专利名称：微流体设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种微流体设备，具体涉及一种具有微泵系统的微流体设备。
背景技术：
例如，专利文献I中公开了微流体设备的一例一具有微泵系统的微量全分析系统。专利文献I的微泵系统由下述基板构成，所述基板由微细流路和填充有气体生成材料的微泵室形成。在专利文献I的微泵系统中，通过 对微泵室照射光线、施加热量等而由气体生成材料产生气体，从而使微泵系统运行。因此，专利文献I的微泵系统无须复杂的机械结构。因而，通过采用专利文献I中公开的结构，可期待微泵系统的小型化及制造的简易化。专利文献I :日本特开2005-297102号公报
发明内容
可是，就专利文献I公开的微泵系统而言，必须要在基板内形成微泵室，而这将导致微泵系统的制造工序变得繁琐；并且，该微泵系统也很难充分满足进一步小型化的要求。本发明鉴于上述问题点而完成，目的在于对于具有微泵系统的微流体设备，在简化其制造工序的同时使其进一步小型化。本发明的微流体设备具有气体生成部。气体生成部具有基板和气体生成层。基板具有第I主面和第2主面。基板上形成有在第I主面上开口的微流路。气体生成层设置在基板的第I主面上，并覆盖其开口。气体生成层接受外部刺激而产生气体。在本发明的某个特定实施方式中，气体生成层是贴合在第I主面上的气体生成膜。在本发明的其他特定实施方式中，气体生成部还具有隔离层，所述隔离层设置在气体生成层的与基板侧相反的一侧的表面。在本发明的另一特定实施方式中，设置隔离层使之覆盖气体生成层，且该隔离层在气体生成层的整个外周上与基板相接合。在本发明的其他特定实施方式中，在气体生成层中形成有连通孔，所述连通孔的一端和开口相连，另一端和与基板相反一侧的表面相连。在本发明的另外一个特定实施方式中，隔离层为玻璃制造或树脂制造的膜或基板。在本发明的其他特定实施方式中，其基板中设置有多个微流路，其气体生成层包含气体生成剂，该气体生成剂经光照而产生气体，在微流体设备的平面视野中还具有遮光层，该遮光层设置在相邻微流路的开口之间，对气体生成层进行遮光。在本发明的其他实施方式中，气体生成层贴合在基板上，且在气体生成层的基板侧表面及基板的第I主面中的至少一面上形成有与开口相连的沟或孔。沟或孔优选从开口沿基板的板面方向延伸。在上述微流体设备中形成有多个沟或孔，多个沟或孔优选从开口沿基板的板面方向呈放射状延伸。在本发明的其他特定实施方式中，气体生成层的基板侧表面及基板的第I主面中的至少一面为粗糙面。气体生成层中优选包含接受外部刺激而产生气体的气体生成剂。所述外部刺激优选为光。气体生成剂可包含偶氮化合物及叠氮化合物中的至少一种。气体生成层中还优选包含粘合剂树脂。在本发明的另一特定实施方式中，微流路中形成有多个与第I主面相对的开口。在本发明的其他特定实施方式中，基板中形成有多个微流路，且所述多个微流路 相互连接。发明的效果在本发明中，由于是从设置于基板上的气体生成层向微流路供应气体，因而在具有微泵系统的微流体设备中，可同时期待制造工序的简化和进一步的小型化。
图I为第I实施方式的微流体设备的截面图。图2为第2实施方式的微流体设备的截面图。图3为第3实施方式的微流体设备的截面图。图4为第4实施方式的微流体设备的截面图。图5为第5实施方式的微流体设备的截面图。图6为第5实施方式的气体生成层的平面图。图7为变形例I中的气体生成层的平面图。图8为变形例2的微流体设备的截面图。图9为变形例2中的基板的平面图。图10为变形例3的微流体设备的截面示意图。图11为示出变形例3中的微流路的结构的平面示意图。图12为示出变形例4中的微流路的结构的平面示意图。图13为示出变形例5中的微流路的结构的平面示意图。图14为示出变形例6中的微流路的结构的平面示意图。图15为示出变形例7中的微流路的结构的平面示意图。图16为示出变形例8中的微流路的结构的平面示意图。图17为示出变形例9中的微流路的结构的平面示意图。图18为示出变形例10中的微流路的结构的平面示意图。图19为示出变形例11中的微流路的结构的平面示意图。图20为变形例11中的微流体设备的平面示意图。图21为示出变形例12中的微流路的结构的平面示意图。图22为变形例12的微流体设备的平面示意图。图23为变形例13的微流体设备的截面图。图24为变形例14的微流体设备的截面图。
符号说明I....微流体设备2. 微泵系统3——气体生成部10 …基板IOa. 第 I 主面IOb. 第 2 主面IOc.沟 11....第 I 基板12....第 2 基板13. 第 3 基板14 …微流路14a...开口14b. 主流路14c...副流路20——气体生成层20a...连通孔20b. 沟21....隔离层21a...外周部22 …遮光层23____光30....气体排出口31.. 微流路群32....微流路组33、34. 粘接剂层35....通孔发明的
具体实施例方式(第I实施方式)以下，以图I所示的微流体设备I为例对本发明的优选实施方式的一例进行说明。其中，微流体设备I仅是所举出的一实例，本发明并不局限于微流体设备I。图I为微流体设备I的截面图。微流体设备I只要是具有微流路的设备则没有特殊限制。微流体设备I可以是用来进行例如重金属分析、生化分析的微量分析设备。当微流体设备I为微量分析设备时，微流体设备I也可以是进一步具有与微流路14相连通、在基板10上形成的检测部及分析部的设备。需要说明的是，在本说明书中，所述“微流路”指的是形成为下述形状尺寸的流路，所述形状尺寸会使得在微流路中流动的液体强烈地受到表面张力和毛细管现象的影响而显示出与在常规尺寸的流路中流过的液体不同的行为。即，“微流路”指的是形成为下述形状尺寸的流路，所述形状尺寸是指在微流路中流过的液体会出现所谓微观效果的形状尺寸。而在何种形状尺寸的流路中才会显示出微观效果，则是根据导入到流路中的液体的物性不同而不同的。例如，当微流路的横截面为矩形时，一般要将微流路的横截面的高和宽中较小者设定在5mm以下、优选500 u m以下、更优选200 y m以下。当微流路的横截面为圆形时，一般要将微流路的直径设定在5mm以下、优选500 iim以下、更优选200 以下。如图I所示，微流体设备I中具有微泵系统2。微泵系统2中形成有气体生成部
3。气体生成部3具有基板10、气体生成层20、隔离层21。基板10中具有第I主面IOa和第2主面10b。其中，第I主面IOa不包含开口 14a的内周面。即，当主面的表面上形成有凹部时，凹部的表面不包括在该主面内。基板10上形成有微流路14。微流路14在基板10的第I主面IOa上具有开口。换言之，微流路14上形成有在第I主面IOa上开口的开口 14a。需要说明的是，在本实施方 式中，是针对微流路14仅在第I主面IOa上开口的实例进行说明。但微流路14也可以同时在第I主面IOa和第2主面IOb这两个主面上开口。对于基板10的材质并无特殊限制。基板10可以由例如玻璃制成，也可以由树脂制成。具体而言，例如，基板10可以由有机硅氧烷化合物制成。作为有机硅氧烷化合物的具体实例，可列举例如聚二甲基娃氧烧(PDMS :poly(dimethylsiloxane))、聚甲基氢化娃
氧烧等。对于通过向成形模具中注入树脂后使其固化来制作基板10的情况，基板10尤其优选实质上由PDMS制成。由于由PDMS制成的部件具有高转印性，因此，通过使用PDMS，可制作出具有高形状精密度的基板10。另外，由于PDMS的透光性优异，因而可获得具有高透光性的基板10。在本实施方式中，基板10由第I基板11、第2基板12、第3基板13构成。其中，基板10可以由一片基板构成，也可以由2片以上的基板构成。基板10的第I主面IOa优选经过增粘(r >力一)处理。通过预先对基板10的第I主面IOa实施增粘处理，可抑制在基板10和气体生成层20之间产生气体、或产生的气体积留于基板10和气体生成层20之间。作为上述增粘处理，可列举例如对基板10的第I主面IOa进行电晕放电处理或涂布表面处理剂的处理。其中，作为表面处理剂，可列举例如聚氨酯树脂、(甲基)丙烯酸酯共聚物、含1，3共轭二烯单体的聚合物或共聚物、含1，3共轭二烯单体的低聚物或共聚低聚物、含1，3共轭二烯单体衍生物的聚合物或共聚物、含1，3共轭二烯单体衍生物的低聚物或共聚低聚物、或它们的混合物等。在基板10的第I主面IOa上，设置有气体生成层20。在本实施方式中，气体生成层20贴合在基板10上。开口 14a被该气体生成层20所覆盖。气体生成层20的厚度优选为I ii m 200 u m、更优选5 ii m 100 u m、进一步优选10 ii m 50 ii m。当气体生成层20的厚度在I U m以下时，会导致其接受外部刺激而产生的气体量减少，或者，对于粘合剂树脂中包含粘接剂树脂的情况，可能会导致该气体生成层20与基板10的粘接性不足。另外，当气体生成层20的厚度在200 iim以上时，产生的气体到达基板10所需要的时间有增加的倾向。气体生成层20是通过接受外部刺激而产生气体的层。气体生成层20中至少含有通过接受外部刺激而生成气体的气体生成剂。在本实施方式中,气体生成层20中包含气体生成剂和粘合剂。气体生成层20中还可以进一步包含各种添加剂。需要指出的是，在本发明中，所述的外部刺激是指，为了使气体生成部发生气体生成反应而从外部供给的物理或化学刺激。即，所述外部刺激是作用于气体生成部而使得从气体生成部生成气体的刺激。作为外部刺激的具体实例，可列举光或热等能量、酸或碱等物质。即，“接受外部刺激”包括照射光或热等能量、供给酸或碱等物质。外部刺激只要是可使气体生成部发生气体生成反应的刺激则并无特殊限制，优选为光。由于光照的开/关及照射光的强度调整容易进行，因此，当外部刺激为光时，容易对气体生成进行控制，并且易于获得气体生成的高响应性。另外，当外部刺激为光时，由于对于基板10的热耐久性要求降低，因此可增加基板10的选择自由度。气体生成剂也可以仅由通过接受外部刺激而产生气体的材料构成。另外，气体生成剂中还可以含有通过接受外部刺激而产生另一刺激的刺激发生剂、和通过接受由该刺激发生剂产生的刺激而产生气体的刺激气体生成剂。 气体生成剂中可包含例如通过接受光或热而产生酸或碱的材料、和再由该材料产生的酸或碱作用下产生气体的材料。更具体而言，气体生成材料中可以包含经光照而产生酸的光产酸剂、以及通过与酸接触而产生气体的酸刺激产气剂。另外，气体生成材料中还可以包含经光照而产生碱的光产碱剂、以及通过与碱接触而产生碱性气体的碱增殖剂。作为照射至气体生成层20的光，只要是气体生成剂或增敏剂所吸收的波段的光即可，则没有特殊限制，优选为波长IOnm 400nm的紫外线及与紫外线接近的400nm 420nm的蓝色光,更优选为300nm 400nm的近紫外线。对于用来对气体生成层20实施光照的光源并无特殊限制。作为光源的具体实例，可列举例如低压水银灯、中压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、发光二极管(LED)、全固态激光器、化学灯、黑光灯、微波激发水银灯、金属卤化物灯、钠灯、卤素灯、氙灯、荧光灯等。其中，优选使用放热少且廉价的发光二极管(LED)等发光元件作为光源。作为气体生成剂的具体实例，可列举例如偶氮化合物、叠氮化合物等。偶氮化合物可以是偶氮酰胺(azoamide)化合物。作为偶氮化合物的具体实例，可列举例如2，2’_偶氮双(N-环己基-2-甲基丙酰胺)、2，2’-偶氮双[N-(2-甲基丙基)-2-甲基丙酰胺]、2，2’-偶氮双(N- 丁基-2-甲基丙酰胺)、2,2’ -偶氮双[N_(2_甲基乙基)-2_甲基丙酰胺]、2,2’ -偶氮双(N-己基-2-甲基丙酰胺)、2，2’ -偶氮双(N-丙基-2-甲基丙酰胺)、2，2’ -偶氮双(N-乙基-2-甲基丙酰胺)、2，2’ -偶氮双{2-甲基-N-[l，l-双(羟甲基)-2-羟乙基]丙酰胺}、2，2’ -偶氮双{2-甲基-N-[2-(l-羟丁基)]丙酰胺}、2，2’ -偶氮双[2-甲基-N-(2-羟乙基)丙酰胺]、2,2’ -偶氮双[N_(2_丙烯基)-2_甲基丙酰胺]、2,2’ -偶氮双[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二盐酸盐、2，2’ -偶氮双[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二盐酸盐、2，2’ -偶氮双[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二硫酸盐二水合物、2，2’ -偶氮双[2-(3，4，5，6-四氢嘧啶-2-基)丙烷]二盐酸盐、2，2’_偶氮双{2-[1-(2_羟乙基)-2-咪唑啉-2-基]丙烧} 二盐酸盐、2, 2’-偶氮双[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烧]、2, 2’-偶氮双(2-甲基丙酸脉)盐酸盐、2, 2’ -偶氮双(2-氨基丙烧)二盐酸盐、2, 2’ -偶氮双[N- (2-羧酸基)~2~甲基-丙酰脒]、2，2’ -偶氮双{2-[N-(2-羧基乙基)脒]丙烷}、2，2’ -偶氮双(2-甲基丙酰胺肟)、2，2’ -偶氮双(2-甲基丙酸甲酯)、2，2’ -偶氮双(异丁酸甲酯)、4，4’ -偶氮双(4-氰基碳酸)、4，4’_偶氮双(4-氰基戊酸)、2，2’-偶氮双(2，4，4_三甲基戊烷)等。这些偶氮化合物可通过接受具有特定波长范围的光、热等刺激而产生氮气。作为叠氮化合物的具体实例，可列举例如3_叠氮甲基-3-甲基氧杂环丁烷、对苯二甲酰叠氮、具有叠氮基的聚合物等。作为具有叠氮基的聚合物的具体实例，可列举缩水甘油基叠氮聚合物等。缩水甘油基叠氮聚合物可由例如对叔丁基苯酰叠氮和3-叠氮甲基-3-甲基氧杂环丁烷经开环聚合而得到。这些叠氮化合物通过接受特定波长范围的光、热、超声波及冲击等刺激而发生分解，从而产生氮气。需要说明的是，由于偶氮化合物在受到冲击时不 会产生气体，因此其操作简单。另夕卜，由于偶氮化合物也不会发生链锁反应而爆发性地产生气体，因此还可以通过停止光照来中止气体生成。由此，可通过使用偶氮化合物作为气体生成剂来对气体生成量进行容易地控制。偶氮化合物等气体生成剂优选具有高耐热性。具体而言，气体生成剂的10小时半衰期温度优选在80°C以上。通过使气体生成剂具有高耐热性，即使在高温环境下也能够适宜地使用微流体设备I。此外，还可以抑制微流体设备I在贮藏时发生劣化。作为10小时半衰期温度在80°C以上的偶氮化合物，可列举下述通式(3)表示的偶氮酰胺化合物等。下述通式(3)表示的偶氮酰胺化合物不仅具有优异的耐热性，而且在丙烯酸烷基酯聚合物等具有粘合性的聚合物中还具有优异的溶解性。由此，可抑制偶氮酰胺化合物在粘接剂树脂中形成微粒。[化学式I]
■ —
R6 O H
I Il I B
==N—C-C-N-R8(3)
I
R7
--2通式(3)中，R6及R7彼此独立地代表低级烷基，R8代表碳原子数为2以上的饱和烷基。其中，R6和R7可以相同也可以不同。作为上述通式(3)表示的偶氮酰胺化合物的具体实例，可列举例如2，2’_偶氮双(N-环己基-2-甲基丙酰胺)、2，2’-偶氮双[N-(2-甲基丙基)-2-甲基丙酰胺]、2，2’-偶氮双(N-丁基-2-甲基丙酰胺)、2，2’ -偶氮双[N-(2-甲基乙基)-2-甲基丙酰胺]、2，2’_偶氮双(N-己基-2-甲基丙酰胺)、2，2’-偶氮双(N-丙基-2-甲基丙酰胺)、2，2’-偶氮双(N-乙基-2-甲基丙酰胺)、2，2’-偶氮双{2-甲基-N-[l，l-双(羟甲基)-2-羟乙基]丙酰胺}、2，2’_偶氮双{2-甲基-N-[2-(I-羟丁基)]丙酰胺}、2，2’_偶氮双[2-甲基-N-(2-轻乙基)丙酰胺]、2,2’ -偶氮双[N_(2_丙烯基)-2_甲基丙酰胺]等。其中，由于2，2’ -偶氮双(N-丁基-2-甲基丙酰胺)及2，2’ -偶氮双[N_(2_丙烯基)-2-甲基丙酰胺]在溶剂中的溶解性尤为优异，因此优选使用。对于光产酸剂并无特殊限制。作为光产酸剂，可使用例如以往公知的光产酸剂。
作为光产酸剂，优选使用选自苯醌二叠氮化合物、鎗盐、磺酸酯类及有机卤化物中的至少一种，更优选使用选自磺酸鎗盐、苄磺酸酯、卤化异氰尿酸酯及双芳基磺酰二偶氮甲烷中的至少I种。这些光产酸剂可在光照条件下发生高效分解，进而产生磺酸等强酸。因此，通过使用这些光产酸剂，可使气体的生成效率进一步提高。作为苯醌二叠氮化合物，可列举例如由1，2_萘醌-2- 二叠氮-5-磺酸或1，2_萘醌-2- 二叠氮-4-磺酸和低分子芳香族氢醌化合物形成的酯。作为低分子芳香族氢醌化合物，可列举例如1，3，5_三羟基苯、2，3，4_三羟基二苯甲酮、2，3，4，4’ -四羟基二苯甲酮、甲酚等。这其中，尤其优选使用1，2-萘醌-2-二叠氮-5-磺酸对甲酚酯。作为鎗盐，可列举三苯基锍六氟锑酸盐、三苯基锍六氟磷酸盐等。作为磺酸酯类，可列举双芳基磺酰二偶氮甲烷、9，10- 二甲氧基蒽-2-磺酸对硝基苄酯、9，10-二甲氧基蒽-2-磺酸间硝基苄酯、9，10-二甲氧基蒽-2-磺酸间/对二硝基苄酯、9，10- 二甲氧基蒽-2-磺酸对氰基苄酯、9，10- 二甲氧基蒽-2-磺酸氯苄酯、二甲基氨基萘-5-磺酸酯、二苯基碘鐵-9,10- 二甲氧基蒽-2-磺酸盐、4-甲氧基苯基-苯基碘鐵-9,10-二甲氧基蒽-2-磺酸盐、双(4-甲氧基苯基)碘鎗-9，10-二甲氧基蒽-2-磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)鹏鐵-9,10- _■甲氧基恩_2-横酸盐、_■苯基鹏鐵_恩_2-横酸盐、_■苯基碘鎗-三氟甲磺酸盐、(5-丙基磺酰氧基亚氨基-5H-噻吩-2-亚基)-(2-甲基苯基)乙腈等。其中，特别优选使用光照时酸的生成效率高的二苯基碘鎗_9，10-二甲氧基蒽-2-磺酸盐、5-丙基磺酰氧基亚胺-5H-噻吩-2-亚基)-2-甲基苯基乙腈。作为有机卤化物，可列举例如三溴甲基苯基砜、三溴甲基磺酰吡啶等。作为酸刺激产气剂，只要是在酸的刺激、即酸的作用下会产生气体的物质则没有特殊限制，优选采用碳酸盐及碳酸氢盐中的至少一种。
作为酸刺激产气剂的具体实例，可列举例如碳酸氢钠、碳酸钠、倍半碳酸钠、碳酸镁、碳酸钾、碳酸氢钾、碳酸钙、硼氢化钠等。这些酸刺激产气剂可单独使用，也可以将2种以上组合使用。优选碳酸氢钠、碳酸钠，进一步，由于碳酸钠与碳酸氢钠的混合物具有优异的稳定性且气体生成量多，因此更加优选用作酸刺激产气剂。需要说明的是，酸刺激产气剂的混合量的化学当量优选与光产酸剂所产生的酸的
化学当量相等。另外，对于酸刺激产气剂和光产酸剂而言，分别可以为液态，也可以为微粒状。不过，从提高操作性及气体生成效率的角度考虑，优选酸刺激产气剂和光产酸剂中的至少一种为微粒。并且，通过使酸刺激产气剂和光产酸剂中的至少一种为微粒，可以在微粒间形成缝隙，从而使产生的气体易于通过。需要指出的是，在本说明书中，所述微粒是指平均直径为50 ii m 2_左右的粒子。气体生成剂中还可以包含在光照下分解而生成气体状碱的光产碱剂(A)和碱增殖剂⑶。作为光产碱剂(A)可以是选自下组中的至少I种例如，钴氨类络合物、氨基甲酸邻硝基苄酯、肟酯、下述式(4)所表示的在光照下产生胺的含有氨基甲酰氧基亚胺基的化合物、以及由下述式(5)所表示的羧酸(al)与碱性化合物(a2)形成的盐。[化学式2]
权利要求
1.一种微流体设备，其具有气体生成部，其中， 所述气体生成部具有基板和气体生成层， 所述基板具有第I主面和第2主面，且形成有在所述第I主面上开口的微流路； 所述气体生成层设置于上述基板的第I主面上，并覆盖上述开口，该气体生成层通过接受外部刺激而产生气体。
2.根据权利要求I所述的微流体设备，其中，所述气体生成层是贴合在所述第I主面上的气体生成膜。
3.根据权利要求I或2所述的微流体设备，其中，所述气体生成部还具有隔离层，该隔离层设置在所述气体生成层的与所述基板侧相反的一侧的表面。
4.根据权利要求3所述的微流体设备，其中，设置所述隔离层并使之覆盖气体生成层，且所述隔离层在所述气体生成层的整个外周上与所述基板接合。
5.根据权利要求3或4所述的微流体设备，其中，在所述气体生成层中形成有连通孔，所述连通孔的一端和所述开口相连，另一端和气体生成层的与所述基板相反一侧的表面相连。
6.根据权利要求3 5中任一项所述的微流体设备，其中，所述隔离层为玻璃制造或树脂制造的膜或基板。
7.根据权利要求I 6中任一项所述的微流体设备，其中， 在所述基板中设置有多个所述微流路， 所述气体生成层含有气体生成剂，该气体生成剂通过照射光而产生气体， 在平面视野中还具有遮光层，该遮光层设置在相邻的所述微流路的开口之间，对所述气体生成层进行遮光。
8.根据权利要求I 7中任一项所述的微流体设备，其中，所述气体生成层贴合在所述基板上，且在所述气体生成层的所述基板侧的表面及所述基板的第I主面中的至少一面上形成有与所述开口相连的沟或孔。
9.根据权利要求8所述的微流体设备，其中，所述沟或孔自所述开口沿所述基板的板面方向延伸。
10.根据权利要求8或9所述的微流体设备，其中，形成有多个所述沟或孔，所述多个沟或孔自所述开口沿所述基板的板面方向呈放射状延伸。
11.根据权利要求I 10中任一项所述的微流体设备，其中，所述气体生成层的所述基板侧的表面及所述基板的第I主面中的至少一面为粗糙面。
12.根据权利要求I 6、8 11中任一项所述的微流体设备，其中，所述气体生成层包含通过接受外部刺激而产生气体的气体生成剂。
13.根据权利要求12所述的微流体设备，其中，所述气体生成剂含有偶氮化合物及叠氮 化合物中的至少一种。
14.根据权利要求12或13所述的微流体设备，其中，所述气体生成层中还含有粘合剂树脂。
15.根据权利要求14所述的微流体设备，其中，所述粘合剂树脂中包含粘接剂树脂。
16.根据权利要求I 15中任一项所述的微流体设备，其中，所述微流路中形成有多个与所述第I主面相对的开口。
17.根据权利要求I 16中任一项所述的微流体设备，其中，所述基板中形成有多个所述微流路，且所述多个微流路相互连接。全文摘要
本发明的目的在于在简化具有微泵系统的微流体设备的制造工序的同时使其进一步小型化。为此，本发明提供微流体设备(1)，其具有气体生成部(3)。气体生成部具有基板(10)和气体生成层(20)。基板(10)具有第1主面(10a)和第2主面(10b)，且形成有至少在所述第1主面(10a)上开口的微流路(14)。气体生成层(20)设置于基板(10)的第1主面(10a)上，并覆盖开口(14a)。气体生成层(20)通过接受外部刺激而产生气体。
文档编号B01J7/00GK102741559SQ20098010073
公开日2012年10月17日 申请日期2009年3月11日 优先权日2008年3月11日
发明者山本一喜, 福井弘司, 福冈正辉, 赤木良教 申请人:积水化学工业株式会社