专利名称：一种切片研磨抛光机的过滤水槽的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种污水处理装置，特别是一种用于切片研磨抛光机的污水过滤
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背景技术：
切片研磨抛光机作为金相切片试验中的常用实验仪器，其使用频率高。但是，在金相切片的研磨抛光过程中，通常会产生大量的亚克力树脂、PCB板、金属材料、元器件等物质的研磨粉末，这些粉末通过水流冲走，而这种研磨后的粉末会沉淀累积在管道中，造成管道堵塞，从而影响设备的正常使用，影响实验的进程。因此，如何有效处理金相切片研磨抛光过程中产生的粉末，减少或者阻止研磨抛光机管道的堵塞，成为金相切片制作领域亟待解决的问题。
实用新型内容为解决研磨抛光机在进行金相切片研磨抛光时容易使得研磨抛光机的排水管道堵塞的问题，本实用新型提供以下技术方案:一种切片研磨抛光机的过滤水槽，包括本体，所述本体分别设有进水管和出水管，所述本体被隔离板分为沉淀区和净水区，所述隔离板高度低于所述本体的高度，所述隔离板上部连接有隔离网，所述隔离板与所述隔离网位于同一平面内，所述隔离网顶部高度与所述本体顶部高度相等。
作为本实用新型的一种优选方案，所述进水管高度低于所述出水管的高度。作为本实用新型的另一种优选方案，所述隔离板高度高于所述进水管的高度。本实用新型优点是:本实用新型结构简单、制作方便、制作成本低，有效对污水中的杂质进行沉淀，从而避免了研磨抛光机排水管道的堵塞，提高了金相切片实验的工作效率。
图1为本实用新型结构示意图。图中标号为:I一本体11一沉淀区12—净水区21—隔离板22—隔离网31—进水管32—出水管
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。[0015]如附图1本实用新型结构示意图所示，一种切片研磨抛光机的过滤水槽，包括本体1，本体I的两端分别设有进水管31和出水管32，本体I被隔离板21分为沉淀区11和净水区12，进水管31位于沉淀区IU则，出水管32位于净水区12侦彳，隔离板21高度低于本体I的高度，且高于进水管31的高度。隔离板21上部连接有隔离网22，隔离板21与隔离网22位于同一平面内，隔离网22顶部高度与本体I顶部高度相等。进水管31高度低于出水管32的高度。隔离板21上部连接有隔离网22。本实施例中，隔离板21为塑料材质，隔离网22为不锈钢网。以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式
，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本领域的技术人员在本实用新型所揭露的技术范围内，可不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。
权利要求1.种切片研磨抛光机的过滤水槽，包括本体(I )，所述本体(I)分别设有进水管(31)和出水管(32)，其特征在于:所述本体(I)被隔离板(21)分为沉淀区(11)和净水区(12)，所述隔离板(21)高度低于所述本体(I)的高度，所述隔离板(21)上部连接有隔离网(22)，所述隔离板(21)与所述隔离网(22)位于同一平面内，所述隔离网(22)顶部高度与所述本体(I)顶部高度相等。
2.据权利要求1所述的一种切片研磨抛光机的过滤水槽，其特征在于:所述进水管(31)高度低于所述出水管(32)的高度。
3.据权利要求1所述的一种切片研磨抛光机的过滤水槽，其特征在于:所述隔离板(21)高度高于所述进水管(31)的高度。
专利摘要本实用新型提供了一种切片研磨抛光机的过滤水槽，包括本体，所述本体分别设有进水管和出水管，所述本体被隔离板分为沉淀区和净水区，所述隔离板高度低于所述本体的高度，所述隔离板上部连接有隔离网。本实用新型优点是本实用新型结构简单、制作方便、制作成本低，有效对污水中的杂质进行沉淀，从而避免了研磨抛光机排水管道的堵塞，提高了金相切片实验的工作效率。
文档编号B01D21/02GK202921029SQ201220603698
公开日2013年5月8日 申请日期2012年11月15日 优先权日2012年11月15日
发明者徐同庆 申请人:苏州华碧微科检测技术有限公司