钯膜组件的合成气流通框架中的空腔连通；在合成气流通框架四周设有凸台，四壁设有凹槽，凹槽内设有电加热丝，电加热丝的外面设有绝缘保温材料；所述盲板法兰为方形板；在盲板法兰和钯膜组件与合成气流通框架连接的一面四周分别设有凹槽，凹槽内设有石墨垫圈，合成气流通框架的凸台与盲板法兰和钯膜组件上的凹槽密封连接，在盲板法兰的四周上开圆孔，用于组装时螺栓固定。
2、 根据权利要求l所述的电动加热生产高纯度氢气的膜分离器，其特征在于所述钯膜组件的膜支撑框架两侧分别有多孔烧结金属支撑体和钯合金膜，膜支撑框架内含有被净化氢气气流流通通道，该通道为两对称的矩形齿状组合，通道宽度为3-5毫米，通道之间的支撑框架为3-5毫米，气体导出口设置在支撑框架上下两端，与气流通道连通；所述的膜支撑框架的四周加工一用于与合成气流通框架密封的长方形凹槽，所述凹槽宽3 — 7毫米、深1一3毫米。
3、 根据权利要求l所述的电动加热生产高纯度氢气的膜分离器，其特征在于所述合成气流通框架四壁设置的长方形凹槽，凹槽的宽度为3-5毫米，深度为3-5毫米。
4、 根据权利要求l所述的电动加热生产高纯度氢气的膜分离器，其特征在于所述盲板法兰和钯膜组件与合成气流通框架连接的一面四周分别设有的凹槽为长方形凹槽，所述凹槽宽度为3—7亳米、深度为1一3毫米。
5、 根据权利要求l所述的电动加热生产高纯度氢气的膜分离器，其特征在于所述合成气流通框架的凸台宽度比盲板法兰和钯膜组件的凹槽的宽度窄0.3—0.7毫米，高度与盲板法兰和钯膜组件的凹槽深度相同。
6、 根据权利要求l所述的电动加热生产高纯度氢气的膜分离器，其特征在于所述石墨垫圈为由耐高温的石墨制成的长方形垫圈，宽度与盲板法兰和钯膜组件的凹槽的宽度相同，厚0.3-0.5毫米。
专利摘要本实用新型公开了一种电动加热生产高纯度氢气的膜分离器，该膜分离器在两盲板法兰之间设有多个钯膜组件，盲板法兰与钯膜组件之间及钯膜组件与钯膜组件之间设有合成器流通框架，盲板法兰与合成气流通框架之间及合成气流通框架与盲板法兰之间安装石墨垫片；合成气流通框架为方形框架，中间为空腔；方形框架与盲板法兰或钯膜组件形成封闭的空间，在合成气流通框架设有含氢合成气导入和导出管；在合成气流通框架四周设有凸台，四壁设有凹槽，凹槽内设有电加热丝，电加热丝的外面设有绝缘保温材料。本实用新型将含氢合成气直接引入钯膜组件两侧，体积小，拆卸方便，升温速率快、温控效果好、可进行连续性生产高纯度氢气、并且氢气的透过率大。
文档编号B01D53/22GK201300029SQ20082020274
公开日2009年9月2日 申请日期2008年10月31日 优先权日2008年10月31日
发明者于金凤, 解东来 申请人:华南理工大学