通过激光照射把材料转换成光学调制状态的制作方法

参考申请数据

本申请涉及国际申请，号码WO 2008/135564,WO 2009/112594,WO 2005/108604,WO 2008/062048,WO 2008/055915,WO 2009/013321,WO 2010/105802,WO 2007/051861和WO 2007/051863，以上这些申请作为全文成本本申请的参考。

技术领域

本申请涉及通过激光照射让材料(例如塑料材料)转换成光学调制状态，或者光学调制元件，和/或通过向材料上或材料中施加激光来获得某种材料以及包括光学调制状态的材料或元件的装置。

背景技术：

材料或者产品的标签或记号在很多工业领域变得越来越重要。这些标签或记号，例如通过印刷，粘贴，雕刻或压榨等传统技术被大量地使用。因为，可以在一些材料中，特别是塑料材料上，快速地，可以被运用到非平面上，耐久，不容易磨损等优点，通过激光照射进行做记号的技术逐渐被发展起来。激光标记或记号技术已经在很多不同的材料中有记载，特别是在塑料或聚合材料上。这种激光标记技术的根本作用一般建立在聚合体矩阵材料相互作用上，或者是对激光敏感的试剂被添加到材料中，这样，在激光目标位点产生高温度的热量。这种能量的施加可能造成材料的分解，碳化或材料的消融，或者导致肉眼可见的材料的改变，这些通过肉眼就可以辨别出来。例如在美国专利6,284,184中描述一种激光记号塑料材料的方法，这种方法是建立在分层的聚合材料上的，为了显示下面不同的颜色的层带，聚合材料需要被融化。美国专利，4,822,973描述了一个系统，该系统中激光需要通过第一层材料的表面而被第二层材料吸收，从而在第二层中产生激光记号。

这种传统已有的方法主要集中在可以产生一些普通的可见的标签或记号，或者在处理的材料上进行修改。然而这些技术当在不需要光的反射而是在进行光学反应的条件下就变得不能适用了。

这就仍然需要一种技术或材料来客服传统技术的一些缺陷。

技术实现要素：

我们描述一种把塑料材料转换成光学激发调制状态的方法，该方法包括向塑料材料上进行激光照射。光学调制状态可以是在该状态中，关于光的一种或多种特征被调制过的，例如包括光的波长，光的振幅，光的方向和/或光的相位。例如，在某些具体的实施方式中，通过结构，相对于吸收的光，光以不同的波长发射出来，或以不同的方向发射出来，这样调制的光是不同于纯粹地或几乎纯粹的光的反射。

在另一方面，本发明涉及一种用途，包括使用激光照射来把塑料材料转换成光学调制状态。

该光学调制状态可以为荧光或散射状态。

在用途中使用的或在方法中使用的材料可以是热塑性材料或弹性材料。

在用途中使用的或在方法中使用的材料还可以是一种有机聚合体，该有机聚合体选自于聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯或聚环稀的聚合体。

在用途中使用的或在方法中使用的激光照射包括施加0.1纳焦耳(n Joule)/μm²到大约100微焦耳(μJoule)/μm²能量的激光。

在用途中使用的或在方法中使用的激光照射可以包括照射波长大约为355-1064纳米的激光。

光学调制状态的塑料材料可以吸收波普为380纳米到540纳米的光，和/或吸收波普约为635纳米到655纳米的光。

光学调制状态的塑料材料可以基于光的激发而发射出波普约为550到800纳米的激发光。

光学调制状态的塑料材料可以基于光的激发而发射出最大波峰为593或/和685的激发光。

塑料材料的转换包括在所述的塑料材料表面产生光学调制元件，这些原件选自于几何学形状，几何学图案，点，圆点，线，圆形物，正方形，特征，符号，图形，条形码和数据矩阵或者他们任意的组合。

塑料材料的转换包括产生光学调制元件。在一些具体的实施方式中，光学调制元件为几何形状的元件，和/或具有至少5微米(μm)的直径。

在用途中使用的或在方法中使用的塑料材料可以为透明的。

被转换的塑料材料可以是防水的或/和不被分解的。

本发明的另一方面，通过本发明上述描述的方法产生的一种光学调制塑料材料。

该被生产的塑料材料可以包括光一些调制点元件的数据矩阵。

该被生产的塑料材料可以另外包括或可选择的包括用于队列或队列组分排列的光学调制参考记号。

本发明的另一方面，涉及一种用于在材料表面做记号的方法，该方法包括向材料施加激光照射，其中被做记号的表面为光学调制。

方法中施加的激光可以包括施加0.1纳焦耳/μm²到大约100微焦耳/μm²的能量。

带有记号的表面的光学激发可以是宽带光的激发。

记号表面激发的宽带光可以是波长为380-540的激发光,和/或635-655的激发光。

记号表面可以基于激发而发出波长为550-800纳米的激发光。

记号表面可以基于激发而发出最大波长为593或和685纳米的光。

本发明的另一方面涉及通过一种方法在材料表面进行记号的材料。

这些材料可以是塑料材料。

塑料材料可以是热塑性材料或弹性材料。

这些塑料材料还可以是一种有机聚合体，该有机聚合体选自于聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯或聚环稀的聚合体。

本发明的另一方面，提供一种材料，该材料包括一个或多个激光记号，其中该激光记号为光学调制。

该激光记号可以是施加从0.1纳焦耳/μm²到大约100微焦耳/μm²的激光能量而获得的。

该激光记号可以是因为光的激发而发出波长为550-800纳米的光。

该激光记号可以是因为光的激发而发出最大波长为593或和685纳米的光

这种激发可以是宽带光的激发。

宽带光的激发可以是波长从大约380-540纳米光的激发，和/或也可以是波长从大约635-655纳米光的激发。

该材料可以是塑料材料。

塑料材料可以是热塑性材料或弹性材料。

这些塑料材料还可以是一种有机聚合体，该有机聚合体选自于聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯或聚环稀的聚合体。

本发明的另一方面，涉及一种数据矩阵，该数据矩阵主要由材料上的激光记号组成或包括位于材料上的激光记号，其中该激光记号为光学调制。

该激光记号可以是因为光的激发而发出波长为550-800纳米的光。

激光记号可以是因为光的激发而发出最大波长为593或/和685纳米的光。

这种激发可以是宽带光的激发。

宽带光的激发可以是波长从大约380-540纳米光的激发，和/或也可以是波长从大约635-655纳米光的激发。

这种数据矩阵可以包括几何学形状，几何学图案，点，圆点，线，圆形物，正方形，特征，符号，图形，条形码或者他们任意的组合。

本发明的另一方面，涉及一种参考记号，该记号主要由材料上的激光记号组成或包括位于材料上的激光记号，其中该激光记号为光学调制。

这种激发可以是宽带光的激发。

宽带光的激发可以是波长从大约380-540纳米光的激发，和/或也可以是波长从大约635-655纳米光的激发。

参考记号的激光记号可以包括或可以是几何学形状，几何学图案，点，圆点，线，圆形物，正方形，特征，符号，图形，条形码或者他们任意的组合。

参考记号可以是一种定位记号。

参考记号可以是一系列定位记号的排列。

另一方面，一种上述的材料作为一种组分来被制作或生产装置或器械。

另一方面，本发明涉及制造装置或装置部件的方法，该方法包括通过施加激光在材料上或部分装置的材料上并把这些材料或部分装置的材料转换为光学调制状态的步骤。

材料为塑料材料。

制造的装置可以包括具有入口的第一通道，和与入口液体流通的纵面剖面。

制造的装置可以包括:具有进口和出口的第一通道，和位于进口和出口之间的纵面剖面，含有毛细进口的通道；和，与毛细进口液体流通的检测区域。

作为定性和/或定量检测探针分子与目标分子之间的分子作用力的装置,包括：

微列阵，包括固定在微列阵元件上的探针分子，所述的微列阵位于所述装置的第一表面上；和

形成于包括有微列阵的第一表面与第二表面之间的反应腔。

该装置可以包括：定义一通道的第一和第二基质材料，至少一个基质为柔性的，该通道包括系列间隔开的检测区域，每一个检测区域包括参与分析目标分析物质的探针物质。

被制造的装置可以包括在腔体中形成的反应腔，其中，腔体位于第一和第二表面之间。

被制造的装置可以包括在腔体中形成的反应腔，其中，腔体位于第一和第二表面之间，其中第二表面位于第一表面的对立面，其中，第一和第二表面之间的距离在第一表面和/或第二表面上的至少一个或多个区域是可变的。

被制造的装置可以包括:

盒，该盒包括微流体通道，该微流体通道包括毛细入口；和与毛细入口流体连通的检测区域；

至少部分壁为可变性的微流体路径，该流体路径与通道的检测区域流体连通；

控制元件。

在另一方面，本发明描述的材料可以被用来对光学参数进行控制。

光学参数可以是光学装置的对焦或焦距。

在另一方面，微流体装置包括：

具有进口的第一通道，和与进口流体连通的纵断剖面，其中，该装置至少部分由被转换成光学调制状态的材料组成，或该装置包括被转换成光学调制状态的材料。

在另一方面，微流体装置包括：

具有进口和出口的第一通道，和与进口和出口流体连通的纵断剖面，具有毛细进口的通道；与该毛细进口流体连通的检测区域；其中，该装置至少部分由被转换成光学调制状态的材料组成，或该装置包括被转换成光学调制状态的材料。

作为定性和/或定量检测探针分子与目标分子之间的分子作用力的装置,包括：

微列阵，包括固定在微列阵元件上的探针分子，所述的微列阵位于所述装置的第一表面上；和

形成于包括有微列阵的第一表面与第二表面之间的反应腔。

该装置可以包括：定义一通道的第一和第二基质材料，至少一个基质为柔性的，该通道包括系列间隔开的检测区域，每一个检测区域包括参与分析目标分析物质的探针物质，其中，该装置至少部分由被转换成光学调制状态的材料组成，或该装置包括被转换成光学调制状态的材料。

微列阵与第二表面之间的距离为可变的。

在另一方面，盒，该盒包括微流体通道，该微流体通道包括毛细入口；和与毛细入口流体连通的检测区域；其中，该盒至少部分地由被转换成光学调制状态的材料组成，或该盒包括被转换成光学调制状态的材料。

在另一方面，装置包括：

第一和第二基层，在第一和第二之间形成一通道，至少一个基层是柔性的，通道包括间隔开的测试区域，每一个测试区域包括用于参与目标被分析物检测的探针成分，其中，该装置至少部分由被转换成光学调制状态的材料组成，或该装置包括被转换成光学调制状态的材料。

另一方面，用于定性和/或定量检测粒子的装置包括：

在腔体中形成的反应腔，其中，腔体位于第一和第二表面之间，其中，该装置至少部分由被转换成光学调制状态的材料组成，或该装置包括被转换成光学调制状态的材料。

另一方面，用于定性和/或定量检测粒子的装置包括：

在腔体中形成的反应腔，其中，腔体位于第一和第二表面之间，其中，第二表面位于第一表面的对立面；和

具有部分可变形的彼壁，并且与反应腔流体连通的微流体路径，其中，该装置至少部分由被转换成光学调制状态的材料组成，或该装置包括被转换成光学调制状态的材料。

该装置可以包括位于反应腔的第一或第二表面上的一个或多个光学调制元件。

另一方面，用于检测被分析物的装置包括：盒，该盒包括：

微流体通道，该微流体通道包括进口；和与进口流体连通的检测区域；

至少部分可变性的壁的微流体路径，该流体路径与通道的检测区域流体连通；和

帽子，它包括用于密封进口并形成包括进口、微流体通道和微流体路劲的流体回路；和

其中，该装置至少部分由被转换成光学调制状态的材料组成，或该装置包括被转换成光学调制状态的材料。

另一方面，用于检测被分析物的系统可以包括：盒，该盒包括：

微流体通道，该微流体通道包括进口；和与进口流体连通的检测区域；

至少部分可变性的壁的微流体路径，该流体路径与通道的检测区域流体连通；和

帽子，它包括：

用于密封进口并形成包括进口、微流体通道和微流体路劲的流体回路；和

荧光检测器，它包括：

光源；

目镜和物镜；

其中，该系统至少部分由被转换成光学调制状态的材料组成，或该装置包括被转换成光学调制状态的材料。

另一方面，用于检测被分析物的装置包括：盒，该盒包括：

微流体通道，该微流体通道包括进口；和与进口流体连通的检测区域；

至少部分可变性的壁的微流体路径，该流体路径与通道的检测区域流体连通；和

控制元件，其中，该控制元件至少部分由被转换成光学调制状态的材料组成，或该装置包括被转换成光学调制状态的材料。

装置，盒或系统的材料可以包括一个或多个光学调制元件。

装置，盒或系统的材料可以包括光学调制状态点的阵列.

装置，盒或系统的材料可以包括数据矩阵或参考记号。

装置，盒或系统的材料可以包括可包括一个在此发明中描述的数据矩阵。

装置，盒或系统的材料可以包括一个在本发明中描述的参考记号。

装置，盒或系统的材料可以至少部门由本发明描述的材料组成或包括本发明描述的材料。

另一方面，一种定性或和定量检测粒子的方法，包括：配置被怀疑包括一种或多种粒子的样本到反应腔中，该反应腔被包括在本发面描述的装置中；

通过一个或多个置换器来置换位于反应腔中至少一部分样本；

检测/确定表示一个或多个粒子存在和/或数量的值。

在另一个方面，方法包括：用光学标签或标签试剂标签被固定在装置或系统的微流体通道上的粒子；

获得包括被固定粒子的至少一个子集的图像；

确定在第一图像中表示粒子数量的第一值；

在一间歇后，获得包括被固定粒子的至少一个子集的另一图像；

确定在第另一图像中表示粒子数量的另外的值；

基于第一值与另外值的比较，获得第三值，该第三值表示光学标签或标签试剂的活性或/和质量，或/和粒子和光学标签或标签试剂之间的相互作用的质量， 或/和装置或系统的可用性，或/和在对装置或系统上进行的方式、功能或程序的可用性，或/和通过该装置或系统获得的测试结果的准确性，和

在这些步骤之前，之中或之，使用控制元件来调焦和或对准所述的图像，其中，该控制元件至少部分由被转换成光学调制状态的塑料材料组成，或该装置包括被转换成光学调制状态的塑料材料。

在另一方面，方法包括：

提供装置或系统，其中系统或装置包括被转换成光学调制状态的塑料材料，其中，该材料包括预先设定数目的光学调制元件或/和包括预先设定尺寸的光学调制元件；

获得包括光学调制元件的至少一个子集的图像；

确定包括在图像中的光学调制元件的数目或/和尺寸；

基于所述确定的光学调制元件的数目或/和尺寸与预先设定的数目或/和尺寸之间的比较，获得一个值，该值表示装置或系统的可用性，或/和在对装置或系统上进行的方式、功能或程序的可用性，或/和通过该装置或系统获得的测试结果的准确性。

该方法可以另外包括：

配置被怀疑包括一种或多种粒子的样本到反应腔中，该反应腔被包括在本发面描述的装置中；和

检测/确定表示一个或多个粒子存在和/或数量的值；

该方法还可以包括：通过一个或多个置换器来置换位于反应腔中至少一部分样本。

该材料可以包括光学调制点的阵列。

该装置或系统至少部分由本发明所述的材料组成或包括本发明所述的材料。

在所述的装置或方法中，被检测或被固定的粒子可以是原核细胞，真核细胞或病毒粒子。

附图说明

图1显示为通过激光照射在材料上做记号的示意图。

图2展示了用8w能量的Nd:YAG激光机器在具有5％的黑色炭背景聚苯乙烯材料上的点记号。激光机器所用光的波长为1064纳米，激光二极管33％的能量，频率脉冲为35千赫兹，普尔宽度为5微秒(μs)。图2A显示直径在40-45um的点在可见光照射下的示意图，该图像是用放大2倍的显微镜下获得的。图2B显示同样的圆点在波长为520纳米照射下获得的图像，该图像是用PIMA分析仪器获得的。

图3展示了用8w能量的Nd:YAG激光机器在含有5％的炭背景聚苯乙烯材料上的点记号。激光机器所用的光的波长为1064纳米，激光二极管29％的能量，频率脉冲为35千赫兹，普尔宽度为5μs。图3A显示直径为25-30um的点在可见光照射下的示意图，该图像是用标准放大2倍的显微镜下获得的。图3B显示同样的点在波长为520纳米照射下获得的图像，该图像是用PIMA分析仪器获得的。

图4显示了点的REM图像，该点是由激光照射器发出的355纳米的激光，频率为15千赫兹，照射在含有5％炭背衬上的聚苯乙烯材料上形成的点标记。图4A显示这些点在放大100倍标准显微镜下的图像。图4B，图4C,图4D和图4E显示不同的形态学特征。点的形态学特征因为能量的输入不同而不同。

图5显示信号强度与激光能量的相关性。与激光能量相关，点的信号强度通过塑料材料的曝光时间来反应。绿色信号针对593纳米的光，红色信号针对685纳米的光。激发都是通过最大波长为520纳米的激光二极管进行的。

图6显示了数据矩阵编码，该编码是由激光照射器发出的355纳米的激光，频率为15千赫兹，照射在含有5％炭背衬上的聚苯乙烯材料上形成的。点的格子为50微米。数据矩阵编码的图像是在520纳米的光的照射下形成的，这个图像通过用PIMA分析仪器获得的。

图7显示了用于测试血液中T细胞的微流体测试盒，包括测试通道(110)和用于毛细入口的控制器。该图进一步显示了测试通道的部分放大示意图，在部分测试区上包括一群光学调制激光点(140)。

图8显示在图7中光的微流体装置的通道表面上具有光学调制状态的一种规格的图案结构。在这里，装置体是由含有4％的黑烟末的聚苯乙烯塑料制造，该聚苯乙烯塑料用Nd:YAG激光机器处理，其中激光波长为355纳米。被激光照射的平面通过标准方法来测试激光束对表面的最大影响的方法来进行调节。图8A和8B显示了包括具有光学调制状态结构的通道表面通过PIMA分析仪器获取的图形。图8A显示的在波长为593纳米，曝光时间为300ms和2.74的主控增益因子下的图像，然而，图8B显示的是在波长为685纳米，曝光时间为300ms和11.68的主控增益因子下的图像。

详细描述

一种用于把塑料材料转换成光学调制状态的方法，包括向塑料材料上进行激光照射。

“转换”可以是材料表面的改变，例如塑料材料，和/或也可以是位于材料表面下的一个或多个层带的改变，例如在这样的情况下，不同的可传送性的材料层存在于材料中。在一个实施方式中，在温度导致材料，例如在塑料材料，的结构和/或化学性质的改变而导致局部强度的提高。例如材料的高温分解，材料的碳化，在材料中产生芳香结构，以及，例如弹坑，刮痕，洞，浮雕或边框结果的产生。在一些方式中，由于一些辅助试剂的存在，例如，激光敏感试剂，和材料中可转送的外部层带的存在，这些改变或转换只是在材料上，例如塑料材料，特定的或者提前预设好的地方产生，或者在特定的提前预设的层带上产生。在另一些具体的实施方式中，这种转换可以是浅表面地，实质平面地，或实质二维的影响。在另一些具体的实施方式中，这种转换可以是立体空间的或三维的影响。立体空间或三维的影响的例子把材料转换成浮雕的形式，或者把透明材料转换成全息，三维的形式。

能够被转换的材料可是任何合适的材料。任何合适的材料都可以通过结构上或化学上地改变，例如通过高温分解，碳化，芬芳结构的产生，或者产生类似弹坑，洞，浮雕或轮廓。在一些具体的方式中，材料为塑料材料。塑料材料可以是自然地，人造的，或者半合成的有机组织，例如高分子量的聚合物，这些塑料材料也可以包括或不包括其他的可以提高性能的物质。塑料材料可以是柔软的，热固化的，弹性的，生物降解的，导电的，防水的或者其他特性的材料。

这种转换的方法能够让被处理的材料，例如塑料材料，产生光学调制状态。这里所说的“光学调制状态”是指在这种状态下，光的波长被改变，和/或照射的光或反射的光的方向被改变。在“光学调制状态”下的光可以是材料上被改变的位置或区域的地方所发出与吸收光的波长不同的哪些光。在一些方式中，相对 于吸收光来讲，被发出的光的波长可能更长，但是光能较低。被吸收的光的波长，发射出的光的波长和/或吸收后散发出的光的持续时间是可变化的。在一些具体实施方式中，光学调制状态可以是与荧光状态一样或可与荧光状态比较的状态，在该种状态中，发射光的波长比吸收光的波长要长，另外，光的吸收停止之后光的发射也立刻停止。例如，如果被处理的具有光学调制状态的材料被波长在350-750纳米的光激发下，它可以发射出更长波长的光，例如范围在360-850纳米的光。在一些具体实施方式中，光学调制状态可以是与磷光状态一样或可与磷光状态可比较的状态，在该种状态中，发射的光的波长比吸收光的波长要长，另外光的吸收停止之后光的发生还可以继续进行。在一些具体实施方式中，光学调制状态可以选择性的或另外是与这种状态类似的状态，或者至少包括一种状态，在这种状态中，不是纯碎或几乎纯碎光的反射，而是光也发生了改变，或，在这种状态中，例如进来的光或冲击的光是被分散的。

通过本发明方法的激光照射可是任何的激光照射，例如波长为157-1064纳米的激光。在一些具体的实施方式中，激光足够强以至可以导致被冲击的材料的蒸发、汽化或者溶解。在一些方式中，激光可以从商用的激光器获得。这些激光器包括，例如YAG激光器。某种型号的激光器可是具有处理材料的功能，调节温度，和更改类型的功能。合适的激光器的形式，方法和器械是本领域一般技术人员所知晓的。在一些具体的实施方式中，采用的激光可以来源于固态钕：钇铝石榴石激光器(Nd:YAG)。在一些具体的实施方式中，采用的激光可以来源于固态钕：钇激光器(yttrium vanadide(Nd:YVO₄))。激光器的能量等级在一些实施方式中可以介于1-6瓦之间，例如0.5,1,2W,3W,4W,5W或者6W。能量也可以通过调节激光二极管来获得，激光二极管的转化率可以介于1％-99％，例如大约为10％，15％，20％，25％，26％，27％，28％，29％，30％，31％，32％，33％，34％，35％，40％，45％，50％，55％，60％，70％，80％，90％或者更多。

实施激光照射可以连续或呈周期性的执行，例如以脉冲的形式。实施照射的形式和/或时间可以基于被改变的程度，被处理的材料，激光模式，光的波长和其他合适的参数所确定的。这些都是本领域的一般技术人员所知晓的。例如实施激光的时间为0.05微秒-1秒钟，0.1微秒-0.5秒钟，1微秒-0.1秒钟，2微秒,3 微秒,4微秒,5微秒,6微秒,7微秒,8微秒,9微秒,10微秒,20微秒,30微秒,50微秒,100微秒,200微秒,300微秒,400微秒,500微秒,600微秒,700微秒,800微秒,900微秒，1毫秒，10毫秒或100毫秒。实施激光的时间也可以以激光照射脉冲的形式来决定。脉冲可以是重复1次，2次，3次，4次，5次，6次，7次，8次，10次或更多次。脉冲可以是以不同间隔的时间中止，例如中止的时间为1微秒-10秒钟，2微秒,3微秒,4微秒,5微秒,6微秒,7微秒,8微秒,9微秒,10微秒,20微秒,30微秒,50微秒,100微秒,200微秒,300微秒,400微秒,500微秒,600微秒,700微秒,800微秒,900微秒，1毫秒，10毫秒或100毫秒，1秒钟或者更长时间。

当脉冲式的激光被实施的时候，脉冲频率可以是1千赫兹至大约150千赫兹，例如可以为10kHz,15kHz,20kHz,25kHz,30kHz,35kHz,40kHz,45kHz,50kHz,55kHz,60kHz,70kHz,80kHz,100kHz,120kHz,150kHz。

实施的激光照射，在另一些具体的实施方式中，可以是被施加在材料上，和/或施加到材料中去。

转化材料为光学调制状态的方法，例如塑料材料，可以以激光光源与被转化材料之间的固定距离来处理，或者他们两者之间的距离是变化的。这种距离可以因为激光光源的类型，施加的能量，需要处理的形式，被改变或转换等因素等等不同而确定。在一些方式中，在进行激光处理的时候，被处理的材料的位置可以为固定的位置，激光光源的位置也可以是固定的位置。在一些方式中，在进行激光处理的时候，被处理的材料的位置可以相对于激光光源做平行运动或者垂直运动，而激光光源的位置为一个固定的位置。在一些方式中，在进行激光处理的时候，激光光源可以相对于被处理的材料做平行运动，垂直运动或轴向运动，被处理的材料的位置为一个固定的位置。

在另外一些实施方式中，激光处理的结果可以被控制，例如被显微镜检查，例如荧光显微镜或者其它任何本领域于一般技术人员知晓的技术进行检查。因为依据材料转换的形式，转化次数和/或状态不同，激光照射可以在同样的地方或地点进行多次或二次的重复处理，或者其他的任何地方。

因此，一个好的方法被提供，该方法可以把材料转换为光学调制状态，例如在该状态中，入射光的至少一种特征被改变，例如发射出的光的波长或反射光的方向被改变。前述提到的光的特性可以通过上述激光照射被获得，和/或被调整，和/或被改变。这种方法可以被大量方便地运用到不同的用途中去。材料可以在其浅的表面上，或材料中被做上记号，例如在深层材料层带上做上记号而不会修改外层材料层；材料可以在外部或内部被光学调制状态的点，符号，编码，或区域进行修饰，或者,被光学调制状态的点，符号，编码，或区域覆盖。他们的可见性依靠光的碰撞特性，例如入射光的波长；材料可以被光学调制状态的点，符号，编码，或区域进行修饰或覆盖，而取代了先前使用光学控制原件，例如被附属在实体上。

一种使用激光照射把材料，例如塑料材料，转换成光学调制状态的用途可以包括如前述所述的激光方法来转换材料，例如塑料材料，并获得处于光学调制状态的材料，例如获得荧光状态的材料，或如前描述的入射光为分散光状态的材料。

在一个具体的实施方式中，用于这种用途或方法的塑料材料可以是热塑性材料或弹性材料。

“热塑性”在此处是指热熔性的塑料聚合物，当被加热的时候变成流体，而足够冷的是又可以凝固成玻璃状的物质。这种热塑性可以是高分子量物质的聚合物，它的链与链之间依靠弱的范德华力连接，更强的偶极-偶极相互作用和氢键结合或者芳环的堆积。热塑性材料可以包括另外的成分物质，例如激光敏感物质。热塑性材料的一些例子可以是丙烯腈丁二烯苯乙烯聚合(ABS)丙烯酸的聚合(PMMA)，赛璐珞，醋酸纤维素或纤维素乙酸酯,环稀共聚物(COC)，乙烯-乙烯基醋酸盐(EVA)，乙烯-乙烯醇(EVOH)，氟塑料(PTFE,带有FEP,PFA,CTFE,ECTFE,ETFE)，离聚物或离子交联聚合物,丙烯酸/PVC，合金，液晶聚合物(LCP)，聚乙烯(POM或乙缩醛),聚乙烯(丙烯酸),聚丙烯腈(PAN或丙烯腈)，聚酰胺(PA)，聚酰胺-酰亚胺(PAI)，聚芳醚酮(PAEK或酮),聚丁二烯(PBD),聚乙烯(PB)，聚乙烯对苯二酸盐(PBT),聚已酸内酯(PCL),聚三氟氯乙烯(PCTFE),聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET),乙烯对苯二酸酯(PCT),聚碳酸酯(PC), 聚羟基脂肪酸(PHAs),聚酮(PK),聚酯，聚乙烯(PE)，聚醚醚酮(PEEK),聚醚酮酮(PEKK),聚醚酰亚胺(PEI),聚醚砜(PES),聚乙烯氯(PEC)，聚酰亚胺(PI),聚乳酸(PLA),聚甲基戊烯(PMP),氧化聚苯(PPO),硫化聚苯(PPS)，聚邻苯二甲酰胺(PPA),聚丙烯(PP),聚苯乙烯(PS),聚砜(PSU),聚对苯二甲酸丙二醇酯(PTT),聚氨酯(PU),聚醋酸乙烯酯(PVA),聚氯乙烯(PVC),聚偏二氯乙烯(PVDC)和聚苯乙烯-丙烯腈(SAN)。

“弹性材料”在这里是指一类具有粘弹性的聚合物，构成聚合体的单体主要是由碳元素，氢元素，氧和/或硫元素构成。弹性材料可以是一些存在高于玻璃态转换温度之上的非晶态聚合物，这样大部分的运动变成了可能。在周围合适的环境温度下，他们可以相对的柔软和可变形的。一些弹性材料的例子可以是天然的橡胶(NR)，合成的聚异戊二烯(IR)，异丁(烯)橡胶(copolymer of异丁烯和橡胶基质的聚合，IIR)，聚丁二烯(BR),苯乙烯-丁二烯橡胶(聚苯乙烯和聚丁二烯的共聚物,SBR)，丁腈橡胶(聚丁二烯和丙乙腈的共聚物,NBR),氢化的丁腈橡胶(HNBR),氯丁二烯橡胶(CR),氯丁橡胶,EPM(乙烯丙烯橡胶,乙烯和丙烯的共聚物),环氧氯丙烷橡胶(ECO),聚丙烯酸橡胶(ACM,ABR),硅树脂橡胶(SI,Q,VMQ)，氟硅橡胶(FVMQ),氟橡胶(FKM,和FEPM)氟橡胶,全氟醚橡胶(FFKM)，特科福禄(Tecnoflon)PFR,聚醚块酰胺(PEBA),精细高分子工程有限公司(Perlast)，伊利斯通(Elastron)、氯磺化聚乙烯(CSM),EVA,弹性人造橡胶(TPE),弹性石蜡(TPO),节枝的弹性蛋白,弹性蛋白橡胶或聚硫橡胶。

在另一些方式中，用于这种用途或方法的塑料材料可以是有机聚合物，这些聚合物选自于聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯或聚环稀的聚合体。

“聚乙烯”在这里是指这类聚合物主要由乙烯单体构成的长链组成。聚乙烯材料可以因不同的密度或分支而存在不同的形式。一些聚乙烯的例子如超高分子量聚乙烯(UHMWPE)，例如分子量在大约3.1-5.67百万，密度在大约0.930–0.935g/cm³的聚乙烯；低分子量聚乙烯(ULMWPE or PE-WAX)；超高分子量聚乙烯(UHMWPE)；高密度的聚乙烯(HDPE)，例如密度在大于或等于0.941g/cm³的高密度的聚乙烯，横向连接的聚乙烯(PEX or XLPE)，例如含有与聚合结 构连接的横向连接基团的介质-高密度聚乙烯，例如介质密度聚乙烯(MDPE)，例如具有0.926–0.940g/cm³密度的聚乙烯，线性的低密度聚乙烯(LLDPE)，例如具有0.915–0.925g/cm³密度的聚乙烯，它具有实质线性的结构并具有大量的短的分支，通常他们是有乙烯通过短链alpha-石蜡；共聚合形成。低密度聚乙烯(LDPE)，例如具有0.910–0.940g/cm³的密度的聚乙烯，它具有程度很高的短链，同时具有长的分支链；密度非常低的聚乙烯(VLDPE)，例如密度在0.880–0.915g/cm³的聚乙烯，它实质是由具有高水平的短链分支的线性聚合物，通常他们是由乙烯通过短链a-石蜡共聚合形成。

本文所用的“聚丙烯”是指由单体丙烯单元组成的热塑性聚合物。聚丙烯的例子包括聚丙烯均聚物，无规共聚聚丙烯，嵌段共聚聚丙烯。丙烯也可以包括聚丙烯和乙烯或聚单元的单元组成的聚丙烯衍生物。

“聚苯乙烯”在这里指的是由芳族单体的苯乙烯的芳族聚合物。等规聚苯乙烯的例子包括聚苯乙烯，无规则聚苯乙烯和间规聚苯乙烯等。

本文所用的“聚碳酸酯”是指含有碳酸酯基团的热塑性聚合物。聚碳酸酯可以衍生自双酚A和碳酰氯光气，酯化双酚A和碳酸二苯酯的组合。在一个实施例中，聚碳酸酯材料是透明的。

本发明的“环稀“用于此是指包含一个或多个碳原子组成的封闭环，但没有芳香族，的烯烃或烃。环稀可以是，例如单体烯烃，如，环丙烯，环丁烯，环戊烯，环己烯，环庚烯，1,3-环己二烯，1,4-环己二烯或1,5-环辛二烯。

在一个特定的实施例中，本发明的材料可以是哪些适合用于生产光学仪器的材料，例如镜头，眼镜，太阳镜，隐形眼镜等。这样的材料具有高折射率，例如具有高折射率的塑料材料。适用于制造光学仪器的塑料材料包括，例如，聚碳酸酯塑料，如聚碳酸烷基乙二醇酯(PADC)或CR-39或它们的衍生物。

进一步的塑料材料可以为本领域一般技术人员从教科书中知晓的一些材料，例如可以是来自于从阿道夫·弗兰克“>公司>Kompendium”，沃格尔，第6版，2006年，被纳入其全部内容(Adolf Franck"Kunststoff-Kompendium",Vogel,6^th ed.,2006)。

在另一实施例的材料，例如塑料材料制成，可以是上面提到的材料的任意组合或并列的组合。

在一些实施方式中，本发明的被转换的材料，例如塑料材料，可以包括一种或多种添加试剂。这种添加试剂可以是，例如一种色素或颜料，染料或一些污点。一种着色试剂的例子为炭黑或黑烟末黑。

在一些方式中，着色试剂可以以任何合适的量存在于材料中，例如质量百分比大约0.001％到约25％的范围。

进一步的添加试剂可以是激光敏感的成分，这些试剂可以存在于材料中，并可以被转换。术语“激光敏感成分“在这里是指这类成分相对于该成分周围的材料具有吸收更高量的激光，这样可以导致局部的温度升高，然后在这些局部或位点上发生如前述的转换。激光敏感成分可以是5-300纳米的纳米颗粒，例如至少一个参数，例如直径为100纳米的颗粒。激光敏感成分可是主要由或包括一种或多种金属或合金，例如包括金属或合金的纳米颗粒。合适的金属包括铝，铬合金，锌，镍,鎂，锡，锂，铜，银，金，铁，铱，镉，钛，铂或任何以上元素的组合或合金。在一种方式中，纳米颗粒在材料中，例如塑料材料中存在的范围为大约0.01％-10％。

另一些添加试剂可以是漆，这些试剂可以存在于材料中，并可以被转换，例如可以被在表面浅薄地涂覆的漆。这种漆可以是不同于材料的颜色的其他颜色，或者存在于材料下的能够被转换成不同特性的漆。例如，这种漆可以针对激光具有不同的转换特性，不同的湿润性质，不同的导电率或者不同的电荷量。在另一些实施方式中，这些材料可以被生物或生物成分物质覆盖或涂覆，例如氨基酸，蛋白，抗体，核酸，细胞物质或片段，细胞或病毒片段等。

另外的添加试剂可以是能够被转换的，存在于材料中的填充材料。填充材料可以是玻璃，石墨，SiO₂或Fe₂O₃。

在一些方式中，能够被转换的材料，例如塑料材料，主要由或包括多个层带，例如2,3,4,5,6,7,9或10个层带。这些层带可以是不同物理成分，不同的颜色，不相同的激光转换能力，不相同的结构，不相同的化学成分或不相同的耐 用性组成的层带。例如，表面层带可以是一些透明的材料，例如透明的塑料材料。这样的材料可以额外或可选择性的对激光具有高转换能力。在下面的层带可以是不透明的形式存在或和包括激光敏感的成分，例如，如上描述的纳米颗粒。基于施加激光需要转换的材料，这种转换可以只发生在非表层的层带上。

在这样的一些实施方式中，如本发明描述的方法和用途中，施加激光的方法包括在单位区域的材料上施加一定的能量。术语“处理材料的单位区域”的意思是指激光入射在材料的一定范围或区域上。这种区域不包括没有激光入射的临近的区域或范围。总能量可以是介于处理材料上的0.05纳焦耳/μm²到150微焦耳/μm²范围内。在一些具体实施方式中，总能量可以是介于处理材料上的0.1纳焦耳(nJoule)/μm²到100微焦耳(μJoule)/μm²的范围内，例如0.5nJoule/μm²到50μJoule/μm²，10nJoule/μm²到大约25μJoule/μm²的范围，100nJoule/μm²到200nJoule/μm²的范围。例如能量可以是150nJoule/μm²的处理材料上。处理材料上的能量可以适合使用的不同的材料，不同形式的转换的类型，激光光源的使用，激光类型的使用，激光模型的使用或者其他任何的参数的不同而变化。这些是本领域一般技术人员阅读本发明容易知晓的。

在一些方式中，施加的激光照射是波长为355-1064纳米的激光照射。激光的波长可以是大约355-500纳米，500-1064纳米。例如，激光照射可以是商业上使用的激光，例如波长为355纳米，441.6纳米，488纳米，510.5纳米，514.5纳米，532纳米，543.5纳米，539.5纳米，594.1纳米，611.9纳米，632.8纳米，647.1纳米，694.3纳米,946纳米,或1064纳米。在一些方式中，激光照射是波长为1319纳米的激光。另外，一些合适的波长的激光或合适的激光都可以从一些教科书中获得，例如Orazio Svelto编著的激光原理(Springer,4^th ed.,1998)。

在一个实施方式中，波长为355和/或1064纳米的激光可以从(Nd:YAG)激光器中获得。

光学调制状态的材料，例如塑料材料，可以吸收一定波长的光谱，这些波长的光谱可以是380-540纳米和/或635-655纳米。光学调制状态的材料可以吸收一定波长的光谱，例如380nm,390nm,400nm,410nm,420nm,430nm,440nm,450nm,460nm,470nm,480nm,490nm,500nm,510nm,520nm,530nm,540 nm,and/or 630nm,635nm,640nm,645nm,650nm,655nm或660nm。在一些方式中，光学调制状态的材料可以吸收510-530纳米的光谱。例如，这些被转换的材料可以吸收500nm,510nm,520nm,530nm或540nm的光谱。这些改进的材料可以进一步吸收一个或多个波长的光谱，例如上述一个或多个不同波长的光谱。光学调制状态材料基于上述光的激发可以发射出550-800纳米的光谱。例如，这种材料可以由于激发而发出540nm,550nm,560nm,570nm,580nm,590nm,600nm,610nm,620nm,630nm,640nm,650nm,660nm,670nm,680nm,690nm,700nm,710nm,720nm,730nm,740nm,750nm,760nm,770nm,780nm,790nm,800nm,或810nm的光谱。在一些实施方式中，这种材料可以由于激发而发出593纳米的光。在另一些实施方式中，这种材料可以由于激发而发出685纳米的光。在另一些实施方式中，这种材料可以由于激发而发出大约560-660纳米的光。在另一些实施方式中，这种材料可以由于激发而发出大约660-700纳米的光。在另一些实施方式中，这种材料可以由于激发而发出一种波长以上的光，例如一种或多种上述波长的光。在另一些实施方式中，这种材料可以由于510-530纳米光的激发而发出560-600和/或660-700纳米的光。具有光学调制状态的材料可以基于激发而发射出最大波长为593和/或685纳米的光谱。术语“最大波长“在这里的意思是指波峰的顶点，而围绕波峰的顶点周围发射的光具有更宽的光谱。材料的转换，例如塑料材料，可以包括能够产生光学调制的元件或图形。在一些实施方式中，光学调制的元件可以在塑料材料的表面产生。在一些实施方式中，光学调制的元件在非表面的层带材料上产生，例如塑料材料下层的层带。这是所说的”光学调制元件“或”元件“是指任何几何学形状，图案或图画。一些如元件的例子包括斑点，点，线条，圆形，正方形，特征，一列，或者以上这些特征的组合，或者任何类型的符号，列或者符号的组合。进一步为图，条形码，数据矩阵或者数据矩阵代码或前述描述的任何形式的组合。一光学调制元件也可以是具有三维的形式，例如浮雕的形式。这种三维形式的元件可以存在于材料的表面层带上，也可以存在于材料的下层层带上。

光学调制元件具有在一个维度方向上至少有5微米的直径尺寸。例如，在一个维度方向上至少具有5μm,6μm,7μm,8μm,10μm,12μm,15μm,20μm,30μm,40μm,50μm,75μm or 100μm的直径尺寸。

这些元件可以以一定的密度存在于材料的一定面积上，例如存在的密度可以是大约1000-40000个元件/每平方毫米(mm²)。例如，密度可以是每平方毫米(mm²)大约1000,5000,10000,20000,30000,35000或40000个元件。

在一些方式中，在元件之间的平均距离可以是大约5μm,6μm,7μm,8μm,10μm,12μm,15μm,20μm,30μm,40μm,50μm,75μm or 100μm。

在一些方式中，这些元件可以是分开的元件。在另一些方式中，这些元件可以是被连接的元件。“连接的元件”例如可以包括相互临近点的连接形成线条，圆圈或正方形，特征或符号等等。这样连接的元件可以包括通过如前面描述的施加激光照射形成的连续的样式，例如具有延长的或开槽的弹坑状样式，或者在被转换的材料中开有切口的样式，例如塑料材料中。

在一些方式中，这些材料，例如塑料材料可以是透明的。在另一些方式中，材料可以包括一透明的层带。例如，这样的透明材料可以包括聚碳酸脂塑料或者由聚碳酸脂塑料组成的层带。这些透明材料中也可以包括一些激光敏感的成分，例如前述中所定义的那样的纳米颗粒成分。

在一些具体的实施方式中，被转换成光学调制状态的材料，例如塑料材料可以是防水性或/和水不溶解的材料；或者是防其它流体或/和其它流体不溶解的材料。防水性的材料，例如塑料材料，可以对那些用于潮湿，水性的或流体性的环境下有利，例如用在微粒体装置或盒中等等。同样的，水不溶解的材料，例如塑料材料，可以对那些用于潮湿，水性的或流体性的环境下有利，例如用在微粒体装置或盒中等等。

在另外的一些实施方式中，防水性或/和水不溶解的材料可以被用于在潮湿，水性的或流体性的环境下的调焦过程，或者，可以被用于在潮湿，水性的或流体性的环境下的定性或/和定量检测，或者可以被用于在潮湿，水性的或流体性的环境下的对光学调整，或者，可以被用于为了在流体探针或流体样本的环境下进行就地的定性或/和定量检测，流体样本例如血液，尿液，血清或淋巴液体等样本。相应的环境可能是事前就存在或在某种情况下新产生的，例如在微粒体装置，盒或反应腔中，或者在这些微粒体装置，盒或反应腔的附属或派生的样式中。

在一些特别的方式中，这些被转换成光学调制状态的材料在潮湿，水性或流体的环境下，例如可溶解的条件下，仍然保持它们自己的光学特征，例如荧光光学特征。这些转换的方法在那些为了进行印刷或做记号而使用溶解试剂，例如有机溶解试剂下也可以工作。另外，这些转换的材料可以对那些对在表层处理的颜料或染料具有消除作用的试剂或流体下仍然具有原有的光学特征作用。

在进一步的方面，光学调制材料可以基于以上所描述的方法制造。光学调制材料，例如塑料材料，可以基于以上描述的材料的转换方法获得或被制造。

在一些方式中，光学调制状态的材料，例如塑料材料，通过在这里描述的材料的转换方法被获得，被制造，包括光学调制元件的数据矩阵。在这里“数据矩阵”可以包括一维或二维的矩阵条形码，例如，可以包括或主要由可被光学区分的区域或以不同方式排列的模块组成，例如方形或矩形的模块。被编码的信息可以是任何合适的信息，例如文字，原始数据，日期，图像或流程等等。例如，信息可以是装置的类型，生产日期，生产批号，仪器设备的空间特征，成分，或装置，盒等以及他们的附属元件，在质量检测过程中碰到的一些特性，总量，尺寸，位置等等编码。另外，编码的信息可以是仪器设备，装置，成分或盒子等的物理化学特征。这些特征包括检测装置或检测区域所对应的被分析物质。另外的一些特征包括储存在装置中的试剂的一致性和储藏日期以及一些例如装置过期的日期等等。

代表性的，从一些8位到2千字节或者更多的数据都可以被使用。被编码的数据的长度可以取决于所使用符合的尺寸。进一步，错误校准代码可以被添加来提高符号的强度。

在一些方式中，光学调制状态的材料，例如塑料材料，包括一个或多个数据矩阵，其中数据矩阵包括光学调制的点或主要由光学调制的点组成。在一些方式中，光学调制状态的材料，例如塑料材料，包括一个或多个数据矩阵，其中数据矩阵包括光学调制的圆点，线条，符号，领域，循环，正方形，几何形状，或者他们的组合。以上所说的这些点，线条或其他几何形状，例如可以相互之间以短距离存在，这样可以提供一个呈直角或矩形样子的光学效果。

在一些方式中，光学调制状态的材料，例如塑料材料，通过在这里描述的材料的转换方法被获得，被制造，包括参考记号。术语“参考记号”在这里是指任何形式或尺寸的基准记号。一个优选的记号为十字，典型的特征、图画或者类似的标记。当然，参考记号也可以是以线条，矩形，点等的形式存在。材料上的参考记号，例如可以在对材料上的光学识别过程，对焦过程，排列过程，定位等等过程中，被检测到。在一个方式中，作为参考或基准记号可以被运用到对元件阵列进行排列，对阵列的元件进行整理，或者是对在阵列上的探针进行布置的测试。一个阵列的例子如微阵列。

这里使用的“微阵列”可以包括一些材料，例如探针材料，这些材料例如可以具有被提高了的结合目标材料的结合亲和力，可以被固定在多个基材上的明显的区域上。在微阵列中，这些区域包括至少被安排在基材上一个点，和一般至少两个点或区域，这些点或区域可以被间隔隔开或没有间隔隔开。一些方式中，探针材料可以包括生物材料，例如脱氧核糖核(“DNA”),核糖核酸(“RNA”),或cDNA，信使RNA”mRNA“，蛋白，糖或其他相似的材料。一些方式中，基材可以包括由玻璃，硅胶，塑料，陶瓷，石英或其他相似特性的材料组成。

在另外一些方式中，参考记号，例如以线条，矩形，点或者其他任何在此描述的记号的形式，例如图形，符号或特性形式的记号可以与上述描述的微列阵协调地存在于材料上或材料中。例如，微列阵可以被这些参考记号围绕或伴随或被做记号。在另外的实施方式中，与参考记号相比较，微列阵位于不同的表面上。在另外一些实施方式中，相对参考记号，微列阵可以被安放在一个空间定位的形式中。另外，可选择的，微列阵本身也可以包括参考记号或在此描述的一些记号，例如包括区域，几何元件，符号，特征，或者包括在此描述的一些光学调制的材料。

在一些特别的实施方式中的材料中，例如塑料材料，包括具有光学调制的参考记号，这些材料可以被用来制造，生产加工或产生包括微列阵的基材，包装，装置，盒子，系统或他们的组件。相应的，被获得的基材，包装，装置，盒子，系统或他们的组件可以基于参考记号的存在而被区分，排列，定位，重新配置和/或校准。在一个实施方式中，校准可以是基于例如参考记号发出的光的波长， 和/或位置，和/或存在来进行定性的校准。在一个实施方式中，校准可以是基于例如参考记号的密度或尺寸进行定量的校准。这种过程可以通过具有测试从参考记号发出的光的光学仪器或设备来执行。在一个方式中，参考记号发出的光的波长与阵列上用的标记发出的光的波长不相同，用在微阵列上的标记例如可以为光学信号标记，包括DNA,RNA,蛋白等等。

在一些实施方式中，包括如这里描述的光学调制元件的材料，例如塑料材料，可以被用于作为荧光标准，该荧光标准可以来验证和/或校准能够测试从参考记号发出光的光学读取仪器，系统或器械。在一些实施方式中，这样的校准和/或验证能够以光学调制元件的位置，和/或发出的光的波长，和/或光学调制元件的密度，和/或光学调制元件发出光的尺寸来进行。

在另一方面，一种方法，包括：向材料上施加激光照射在材料的表面做记号，其中被做记号的表面为光学调制状态的。术语“表面做记号“是指在所述的表面上产生一些点，区域或者其它形式的几何形状或元件，这些记号可以与周围的其他区域相区别。所谓的区别至少包括记号表面的光学激发，而在记号表面的周围不存在这种光学激发。“光学激发”在这里是指光学的调制状态。在一个实施例子中，光学激发可以是记号表面上与荧光类似或与荧光等同的状态，这样，发出的光的波长与激发的光的波长不相同。“表面“在这里是指材料，例如塑料材料的外部层带。表面可是任何程度的粗糙或任何的形状，和/或任何平面，可以包括任何槽，沟或其他结构。在一些方式中，表面可以不仅包括材料的外部层带，也可以包括材料的内部层带，例如材料包括多个层带，例如多个薄层层带。

在一些方式中，通过施加激光照射在材料的表面做记号的方法包括在被处理的表面，或者单个元件或点上施加的总能量介于大约0.05nJoule/μm²到大约150μJoule/μm²。在另一些实施方式中，在被处理的表面，或者单个元件或点上施加的能量介于大约0.05nJoule/μm²到大约100μJoule/μm²，例如在0.5nJoule/μm²到大约50μJoule/μm²的范围，10nJoule/μm²到大约25μJoule/μm²的范围，100nJoule/μm²到200nJoule/μm²的范围。例如在被处理的表面，或者单个元件或点上施加的能量可以为大约1nJoule/μm²，5nJoule/μm²，10nJoule/μm²，150nJoule/μm²。

能量的提供可以以激光脉冲的形式提供。一个脉冲的时间可以为大约0.05μs到10ms,0.1μs到5ms,1μs到1ms,或者2μs,3μs,4μs,5μs,6μs,7μs,8μs,9μs,10μs,20μs,30μs,50μs,100μs,200μs,300μs,400μs,500μs,600μs,700μs,800μs,900μs或1ms。能量的多少可以与所使用的材料，表面的结构，表面材料，需要处理的类型，使用的激光光源，激光类型，激光的样式，或其他本领域一般技术人员所知晓的参数相适应。如上描述的激光波长，激光的类型或者其他参数。

在一种方式中，记号表面的光的激发是宽带光的激发。“宽带光的激发”在这里是指大于可见光普或接近可见光普的激发，例如从400-700纳米光的激发。

在一些实施方式中，记号表面的光学激发是大约380到大约540纳米,或/和大约635到大约655纳米的光的激发。例如记号表面可以吸收波长为380nm,390nm,400nm,410nm,420nm,430nm,440nm,450nm,460nm,470nm,480nm,490nm,500nm,510nm,520nm,530nm,540nm,and/or 630nm,635nm,640nm,645nm,650nm,655nm or 660nm的光。

在一些方式中，记号表面可以基于例如以上描述的光的激发而发射出波长大约为550-800纳米的光。例如，记号表面可以基于例如以上描述的光的激发而发射出波长大约为540nm,550nm,560nm,570nm,580nm,590nm,600nm,610nm,620nm,630nm,640nm,650nm,660nm,670nm,680nm,690nm,700nm,710nm,720nm,730nm,740nm,750nm,760nm,770nm,780nm,790nm,800nm,or 810nm的光谱。在一个实施方式中，记号表面可以基于光的激发而发射出波长大约为593nm的光。在另一个实施方式中，记号表面可以基于光的激发而发射出波长大约为685nm的光。在一个实施方式中，记号表面可以基于光的激发而发射出波长大约为560-660nm的光。在一个实施方式中，记号表面可以基于光的激发而发射出波长大约为660-700nm的光。记号表面可以基于光的激发而发射出至少一个波长的光，例如至少上面描述的两个波长的光。在另外的实施方式中，记号表面基于波长为510-530纳米的光的激发而发生出波长大约为560-600纳米或/和660-700纳米的光谱。

在一些方式中，记号表面可以基于光的激发而发生出最大波峰为593或和685的光谱。

另一些实施方式中，提供一种方法包括：生产设备，装置，微流体装置，盒，反应腔，物体，使用或仪器，其中所述的生产包括使用光学调制材料作为所述的设备，装置，微流体装置，盒，反应腔，对象，使用或仪器的成分。在一些方式中，方法包括:生产光学仪器，例如镜头，眼镜，太阳镜，目镜，照相机，光学测试仪器或者他们的元件，其中所述的生产包括使用光学调制材料作为初始材料，或者中间材料，或者作为仪器的成分。在一些方式中，方法包括一些有用物质的使用，例如稻草，餐具，罐头，盒子或瓶子的使用。

在一些方式中，生产设备，装置，微流体装置，盒，反应腔，物体，使用或仪器的方法包括一个或多个步骤，其中，装置，微流体装置，盒，反应腔，物体，使用或仪器的材料，例如塑料材料，是被转换成本发明描述的光学调制状态。

例如，设备，装置，微流体装置，盒，反应腔，物体，使用或仪器，或光学仪器，例如镜头，眼镜，太阳镜，目镜，照相机，光学测试仪器，或者一些有用物质的使用，例如稻草，餐具，罐头，盒子或瓶子的使用，以上这些都包括光学调制元件，例如几何元件，特征，图表，代码，数据矩阵，或三维模型，例如全息影像，浮雕或者被提供相应的光学调制元件。

在另一方方面，材料包括通过在材料表面做记号的方法生产的记号表面，其中所说的记号表面为光学调制的。这种材料可以通过在这里描述的在材料表面做记号的方法获得，生产或可以获得。

在一些方式中，包括记号表面的材料可以为塑料材料。这种材料可以是非塑料材料和塑料材料的组合，例如包括塑料表面和一个或多个非塑料层带的合成材料。这些非塑料成分可以是金属，生物成分，例如蛋白，多肽，核酸，或者他们的衍生物，硅或玻璃等等。进一步，塑料材料可以包括作为添加成分的非塑料材料。

在一些方式中，塑料材料可以是本发明前述描述的热塑性或弹性材料。

在另外的一些方式中，塑料材料可以是有机聚合物，这些有机聚合物选自聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯或聚环稀的聚合体。

在另一方面，材料可以包括，被覆盖或部分被表面覆盖，其中所述的表面包括一个或多个激光记号，其中激光记号是光学调制的。材料可以包括，被覆盖或部分被一表面覆盖，其中表面包括一个或多个激光记号，其中激光记号是光学调制的。术语“一个或多个”是指在单个材料的表面上至少包括一个激光标记，至少2个激光标记，3,4,5,6,7,8,9,10,20,30,40,50,60,70,80,90,100,200,300,500,1000,2000,3000,5000,7500或更多的激光记号。一般来讲，激光标记的数目介于上述数目之间。激光记号的数目可以因为表面的尺寸而不同。例如，每10mm²的表面可以存在一个激光记号。这里所说的“激光记号”指的是在材料表面上的点，区域或其他形式或样式的记号，这些记号是通过向材料上施加激光获得的。记号可以是单一的元件，或者联合的元件或系列单个记号。激光记号最好与它周围的表面相区分。它可以最好包括一个点或消融的区域，或在一个平坦或近似平坦表面中的箱体，或者在一个平坦或近似平坦表面中的痕迹，或在一个平坦或近似平坦表面中的洞，或在一个平坦或近似平坦表面中的浮雕形式，或在一个平坦或近似平坦表面中的材料的轮廓，或者是不同结构表面的点，平坦的或类似平坦的区域，例如在粗糙的表面或包括突起或隆起的表面。这里描述的激光记号最好具有光学调制的特点。

在一些方式中，通过施加激光照射在材料的表面获得激光记号的方法包括在被处理的表面，或者单个元件或点上施加的总能量介于大约0.05nJoule/μm²到大约150μJoule/μm²的激光。在另一些实施方式中，在被处理的表面，或者单个元件或点上施加的能量介于0.05nJoule/μm²到大约100μJoule/μm²，例如在0.5nJoule/μm²到大约50μJoule/μm²的范围，10nJoule/μm²到大约25μJoule/μm²的范围，0.1nJoule/μm²到大约20nJoule/μm²的范围，0.1nJoule/μm²到大约10nJoule/μm²的范围，或100nJoule/μm²到200nJoule/μm²的范围。例如在被处理的表面，或者单个元件或点上施加的能量可以为大约1nJoule/μm²，5nJoule/μm²，10nJoule/μm²,或150nJoule/μm²。处理材料上的能量可以适合使用的不同表面的形式，表面的材料的结构，不同形式的转换的类型，激光光源的使用，激光类型 的使用，激光模型的使用或者其他任何的参数的不同而变化。这些是本领域一般技术人员阅读本发明容易知晓的。

在一些方式中，激光记号可以基于以下描述光的激发而发射出550-800纳米的光谱光。例如，激光记号可以由于光的激发而发出540nm,550nm,560nm,570nm,580nm,590nm,600nm,610nm,620nm,630nm,640nm,650nm,660nm,670nm,680nm,690nm,700nm,710nm,720nm,730nm,740nm,750nm,760nm,770nm,780nm,790nm,800nm,或810nm的光谱。在一些实施方式中，激光记号可以由于激发而发出593纳米的光。在另一些实施方式中，这种激光记号可以由于激发而发出685纳米的光。在另一些实施方式中，这种激光记号可以由于激发而发出大约560-660纳米的光。在另一些实施方式中，这种激光记号可以由于激发而发出大约660-700纳米的光。在另一些实施方式中，这种激光记号可以由于激发而发出一种波长以上的光，例如一种或多种上述波长的光。在另一些实施方式中，这种激光记号可以由于510-530纳米光的激发而发出560-600和/或660-700纳米的光。

在一个实施方式中，激光记号可以基于光的激发而发射出最大波长为593和/或685纳米的光谱。

在另一些实施方式中，激光记号的光学激发光可以是宽带的光谱。

激光记号的光学激发光的光谱可以是380-540纳米，和/或635-655纳米。例如，激光记号可以吸收一定波长的光谱，例如380nm,390nm,400nm,410nm,420nm,430nm,440nm,450nm,460nm,470nm,480nm,490nm,500nm,510nm,520nm,530nm,540nm,and/or 630nm,635nm,640nm,645nm,650nm,655nm或660nm。

在一些方式中，包括具有一个或多个激光记号的表面的材料为塑料材料。这种材料可以是非塑料材料和塑料材料的组合，例如包括塑料表面和一个或多个非塑料层带的合成材料。这些非塑料成分可以是金属，生物成分，例如蛋白，多肽，核酸，或者他们的衍生物，硅或玻璃等等。进一步，塑料材料可以包括作为添加成分的非塑料材料。

在一些方式中，塑料材料可以是本发明前述描述的热塑性或弹性材料。

在另一些方式中，塑料材料可以是有机聚合物，这些聚合物选自于在上文中描述过的聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯或聚环稀的聚合体。

在一些方式中，材料上的数据矩阵包括激光记号或主要由激光记号组成，其中激光记号为光学调制的。数据矩阵可以是如前描述的，例如，可以包括一维或二维的矩阵条形码，该数据矩阵包括或主要由可被光学区分的区域或以不同方式排列的模块组成，例如方形或矩形的模块。被编码的信息可以是任何合适的信息，例如文字，原始数据，日期，图像或流程等等。例如，信息可以是装置的类型，生产日期，生产批号，仪器设备的空间特征，成分，或装置，盒等，他们的附属元件，在质量检测过程中碰到的一些特性，总量，尺寸，位置等等编码。另外，编码的信息可以是仪器设备，装置，成分或盒子等的物理化学特征。这些特征包括检测装置或检测区域所对应的被分析物质。另外的一些特征包括储存在装置中的试剂的一致性和储藏日期以及一些例如装置过期的日期等等。在一些实施方式中，数据矩阵所位于的材料可以是如前面描述过的塑料材料。在进一步的实施方式中，材料也可以包括设备，装置，盒，反应腔，微粒体装置，以及存在这些实体中的反应区域，或者他们的任何的成分或之间的组合。

在一些方式中，数据矩阵的激光记号可以基于上述描述过的光的激发而发射出550-800纳米的光谱。

在进一步的实施方式中，数据矩阵的激光记号的光学激发可以是在此描述过的宽带光的激发。

在一些方式中，数据矩阵的激光记号可以基于上述描述过的光的激发而发射出593-685纳米的光谱。

在一些方式中，数据矩阵的激光记号的光的激发可以是380-540纳米的光谱，或和635-655纳米的光谱。

在一些方式中，数据矩阵可以包括光学调制的一些激光记号，这些激光记号可以形成，包括或是几何形式，几何学的样式，场所，点，线条，正方形，圆形，特征，符号，图表，条形码或他们的组合。

在一些方式中，如上描述过的材料上的数据矩阵的联合可以是正式的形式，例如编码有不同类型信息的数据矩阵可以位于装置或设备的不同面或不同反应区域上。

在另一方面，材料上的参考记号可以包括激光记号，其中激光记号为光学调制的。参考记号可以是前述描述过的参考记号，例如，任何形式或尺寸的基准记号。基准记号可以是十字，典型的特征、图画或者类似的标记。当然，参考记号也可以是以线条，矩形等的形式存在。材料上的，例如塑料材料上的参考记号可以在对材料上实施的光学识别过程，对焦过程，排列过程，定位等等过程中被检测到。

在一些方式中，参考记号位于的材料可以是塑料材料，例如前面描述过的塑料材料。在进一步的实施方式中，参考记号位于的材料可以包括设备，装置，盒，反应腔，微流体装置，或存在这些实体中的反应区域，或者，他们的任何的成分或之间的组合。

在一些方式中，参考记号的激光记号可以基于上述描述过的光的激发而发射出550-800纳米的光谱。

在另一些实施方式中，参考记号的激光记号可以基于光的激发而发生出最大波峰为593纳米和/或685纳米的光。

在进一步的实施方式中，参考记号的激光记号的光学激发可以是在此描述过的宽带光的激发。

在一些方式中，参考记号的激光记号的光学激发可以是380-540纳米的光谱，或和635-655纳米的光谱。

在一些方式中，材料上的参考记号可以是一个调整记号。术语“调整记号”在这里是指一个可以用来鉴别材料中的目标位置，区域或一部分的记号，材料可以是例如装置，盒，外套或反应腔的材料；和/或可以允许基于该记号的对准或调焦过程；和/或允许带有调整记号的装置，设备，读数仪，或这些实体的任何成分相互之间的定位或再次定位的行为。这样的定位或再次定位的行为包括，例如调整记号与装置，设备，读数仪，或这些实体的任何成分相互之间的角度或倾 斜的减少或增加。调整记号也可以包括像微观结构或者类似的物理结构。在进一步的实施方式中，材料上的参考记号可以是阵列调准记号。术语“阵列调准记号”是指一个记号，该记号可以用来鉴别包括有微阵列的装置，盒，外套或反应腔上或中的，或微阵列本身上的，材料，或之下的基体上的目标位置，目标区域或目标部分；和/或可以允许基于该记号的对准或调焦过程；和/或允许带有调整记号的装置，设备，读数仪，或这些实体的任何成分相互之间的定位或再次定位的行为。这样的定位或再次定位的行为包括，例如调整记号与装置，设备，读数仪，或这些实体的任何成分相互之间的角度或倾斜的减少或增加。这样的行为，例如包括通过能够检测从参考记号发出的光的光学设备或读数仪来执行。在一些实施方式中，从参考记号发出的光不同于用于阵列上的记号发出的光，用于微阵列上的光学记号包括DNA,RNA,蛋白等等。

在另一方面，前面描述的材料，例如光学调制材料、包括有激光记号的材料、做记号的材料或被做记号的表面的材料，其中记号、做记号或被做记号的表面为光学调制的，例如荧光，这些材料可以用来生产或制造设备、装置、微流体装置、盒、反应腔，使用的物体或工具；或者用来作为生产或制造设备、装置、微流体装置、盒、反应腔，使用的物体或工具的一种成分。生产或制造的细则和/或过程是本领域的一般技术人员知晓的。设备、装置、微流体装置等等例子可以是用以上描述的材料来生产，这些过程或他们的生产或制造过程可以来源于2002年出版的《微流体的应用和基础》(Fundamentals and Applications of Microfluidics,Nam-Trung Nguyen,Steve Wereley,2002,Artech House Publishers；1^sted)和《实验室的芯片装置的微系统过程》(Microsystem Engineering of Lab-on-a-Chip Devices,Oliver Gerike et al.,2008,Wiley-VCH；2^nd edition)；这些的全文作为本发明的参考或一部分。作为上述生产材料的设备可以包括光学仪器，例如镜头，眼镜，太阳镜，隐形眼镜，照相机或光学检测仪器或者他们的组件。用来以上描述的生产材料的使用工具可以包括例如稻草，餐具，罐头，盒子或瓶子或他们的组件。

相应的，设备，装置，微流体装置，盒，反应腔，物体，使用或仪器，或光学仪器包括如上描述的光学调制点元件、参考记号，几何形状、被做记号的表面，二维或三维空间的形式等等。

在一些方式中，生产设备，装置，微流体装置，盒，反应腔，物体，使用或仪器的方法包括通过激光照射把材料转换成光学调制状态的步骤，或把装置，微流体装置，盒，反应腔，物体，使用或仪器的部分材料转换成本发明描述的光学调制状态的步骤。在一个方式中，材料的转换包括向材料施加本发明明描述的激光。在一些方式中，被转换的材料以光学调制状态存在，例如荧光状态或本发明描述的状态。

在一些方式中，被转换的材料可以为前面描述的塑料材料，例如可以是热塑性或弹性材料。这种材料可以是其它材料和塑料材料的组合，例如金属或硅材料。除了上面显示的转换步骤外，生产这种装置的方法是本领域一般技术人员所知晓的，例如在2002年出版的《微流体的应用和基础》(Fundamentals and Applications of Microfluidics,Nam-Trung Nguyen,Steve Wereley,2002,Artech House Publishers；1^st ed)和《实验室的芯片装置的微系统过程》(Microsystem Engineering of Lab-on-a-Chip Devices,Oliver Gerike et al.,2008,Wiley-VCH；2^nd edition)中有详细的描述，它们的全文作为本发明的参考或一部分。

在另一方面，通过以上描述的生产方法或使用以上描述的材料生产的装置包括具有进口的第一通道，与进口流体连通的纵断剖面。被转换的光学调制状态的材料可以被用来生产或存在于第一通道中，存在进口中或与之靠近，和/或在与进口流体连通的纵断剖面中。

在一些实施方式中，通过以上描述的生产方法或使用以上描述的材料生产的装置包括进口和出口的第一通道，和，位于进口和出口之间的纵断剖面。被转换的光学调制状态的材料可以被用来生产或存在于第一通道中，以被用来生产或存在于进口中或与之靠近，和/或以被用来生产或存在于入口中或与之靠近；和/或在进口与出口之间的纵断剖面中。进一步，装置或盒的形式并不是固定的，例如装置，其中只有一个入口存在，例如在设备齐全的装置或盒子中。

在一些实施方式中，通过以上描述的生产方法或使用以上描述的材料生产的装置包括进口和出口的第一通道，和，位于进口和出口之间的纵断剖面，具有毛细作用的进口的通道，和与毛细进口流体连通的检测区域。被转换的光学调制状态的材料可以被用来生产或存在于毛细作用的入口和/或检测区域中，可以被 用来生产或存在于具有进口和入口的通道中或与之靠近。进一步，装置或盒的形式不是固定的，例如装置，其中只有一个入口存在，例如在设备齐全的装置或盒子中。

在一些实施方式中，通过以上描述的生产方法或使用以上描述的材料生产的装置包括进口和出口的第一通道，和，位于进口和出口之间的纵断剖面，具有毛细作用进口的通道，和与毛细进口流体连通的检测区域，具有至少部分可变型壁的，并且与通道中检测区域流体连通的微流体路径。被转换的光学调制状态的材料可以被用来生产或存在于毛细作用的入口和/或检测区域中，可以被用来生产或存在于微流体路径中或与之靠近；可以被用来生产或存在于具有进口和入口的通道中或与之靠近，和/或在部分可变形的壁上。进一步，装置或盒的形式不是固定的，例如装置，其中只有一个入口存在，例如在设备齐全的装置或盒子中。这样的装置的例子可是在国际申请，国际公开号码WO 2008/135564或WO 2009/112594中都有具体的描述，他们的全部作为本发明的参考或一部部分。

在一些实施方式中，通过以上描述的生产方法或使用以上描述的材料生产的装置，该装置作为定性和/或定量检测探针分子与目标分子之间的分子作用力,包括：微列阵，包括固定在微列阵原件上的探针分子，所述的微列阵位于所述装置的第一表面上；和形成于包括有微列阵的第一表表面与第二表面之间的反应腔。被转换的光学调制状态的材料可以被用来生产或存在于装置的第一表面上，可以被用来生产或存在于形成于包括有微列阵的第一表表面，和/或第二表面之间的反应腔。进一步，装置或装置的派生物的形式不是固定的，例如装置中，微列阵可以位于第二表面上。这样的装置的例子可是在国际申请，国际公开号码WO 2005/108604中都有具体的描述，他们的全部作为本发明的参考或一部部分。

在一些实施方式中，通过以上描述的生产方法或使用以上描述的材料生产的装置，该装置包括：形成于第一基层和第二基层之间的通道，至少其中一个基层是柔性的，该通道包括系列间隔开的检测区域，每一个检测区域包括参与分析目标分析物质的探针物质。被转换的光学调制状态的材料可以被用来生产或存在于位于第一基层与第二基层的通道中，和/或在检测区域上或与检测区域靠近。进一步，装置或装置的派生物的形式不是固定的。这样的装置的例子可是在国际 申请，国际公开号码WO 2008/062048中都有具体的描述，他们的全部作为本发明的参考或一部部分。

在一些实施方式中，通过以上描述的生产方法或使用以上描述的材料生产的装置，该装置包括：位于腔体中的反应腔，腔体位于第一和第二表面之间。被转换的光学调制状态的材料可以被用来生产或存在于第一表面和/或第二表面上。进一步，装置的形式或派生的形式也是可变的，例如，装置中的第一表面可以包括微列阵，和/或微列阵与第二表面的距离是可变的。在一些实施方式中，通过以上描述的生产方法或使用以上描述的材料生产的装置，该装置包括位于腔体中的反应腔，腔体位于第一和第二表面之间，其中第二表面位于第一表面的对面，其中，在位于第一表面和/或第二表面的上的至少一部分的区域上，第一表面与第二表面之间的距离是可变的。被转换的光学调制状态的材料可以被用来生产或存在于第一表面和/或第二表面上。进一步，装置的形式或派生的形式也是可变的，例如，装置中的第一表面可以包括微列阵，和/或微列阵与第二表面的距离是可变的。

在一些实施方式中，通过以上描述的生产方法或使用以上描述的材料生产的装置，该装置包括位于腔体中的反应腔，腔体位于第一和第二表面之间，其中第二表面位于第一表面的对面，通过位于第一表面和/或第二表面的上的至少一部分的区域上的一个或多个替换元件，第一表面与第二表面之间的具体是可变的。被转换的光学调制状态的材料可以被用来生产或存在于第一表面和/或第二表面上，和/或替换元件上或中。进一步，装置的形式或派生的形式也是可变的，例如，装置中的第一表面可以包括微列阵，和/或微列阵与第二表面的具体是可变的，其中第二表面具有置换结构，和/或置换结构或置换元件并不是装置的一部分，可以被另外部的实体提供。这样的装置的例子可是在国际申请，国际公开号码WO 2007/051863中都有具体的描述，他们的全部作为本发明的参考或一部分。

在一些实施方式中，通过以上描述的生产方法或使用以上描述的材料生产的装置，该装置可以为在国际申请，国际公开号码WO 2008/055915 or WO 2009/013321中都有具体描述的哪些装置，他们的全部作为本发明的参考或一部分。

在一些实施方式中，通过以上描述的生产方法或使用以上描述的材料生产的装置，该装置包括具有入口的第一通道，与入口流体连通的纵断剖面，和控制元件。在一些实施方式中，通过以上描述的生产方法或使用以上描述的材料生产的装置，该装置包括具有入口和出口的第一通道，位于入口和进口之间的纵断剖面，和控制元件。在一些实施方式中，通过以上描述的生产方法或使用以上描述的材料生产的装置，该装置包括盒，该盒包括具有毛细作用入口的微流体通道，与毛细作用入口流体连通的检测区域，具有至少部分可变形壁的，且与通道的检测区域流体连通的微流体路径，和控制元件。被转换的光学调制状态的材料可以被用来生产或存在于微流体通道中，毛细作用入口中，和/或检测区域上、微流体路径上，或和与部分可变性壁的临近处，和/或存在于控制元件的组件中。

术语“控制元件“在这里是指一个单位，或因素或方式，它们允许在装置的使用中或之后，前述方法的执行中或之后的过程中对装置、装置或系统的下级组分、测试结果、分析结果、比较的可能性、或与获得结果进行对比和校准而进行检测，评论，检查，扫描，更改或者查验。该术语可以代表控制行为的执行。进一步，装置的形式或派生的形式也是可变的，例如，装置还可以另外包括具有密封件的帽子，该帽子被设置成密封进口和形成包括进口，微流体通道和微流体路劲的流体回路。这样的装置的例子可是在国际申请，国际公开号码WO 2008/135564中都有具体的描述。

在另一方面，前面描述的材料，例如光学调制材料、包括有激光记号的材料、做记号的材料或被做记号的表面的材料，其中记号、做记号或被做记号的表面为光学调制的，例如荧光，这些材料可以用来作为光学参数的控制。“光学参数“是指一类例如对焦，图像的区域，曝光时间，元件之间的距离，或浑浊的参数。这类参数可以与材料的光学激发相联系。例如，如上描述材料的光学调制状态可以通过获取材料的图像而被确定。超时的荧光差异，因为内部空间变化而引起的荧光差异(例如，在反应腔中，装置或盒中是否有例如生物材料，如细胞，被导入，是否有生物增多或减少)，因为微流体通道处于不同的被填充的状态而引起的荧光差异，因为荧光光源与获取图像的组件之间的距离的改变而导致的荧光差异等等都可以被确定。“控制“可以包括对以上一个或多个参数的一个或多 个测量步骤，以及后面的与内部或外部数据、或者，在测量步骤之后或测量步骤之前获得的数据之间进行比较。

在一些方式中，被控制的光学参数为光学装置或读取系统图的焦点或焦距。在另一些方式中，方法包括通过上述的光学参数来对系统的测试组件或与装置对应的测试组件的焦距的校核或控制。

在一些实施方式中，系统的测试组件的焦距或焦点，或与装置对应的测试组件的焦距或焦点可以被校核，其中，系统或装置包括上面描述的光学调制材料，例如位于或存在于装置、系统、盒或微流体通道中，这种校核包括以下一些步骤，例如为测试组件调节暴光时间的步骤；在预先确定的位于装置、系统、盒子或微流体通道上的区域上的光学检测光学调制元件，点或形状的步骤；确定在所述区域上表示光学调制元件，点或形状数量的第一值的步骤；基于第一值与阀值进行比较而获得的第二值，该第二值可以表示装置或系统的可用性，或在装置或系统上或中执行的功能、方法、过程的可用性。

优选的，测试组件的焦距或焦点的校核为一个或多个参数与合适的基准值或预先设置的值进行的比较。这样的参数从目光点的光的转换。这样的转换，例如可以通过本领域的一般技术人员知晓的散光圈来确定。基于散光圈的标准，在聚焦的过程中，如果光被最大限度的聚合，一个物体或图象的点可以相应地被考虑。在一个方式中，如果不符和该标准，焦距或焦点可以被调节。这种调节可以被自动完成，例如通过电子或机械装置来自动完成，优选的，以自动调焦对准某个物体的形式。合适的技术，装置或考察方法等是本领域的一般技术人员所知晓的。检测组件可以被包括在系统中，例如在生物学，药学，化学或生物化学，细胞计数等分析中使用的系统，或者检测组件与装置联系在一起进行的生物学，药学，化学或生物化学，细胞计数等分析。在一些方式中，检测组件可以被包括在前面描述的系统或装置中。在一些方式中，检测组件可以与前面描述的装置联系在一起。

检测组件的暴光时间也可以通过到达测试组件的光量或强度进行调节，例如与像场深度的反应，在距离范围内或对焦过程中可接受形状的物体，或者其他任何本领域一般技术知晓的参数。这种调节可以被自动完成，例如通过电子或机 械装置来自动完成，优选的，以自动与可查找的表进行比较的形式。合适的装置、技术和带有阀值的可查找的表格都是本领域一般技术知晓的。可选的，暴光时间也可以通过手动进行调节。

在一些方式中，表示光学调制的，例如荧光的，元件，点或形式的数量的值可以与一基准值或可查找的表格进行比较。例如，如果，表示光学调制，例如荧光，元件，点或形式的数量为零，如没有光学调制的，例如荧光的，元件，点或形式能够被检测到；装置或系统，或在装置或系统上或中执行的功能、方法、过程被认为是不可用的。可选的，表示光学调制的，例如荧光的，元件，点或形式的数量的值远远大于预先设置的值或基准值，例如大于100000，或者太多的光学调制的，例如荧光的，元件，点或形式能够被检测到；装置或系统，或在装置或系统上或中执行的功能、方法、过程也被认为是不可用的。相反，如果值在一个基准值范围内，例如如上所示，装置或系统，或在装置或系统上或中执行的功能、方法、过程可以被认为是可用的或/和正确的。

如果在相关条件下遇到一个不可用的情形或结果，可以停止使用装置或系统，和/或者任何被获得的结果可以被废弃或忽略。相应的信息可以被电子地编码或记录在一个条形码中或任何适合的编码材料中。例如，这样的条形吗可以被粘贴在装置或微流体通道上。

另外的或可选的，遇到不可用的情形可以导致一个或多个调节行为。调节行为可以在与表示光学调制的，例如荧光的，元件，点或形式的数量的值的反应过程中被检测。例如，没有光学调制的，例如荧光的，元件，点或形式被检测到，检测系统的焦距可以被调节或在已经调节的基础上在做进一步的调节。在一些方式中，调节可以通过检测系统与包括有光学调制的，例如荧光的，元件，点或形式的材料之间的距离变化来完成，这种材料例如为微流体通道；距离的变化的调节，例如可以通过增加0.01,0.05,0.5,0.75,0.8,0.9,1.0,1.1,1.2,1.5,2,3,4,5,10,20,50或100微米，或者其他任何基于检测单元的属性，尺寸或形式适应的距离的增加而调节。这种的调节可以重复一次或多次，或者通过本发明揭示的其他方式来完成。进一步，暴光是可以被调节或在已经调节的基础上在做进一步的调节。暴光时间可以被减少或增加大约10％,20％,30％,50％,100％,200％,500％, 1000％or 10，10000％。这样的调节可以重复一次或多次，或者通过本发明揭示的其他方式来完成。

焦距、预先确定的区域和/或暴光时间的额外的多次重复的调节可以是针对焦距、预先确定的区域和/或暴光时间的每个参数独立的进行，也可以这些参数的组合一起进行。多次重复的调节可以是1-20次，例如2,3,4,5,6,7,8,9或10次。

如果进行多次重复调节后，不可用的情形仍然存在，则可以放弃使用装置或系统，和/或任何获得的结果都可以被废弃。

如果，在另一方面，表示可用性的结果的比较在预先确定的范围内，则可以继续使用装置或系统，和/或，通过该装置或系统活动获得的或将要获得的结果是准确的或正确的。

这些方法可以在这里描述分析的过程前或后进行。当然，也可以在执行分析的过程中进行。

在另一些具体实施方式中，本发明前面提到的方法的步骤也可以按照不同的顺利进行，例如表示在某一区域内的光学调制的，如荧光，元件，点或形状等等数量的第一值可以被确定；然后表示是否可用的值被确定。如果碰到了不可用的情况下，焦距可以被查验和/或调节，或/和曝光时间可以被调节，或者光学检测的区域也可以如前面描述的那样被调节。

在更详细的实施方式中，焦点位置的控制阀值可以通过测试最小3个光学调试的，例如荧光、元件、点或形状作为最低限制值，和大约10,000个光学调试的，例如荧光、元件、点或形状作为最大的限制值，例如，5,10,50,100或500个光学调试的，例如荧光，元件，点或形状的值。如果，在一个具体的实施方式内，表示装置或系统，或在装置或系统上或中执行的功能、方法、过程被认为是可用的第二值与第一值和基准阀值之间的背离不超过40％,35％,30％,25％,20％,15％,12％,11％,10％,9％,8％,7％,6％,5％,4％,3％,2％或1％，其中，第一值为表示在装置，盒，或微流体通道上的某一预先确定的区域内的光学调制的，如荧光，元件，点或形状等等数量的值，基准阀值为3个和大约10,000个光学调试的， 例如荧光，元件，点或形状的值；这样的测试被认为是有效的，和/或任何在装置或系统中进行或执行的过程、方法或功能可以被认为是准确的。如果伴随的分析被执行，相应的图像可以被采集，和/或被记录，和/或进行进一步的步骤。

如果，在一个具体的实施方式内，表示装置或系统，或在装置或系统上或中执行的功能、方法、过程被认为是可用的第二值与第一值和基准阀值之间的背离超过40％,35％,30％,25％,20％,15％,12％,11％,10％,9％,8％,7％,6％,5％,4％,3％,2％或1％，第一只值可以是，比如，表示在装置，盒，或微流体通道上的某一预先确定的区域内的光学调制的，如荧光，元件，点或形状等等数量的值，和，基准阀值可以为3个和大约10,000个光学调试的，例如荧光，元件，点或形状的值，这样的测试被认为是无效的，和/或任何在装置或系统中进行或执行的过程、方法或功能可以被认为是错误的或不正确的。装置或系统的使用或测试相应地被停止，和/或获得的结果可以被放弃。

在另一方面，微流体装置包括具有进口的第一通道，和与进口流体连通的纵断剖面，其中所述的装置的至少部分地由材料组成或该装置包括材料，其中所述的材料包括被转换成光学调制状态的材料，例如被转换成光学调制状态的塑料材料。术语“被转换成光学调制状态的材料”是指前述描述的材料，例如该材料包括激光记号、做记号或被做记号的表面，其中记号、做记号或被做记号的表面为光学调制的，例如荧光，或，通过前面描述的转换的方法获得的或可获得的材料。

在一个实施方式中，微流体装置包括具有进口和出口的第一通道，和位于出口和进口之间的纵断剖面，其中所述的装置的至少部分地由材料组成或该装置包括材料，其中所述的材料包括被转换成光学调制状态的材料，例如，被转换成光学调制状态的塑料材料。术语“被转换成光学调制状态的材料”是指前述描述的材料，例如该材料包括激光记号、做记号或被做记号的表面，其中记号、做记号或被做记号的表面为光学调制的，例如荧光，或，通过前面描述的转换的方法获得的或可获得的材料。进一步，微粒体装置的形式并不是固定的，例如装置，其中只有一个入口存在，例如在设备齐全的装置。

在另一个实施方式中，微流体装置包括具有进口开口和出口的第一通道，和位于出口和进口开口之间的纵断剖面，其中所述的装置的至少部分地由材料组成或该装置包括材料，其中所述的材料包括被转换成光学调制状态的材料，例如被转换成光学调制状态的塑料材料。术语“被转换成光学调制状态的材料”是指前述描述的材料，例如该材料包括激光记号、做记号或被做记号的表面，其中记号、做记号或被做记号的表面为光学调制的，例如荧光，或，通过前面描述的转换的方法获得的或可获得的材料。进一步，微粒体装置的形式并不是固定的，例如装置，其中只有一个进口存在，例如在设备齐全的装置。

在另一个实施方式中，微流体装置包括具有毛细作用进口的第一通道，和与毛细作用进口流体连通的检测区域，其中所述的装置的至少部分地由材料组成或该装置包括材料，其中所述的材料包括被转换成光学调制状态的材料，例如被转换成光学调制状态的塑料材料。在一个实施方式中，毛细进口，和/或检测区域，和/或包括有毛细进口的通道可以包括，或部分地包括所述的材料，由所述的材料或部分由所述的材料组成。进一步，微粒体装置的形式并不是固定的，例如装置，其中只有一个进口存在，例如在设备齐全的装置。

在另一个实施方式中，微流体装置包括具有毛细作用进口的第一通道，和与毛细作用进口流体连通的检测区域，具有至少部分可变形的壁，并与通道的检测区域流体连通的微粒体路径，其中，所述的装置的至少部分地由材料组成或该装置包括材料，其中所述的材料包括被转换成光学调制状态的材料，例如被转换成光学调制状态的塑料材料。在一个实施方式中，毛细进口，和/或检测区域，和/或包括有毛细进口的通道，和/或微粒体路径，和/或可变形的壁可以包括，或部分地包括所述的材料，由所述的材料或部分由所述的材料组成。进一步，微粒体装置的形式并不是固定的，例如装置，其中只有一个进口存在，例如在设备齐全的装置。一些装置的例子或详细的例子在国际申请，公开号码WO 2008/135564 or WO 2009/112594中有详细的描述。

在另一方面，装置，例如合适可用的，形式不固定的来定性或和定量测试探针分子与目标分子之间的相互作用，该装置可以包括微阵列，该微阵列包括固定在阵列元件上的探针分子，该微阵列被设置在装置的第一表面上，和和形成于 包括有微列阵的第一表表面与第二表面之间的反应腔，其中，该装置的至少部分地由材料组成或该装置包括材料，其中所述的材料包括被转换成光学调制状态的材料，例如被转换成光学调制状态的塑料材料。在一个实施方式中，装置的第一表面，和/或形成于包括有微列阵的第一表表面之间的反应腔，和/或第二表面可以包括或部分地包括所述的材料，或，由所述的材料或部分由所述的材料组成。在一些方式中，微阵列与第二表面之间的距离是可变的。一些装置的例子或详细的例子在国际申请，公开号码WO 2005/108604中有详细的描述，他们的全部作为本发明的一部分。

另一方面，盒包括：微流体通道，该微流体通道包括毛细进口；与毛细进口流体连通的检测区域；其中所述的盒至少部分地由材料组成，或该盒包括材料，其中所述的材料包括被转换成光学调制状态的材料，例如被转换成光学调制状态的塑料材料。在一些方式中，毛细进口，和/或检测区域，和/或微流体通道可以包括，或部分地包括所述的材料，由所述的材料或部分由所述的材料组成。进一步的形式或盒的派生是不固定的，例如盒可以包括出口。

在另一方面，装置包括形成于第一基层和第二基层之间的通道，至少其中一个基层是柔性的，该通道包括系列间隔开的检测区域，每一个检测区域包括参与分析目标分析物质的探针物质，其中，其中所述的装置至少部分地由材料组成，或该装置包括材料，其中所述的材料包括被转换成光学调制状态的材料，例如被转换成光学调制状态的塑料材料。在一个方式中，装置的形成于第一基层和第二基层之间的通道，和/或形成于包括有微阵列的第一表面之间的反应腔，和/或一个或多个检测区域可以包括，或部分地包括所述的材料，由所述的材料或部分由所述的材料组成。一些装置的例子或详细的例子在国际申请，公开号码WO 2008/062048中有详细的描述，他们的全部作为本发明的一部分。

在另一方面，装置，例如合适可用的，形式不固定的来定性或和定量测试粒子，该装置包括形成于位于第一和第二表面之间的腔体的反应腔，其中，其中所述的装置至少部分地由材料组成，或该装置包括材料，其中，所述的材料包括被转换成光学调制状态的材料，例如被转换成光学调制状态的塑料材料。在一些方式中，第一表面和/或第二表面可以包括，或部分地包括所述的材料，由所述 的材料或部分由所述的材料组成。进一步的形式或装置的派生是不固定的，例如第一表面可以包括微阵列。

在另一方面，装置，例如合适可用的，形式不固定的来定性或和定量测试粒子，该装置包括形成于位于第一和第二表面之间的腔体的反应腔，其中，第一表面位于第二表面的对立面，和，具有至少部分可变形壁并且与反应腔流体连通的微流体路径，其中，其中所述的装置至少部分地由材料组成，或该装置包括材料，其中，所述的材料包括被转换成光学调制状态的材料，例如被转换成光学调制状态的塑料材料。在一些方式中，该装置可以包括位于反应腔的第一表面和/或第二表面上的一个或多个光学调制元件。在进一步的方式中，该装置可以包括位于第一表面和第二表面上，和/或微流体路径中的一个或多个光学调制元件。在一些方式中，第一表面和/或第二表面可以包括，或部分地包括所述的材料，由所述的材料或部分由所述的材料组成。进一步的形式或装置的派生是不固定的，例如第一表面可以包括微阵列，和/或微列阵与第二表面之间的距离是可变的。在一些方式中，在第一表面包括微列阵的装置还可进一步地包括位于反应腔的第一表面上的一个或多个光学调制元件。光学调制元件的数量可以基于装置的尺寸大小，装置的用途和，元件的形式和尺寸或其他因素而可变的。例如，光学调制元件可以介于1-1000个，例如大约0,20,30,40,50,60,70,80,90,或大于100个，或者大于100个，例如150，200，250，300，350，400，450，500，550，600，650，700，750，800，850，900，950，或者1000，或者是以上数量之间的任何数量，或者大约1000个光学调制元件。

在另一些方式中，装置，例如合适可用的形式不固定的来定性或和定量测试粒子，例如细胞，包括T细胞或CD4+细胞，该装置包括形成于位于第一和第二表面之间的腔体的反应腔，其中，第二表面位于第一表面的对立面，和，一个或多个置换器，通过在第一表面和或第二表面上的至少一个或多个部分中的置换器的作用，第一和第二表面之间的距离是可变的，其中，所述的装置至少部分地由材料组成，或该装置包括材料，其中，所述的材料包括被转换成光学调制状态的材料，例如被转换成光学调制状态的塑料材料。在一个方式中，第一表面和/或第二表面，和/或置换器可以包括，或部分地包括所述的材料，由所述的材料或部分由所述的材料组成。进一步的形式或装置的派生是不固定的，例如第一表 面可以包括微阵列，或和微阵列与第一表面的具体是可变的，和/或第二表面具有一置器，或者该置换结构不是该装置的一部分，而是由外部的实体提供。一些装置的例子或详细的例子在国际申请，公开号码WO 2007/051863中有详细的描述，他们的全部作为本发明的一部分。

在另一方面，适合或用于测试被分析物质的装置包括：盒，该盒包括：微流体通道，该微流体通道包括毛细进口；与毛细进口流体连通的检测区域；具有至少部分可变性的壁，并且与通道的检测区域流体连通的微流体路径，和如上描述的控制元件，其中，所述的装置至少部分地由材料组成，或该装置包括材料，其中，所述的材料包括被转换成光学调制状态的材料，例如被转换成光学调制状态的塑料材料。在一些方式中，微粒体通道，和/或毛细进口，和/或检测区域，和/或微流体路径，和/或部分可变形的壁，和/或控制元件可以包括，或部分地包括所述的材料，由所述的材料或部分由所述的材料组成。进一步的形式或装置的派生是不固定的，例如，装置还可以另外包括具有密封原件的帽子，盖帽子被配置成密封进口和形成包括进口，微流体通道和微流体路劲的流体回路。一些装置的例子或详细的例子在国际申请，公开号码WO 2008/135564中有详细的描述，他们的全部作为本发明的一部分。

在另一方面，适合或用于测试被分析物质的装置包括：盒，该盒包括：微流体通道，该微流体通道包括毛细进口；与毛细进口流体连通的检测区域；具有至少部分可变性的壁，并且与通道的检测区域流体连通的微流体路径，和具有密封原件的帽子，帽子被配置成密封进口和形成包括进口，微流体通道和微流体路劲的流体回路，其中，所述的装置至少部分地由材料组成，或该装置包括材料，其中，所述的材料包括被转换成光学调制状态的材料，例如被转换成光学调制状态的塑料材料。在一些方式中，微粒体通道，和/或毛细进口，和/或检测区域，和/或微流体路径，和/或部分可变形的壁，可以包括，或部分地包括所述的材料，由所述的材料或部分由所述的材料组成。进一步的形式或装置的派生是不固定的，例如，装置还可以另外包括一些装置的例子或详细的例子在国际申请，公开号码WO 2008/135564中有详细的描述。

在另一方面，适合或用于测试被分析物质的系统包括：盒，该盒包括：微流体通道，该微流体通道包括进口；与毛进口流体连通的检测区域；具有至少部分可变性的壁，并且与通道的检测区域流体连通的微流体路径；和具有密封原件的帽子，帽子被配置成密封进口和形成包括进口，微流体通道和微流体路劲的流体回路；荧光测试器，该荧光测试器包括光源、目镜和物镜；其中，所述系统的至少部分由材料组成或包括材料，所述的材料包括被转换成光学调制状态的材料，例如被转换成光学调制状态的塑料材料。在一些方式中，目镜可是是有10度或更大立体角度度的目镜。在一些方式中，物镜可是是有10度或更大立体角度度的物镜。在另一个方式中，微粒体通道，和/或进口，和/或检测区域，和/或微流体路径可以包括所述的材料，或部分地包括所述的材料，或由所述的材料或部分由所述的材料组成。进一步的形式或系统的派生是不固定的，例如，系统还可以不具有荧光检测器，装置具有不是检测荧光的测试器，系统不具有帽子结构。一些系统的例子或详细的例子在国际申请，公开号码WO 2010/105802中有详细的描述，他们的全部作为本发明的一部分。

进一步的实施方式中，装置或系统是本发明在这列描述的装置或系统或他们的派生的形式，例如国际申请，公开号WO 2008/055915 or WO 2009/013321中所描述的那样，其中，所述的装置或系统的至少部分由材料组成或包括材料，所述的材料包括被转换成光学调制状态的材料，例如被转换成光学调制状态的塑料材料。

在另一方面，适合或用于测试被分析物质的装置包括：盒，该盒包括：微流体通道，该微流体通道包括毛细进口；与毛细进口流体连通的检测区域；具有至少部分可变性的壁，并且与通道的检测区域流体连通的微流体路径，和控制元件，其中，所述的控制元件至少部分地由材料组成，或该控制元件包括材料，其中，所述的材料包括被转换成光学调制状态的材料，例如被转换成光学调制状态的塑料材料。在一个方式中，控制元件可以为在次描述的控制元件。在一个方式中，所说的控制元件可以与再次描述的控制光学参数相联系或伴随。在一个方式中，控制元件可以被在确定再次描述的及焦距的方法。

在进一步的方式中，在次描述的装置、系统或盒可以包括一个或多个光学调制元件。这样的元件，例如可以包括几何学的形状，几何学的图案，点，斑点，线，圆，正方形，特征，符号，图像，条形码，数据阵列代码或者数据阵列，或者他们任意的组合。在进一步的方式中，所述的几何学形状是以上描述的。

在进一步的方式中，在次描述的装置、系统或盒可以包括阵列光学调制元件。这样的元件，可以是，例如以几何顺序存在的阵列，或者以条形码，特征或其他任何形式或形状存在。这样的阵列可以是在装置、系统或盒子的每个单元、或每个表面包括2个点，3,4,5,6,7,8,9,10,20,30,40,50,60,70,80,90,100,200,300,500,1000或者大于1000的点。

在进一步的方式中，所述的光学调制点阵列可以是以数据阵列或看到记号，例如前面描述的那样的形式存在。

在进一步的方式中，在次描述的装置、系统或盒可以至少部分由上述描述的材料组成或包括上述描述的材料，例如塑料材料，或者塑料材料与其他描述过的材料的组合而获得的材料。

在另一方面，用于或合适用于定性和/或定量测试粒子的方法，粒子可以是细胞、例如T细胞和CD⁴⁺细胞，该方法可以包括：配置假设包括一个或多个类型粒子的样本到如上描述的装置中的反应腔中，例如该装置至少部分地由材料组成，或该装置包括材料，其中，所述的材料包括被转换成光学调制状态的材料，例如被转换成光学调制状态的塑料材料；通过一个或多个置换器置换位于反应腔中的至少部分样本；检测或确定表示样本中一个或多个类型粒子是否存在或存在的量的值。在一个方式中，该方法还可以包括如上描述的光学控制步骤，例如，如果必要的时候，进行焦距的检查或调解的控制。在一个方式中，该方法还可以包括，配置包括多种粒子的样本到反应腔中，通过一个或多个置换器置换位于反应腔中的多种粒子的子集；检测或确定表示子集中粒子数量的一个或多个值，通过在检测过程中获得的所述的一个或多个值计算获得反应腔中的多种粒子的总数。在另一个方式中，方法进一步包括在进行测试前，配置或导入包一个或多个试剂到反应腔中，每一个试剂包括一个或多个可被检测的办族。一个或多个试剂可以从如下的试剂中选择，例如核酸，肽，蛋白片段，蛋白，糖类，低分子量的 化学物质，或者他们的类似物质，和/或他们的混合物，和这些试剂具有结合能被检测的一个或多个粒子。在一个方式中，该方法还可以包括，配置包括多种粒子的样本到反应腔中，置换位于反应腔中的部分粒子从而只留下多种粒子合适的一个子集；光学检测子集的粒子的数量，基于检测的粒子，来确定表示子集的粒子数量的值。在另一个方式中，方法还包括基于子集的粒子数量的值来确定样本中粒子的数量或样本中的粒子数量是否丰富。当然，这样的确定还可以进一步基于检测腔中检测样本的体积的大小。在另一方式中，方法还包括一定NR数量的重复配置样本中的多种粒子和从检测腔置换一些粒子的步骤，在每一个情况下，只有一个合适的子集被保留，和NR≥2和，NR重复次数的ND数量，光学检测子集的粒子的数量，基于检测的粒子，来确定表示子集的粒子数量的值，其中ND≥NR。在另一方式中，方法还包括一定NR数量的重复配置样本中的多种粒子和从检测腔置换一些粒子的步骤，还包括为了NR数量的重复，再引入至少被置换的多种粒子到检测样本中。在另一方式中，置换部分多种粒子可以包括检测测试样本腔的体积，同时，也可以包括减少腔的第一和第二壁之间的距离。在一个方式中，该方法还可以包括，配置包括多种粒子的样本到反应腔中，置换位于反应腔中的部分粒子从而只留下多种粒子合适的一个子集；光学检测子集的粒子的数量，基于检测的粒子，在粒子的子集中来确定表示目标粒子是否存在。在另一个方式中，该方法还可以包括，配置第一多种粒子的样本到反应腔中，减少反应腔的体积；光学检测反应腔中的粒子，基于检测的粒子，确定表示存在于反应腔粒子数量的值；增加反应腔的体积，配置第二多种粒子的样本到反应腔中，减少反应腔的体积，基于检测的粒子，确定表示存在于反应腔粒子数量的值。一些方法的例子或详细的例子在国际申请，公开号码WO 2007/051861中有详细的描述，他们的全部作为本发明的一部分

在另一方面，方法可以包括用光学标签或标签试剂把固定在微粒体通道上的粒子，粒子可以是细胞、例如T细胞和CD⁴⁺细胞，进行标签，获取固定粒子的子集的第一图像，确定表示图像中粒子数量的第一值；经过间歇后，获取固定粒子的子集的进一步的图像，确定表示进一步图像中粒子数量的第二值；基于第一值与第二值的比较，确定第三值，第三值可以表示光学标签的活性和/或质量，和/或表示粒子与标签试剂之间相互作用的质量，和/或该装置或系统的可用性， 和/或在装置、系统上或中进行的任何方法、过程和功能的可用性，和/或使用该装置或系统获得的结果的准确性；和，在以上步骤之前、之后或之间使用控制元件来对焦和/或对准所述的图像，其中，控制元件为至少部分地由材料组成或包括材料，该材料包括被转换成光学调制状态的材料，例如如上描述的被转换成光学调制状态的塑料材料。在一个方式中，获得进一步的图像和确定进一步的值的步骤可以被重复至少2,3,5,10o或n次；和第三值的确定可以基于第一值与进一步的一个值或几个值的比较。在进一步的方式中，表示光学标签的活性和/或质量，和/或表示粒子与标签试剂之间相互作用的质量，和/或该装置或系统的可用性，和/或在装置、系统上或中进行的任何方法、过程和功能的可用性的第三值可以相对于进一步的值增加至少大约10％，至少大约20％或至少大约30％。在一个方式中，第三值可以与一基准值进行比较。以及比较，可以导致一个动作。在一些方式中，这些动作可以是一个或多个群，该群包括显示错误的信息，显示信息的状态，相对于另一种组分移动一组分；执行一种运算法则；中断或继续进行分析化验、某个过程或运算法则等。可选的，对于第一值或基准值增加的值大约少于10％，或大约少于20％或大约少于30％的进一步值的增加可以表示装置或系统的不可用，和/或在装置或系统上执行的方法、过程或功能是不可用的。获得这样的增加可以导致所述装置或设置的停止使用；或者废弃通过所述的装置或系统获得的结果。

在一些方式中，固定在微流体通道上的粒子可以是无机物质，单核细胞，例如哺乳动物的细胞，包括T细胞，CD⁴⁺细胞，细菌或病毒。被使用的标签试剂可以是染料，配合基或抗体。进一步，染料，配合基或抗体可以是荧光的或与荧光元件偶联。在进一步的方式中，第一和进一步的图像之间的间歇可以是10秒到30分钟，1分钟到15分钟，5分钟到10分钟，或者大约7分钟。在进一步的方式中，方法还可以包括：从微流体通道的至少一个位置上获得图像；向微流体通道中引入样本；从微流体通道的至少一个位置上获得进一步的图像；分析图像的一个或多个参数；基于这些参数计算一个值，该值可以表示微流体通道中是否存在样本，和/或装置或系统的可用性，或和再装置或系统中，或与装置或系统一起执行的方法、过程或功能是否可用。在一个方式中，表示微流体通道中是否存在样本，和/或装置或系统的可用性，或和再装置或系统中，或与装置或系统 一起执行的方法、过程或功能是否可用的值可以是在第一图像的灰度和进一步图像的灰度值之间的灰度值值增加50％。获得这样的值可以导致继续使用所述的装置或系统，和/或通过该装置或系统获得的结果是正确的。可选的，在一个方式中，表示微流体通道中是否存在样本，和/或装置或系统的可用性，或和再装置或系统中，或与装置或系统一起执行的方法、过程或功能是否可用的值可以是在第一图像的灰度和进一步图像的灰度值之间的灰度值增加少于50％。获得这样的值可以导致不继续使用所述的装置或系统，和/或废弃通过该装置或系统获得的结果。在进一步的方式中，被使用的图像的参数可是50-90个百分点；或每一个图像的灰度值的90个百分点。在另一些方式中，方法还可以包括：校核测试单元或系统或与装置联系的测试单元的焦距；其中，所述的装置或系统包括一个或多个光学可检测的粒子，这些粒子被固定在微流体通道中；和有必要地调节焦距；调节测试单元的曝光时间；光学测试在微流体通道中预先确定区域中的一个或多个粒子；确定在所述的区域内表示粒子数量的第一值；基于与第一值或基准值的比较获得第二值，该第二值可以表示装置或系统的可用性，或和再装置或系统中，或与装置或系统一起执行的方法、过程或功能是否可用。或者，方法包括：设置镜头在相对于装置或系统的微粒体通道的第一距离和第一位置；装置或系统包括流体样本，或一个或多个光学可测试的，被固定在微流体通道中的粒子，获取所述固定的粒子的至少一个子集的第一图像；基于至少一个参数，设置镜头在相对于装置或系统的微粒体通道的第一距离和第二位置；获取所述固定的粒子的至少一个子集的进一步的第二图像，确定表示第二图像中粒子数量的第一值；确定表示存在于第一值和基准值之间不同的第二值；和，基于所述的第二值，在至少微流体通道的上第二位置获取第二距离的图像，或者产生一个错误信息。该方法也可以与一下的方法组合进行操作，该方法包括：用光学标签或标签试剂把固定在微粒体通道上的粒子进行标签，获取固定粒子的子集的第一图像，确定表示第一图像中粒子数量的第一值；经过间歇后，获取固定粒子的子集的进一步的第二图像，确定表示第二图像中粒子数量的第二值；基于第一值与第二值的比较，确定第三值，第三值可以表示光学标签的活性和/或质量，和/或表示粒子与标签试剂之间相互作用的质量，和/或该装置或系统的可用性，和/或在装置、系统上或中进行的任何方法、过程和功能的可用性，和/或使用该装置或系统获得的结果 的准确性。和/或，该方法也可以与以下的方法组合一起进行，该方法包括：在被包括在装置或系统中的微流体通道上的至少一个位置获得图像；导入流体样本到微流体通道中；在微流体通道上的至少一个位置获得进一步的图像；分析这些图像的一个或多个参数；给予分析的惨呼计算一个值，该值可以表示微流体通道中是否存在样本，和/或和/或该装置或系统的可用性，和/或在装置、系统上或中进行的任何方法、过程和功能的可用性。在进一步的方式中，方法包括：用光学标签或标签试剂把固定在微粒体通道上的粒子进行标签，获取固定粒子的子集的第一图像，确定表示第一图像中粒子数量的第一值；经过间歇后，获取固定粒子的子集的进一步的第二图像，确定表示第二图像中粒子数量的第二值；基于第一值与第二值的比较，确定第三值，第三值可以表示光学标签的活性和/或质量，和/或表示粒子与标签试剂之间相互作用的质量，和/或该装置或系统的可用性，和/或在装置、系统上或中进行的任何方法、过程和功能的可用性，和/或使用该装置或系统获得的结果的准确性。这样的方法可以和一下的方法组合使用，该方法包括：在被包括在装置或系统中的微流体通道上的至少一个位置获得图像；导入流体样本到微流体通道中；在微流体通道上的至少一个位置获得进一步的图像；分析这些图像的一个或多个参数；基于分析的参数计算一个值，该值可以表示微流体通道中是否存在样本，和/或和/或该装置或系统的可用性，和/或在装置、系统上或中进行的任何方法、过程和功能的可用性。在进一步的方式中，该方法还可以包括至少一个以下步骤：控制装置在系统中的测试单元中的存在或相对于系统的测试单元的存在；确定装置或系统中微流体中的荧光背景；通过测量装置或系统中某一目标粒子来确定目标计算的准确性；控制装置在系统的测量单元中的移动性；控制装置或系统中的电量准确性，时间的有效性，和住温度；和控制系统的软件参数。在进一步的方式中，方法包括，导入流体样本到位于微流体网、装置或系统中的微流体通道中；其中，微流体通道包括含有多种粒子的流体样本，和，其中微流体通道包括和/或与控制元件联系；形成混合物，该混合物包括至少部分的流体样本和光学标签；形成多个复合物，每一个复合物多种粒子中的一个和至少一个光学标签；测试存在于混合物子集中的复合物；进行控制的过程，该控制的过程包括：确定基于控制元件上的一个值以及与预先确定的值进行比较；其中，两个值的匹配或两个值之间的背离少于30％，则表示微粒体通道、装置或 系统为可用的，和/或在微粒体通道、装置或系统上执行的方法、过程和功能为有用的或有效的；导致微粒体通道、装置或系统的继续使用和/或从微粒体通道、装置或系统获得的结果为准确的或正确的，和，其中，两个值的匹配度或两个值之间的背离大于30％，则表示微粒体通道、装置或系统为不可用的，和/或在微粒体通道、装置或系统上执行的方法、过程和功能为错误的或无用的；导致停止使用微粒体通道、装置或系统的继续，和/或从微粒体通道、装置或系统获得的结果为错误的。在进一步的方式中，任何以上的方法可以包括测试复合物的步骤，该步骤也允许测试和/或传染病的逆转和/或传染病逆转状态的结论。传染病的逆转可以是HIV的感染。在一些方式中，所使用的装置或系统为本发明前面描述的那样的装置和系统。在进一步的方式中，该方法包括：让用于与粒子结合的可检测的标签与粒子接触，该粒子被固定在微流体网、装置或系统中的微流体通道中；形成复合物；每一个复合物包括一个光学标签和被固定在微流体通道中的一个粒子；获得第一图像，该图像包括至少固定的复合物的一个子集；确定表示存在与第一图像中复合物数量的第一值；在间隔后，获取固定复合物子集的进一步的第二图像；确定表示第二图像中复合物数量的第二值；基于第一值与第二值的比较，确定第三值，第三值可以表示光学标签的活性和/或质量，和/或表示粒子与标签试剂之间相互作用的质量，和/或该装置或系统的可用性，和/或在装置、系统上或中进行的任何方法、过程和功能的可用性，和/或使用该装置或系统获得的结果的准确性。控制元件为本发明前面描述的哪些控制原价爱你。在一个方式中，控制原价爱你可以与前面描述的控制光学参数一起使用。在进一步的方式中，所说的控制元件可以再确定焦距的方法中被使用。

在另一方面，方法可以包括：提供装置或系统，该装置或系统包括被转换成光学调制状态的材料，例如塑料材料，其中，该被转换成光学调制装置的材料包括预先确定数量的光学调制状态元件和/或预先确定尺寸的光学调制状态元件；获得包括元件的子集的图像；确定图像中元件的数量和/或尺寸；基于获得的图像中元件的数量或和尺寸与预先确定的元件的数量或和尺寸的比较获得的值，该值可以表示该装置或系统的可用性，和/或在装置、系统上或中进行的任何方法、过程和功能的可用性，和/或使用该装置或系统获得的结果的准确性。在一个方式中，能够被激发的元件可以是本发明描述的任何光学调制元件，例如几何学形 状，几何学的图案，斑点，点，线条，圆，正方形，特征，符号，图，条形码或数据阵列，或者他们任何的组合。

术语“预先确定的数量”在这里是指固定数量的这样的元件。这些元件可以在本发明上述描述的转换这些材料的过程中获得。元件的数量也可以被编码在所述的装置的数据阵列中或条形码中，或者，能够被检测元件的数量或尺寸相同的读取设备所检测。

术语“预先确定的尺寸”在这里是指固定尺寸的一个或多个元件。这些元件可以在本发明上述描述的转换这些材料，例如塑料材料，的过程中获得。同样，元件的尺寸也可以被编码在所述的装置的数据阵列中或条形码中，或者，能够被检测元件的数量或尺寸相同的读取设备所检测。

在一个方式中，测试单元可以被包括在系统中，例如生物学、药物学、化学、生物化学、细胞计数分析的系统中，测试单元也可以与装置相关联，装置可以用来执行生物学、药物学、化学、生物化学、细胞计数的分析。

如果，在一个方式中，确定的光学调制元件的数量、和/或尺寸、和/或形状与预先设置的数量、和/或尺寸、和/或形状的比较后导致一个差异，读数装置的焦距可以被调节、和/或读数装置与包括有光学调制元件的材料之间的距离可以被调节或修正。这话调节或修正可以例如电子或物理机械装置自动完成，优选的，对物体进行自动调焦。合适的技术、装置或计算方法都是本领域的一般技术人员知晓的。可选的，这些参数的调节也可以通过手动进行调节。

如果，在一个方式中，确定的光学调制元件的数量、和/或尺寸、和/或形状与预先设置的数量、和/或尺寸、和/或形状的比较后导致一个差异，额外的或可选的，测试单元的曝光时间可以根据到达测试单元的光的强度和总量进行调节，例如与某个区域的景深对应，物体形状是否处于可以接受范围的距离，或对焦，或者是其它任何本领域一般技术人员知晓的参数进行调节。这话调节或修正可以例如电子或物理机械装置自动完成，优选的，自动与可查找的表格比较。合适的技术、装置或为了在表格可查找的基准值都是本领域的一般技术人员知晓的。可选的，曝光时间也可以通过手动进行调节。

在另一些方式中，测试镜头检测色差也可以通过确定的光学调制元件的数量、和/或尺寸、和/或形状与预先设置的数量、和/或尺寸、和/或形状进行比较被检测。在一个方式中，如果，在一个方式中，确定的光学调制元件的数量、和/或尺寸、和/或形状与预先设置的数量、和/或尺寸、和/或形状的比较后导致一个差异，测试检测镜头的色差也可以调节。

可选的，光的发射，例如荧光的发射也是可以被检测的。例如，存在于装置或系统上的光学调制元件的荧光可以被检测到。相应获得的值可以与先前获得的发射光的值或已经注册的发射光的值进行比较。在一个方式中，如果光学调制元件的荧光值与预先确定的荧光值比较有差异，测试镜头的焦距、曝光时间和色差也是可以按照前述的方法进行调节。

术语“差异”在这里是指光学调制元件的数量和/或尺寸与预先设定的该元件的数量和/或尺寸之间的背离大于大约1％，大于大约2％，大于大约3％或大于大约4％的背离值，或，大于或等于5％，6％，7％，8％，9％，10％，11％，12％，13％，14％，15％，20％，25％，或30％。

如果，在另一实施方式中，没有光学调制的，例如荧光，元件，点或形状被检测，装置或系统，和/或在装置、系统上或中进行的任何方法、过程和功能的可以被认为是不可用的或无效的。

另外，如果，在另一实施方式中，表示光学调制的，例如荧光，元件，点或形状的值远远大于预先设置的值，例如有太多的光学调制的，例如荧光，元件，点或形状被检测到，装置或系统，和/或在装置、系统上或中进行的任何方法、过程和功能的也可以被认为是不可用的或无效的。另外，例如，如果该值处于一定的范围内，例如测试的数量和/或尺寸和预先设置的数量和/或尺寸之间的背离处于1-3％的范围内，或1％到4％，5％，6％，7％，8％，9％，10％，11％，12％，13％，14％，15％，20％，25％，或30％的范围内，装置或系统，和/或在装置、系统上或中进行的任何方法、过程和功能的可以被认为是可用的或准确的。

如果在使用装置或系统的过程中，一个不可用的情形被碰到，可以停止使用装置或系统，和/或从装置或系统上获得的结果被废弃掉。相应的信息可以被 电子地被编码在条形码或数据矩阵中，或者其他任何核实的编码材料中。这样的条形码或数据矩阵可以例如被粘连在装置或微流体通道上。

在另一些方式中，方法可以另外包括配置怀疑包括一个或多个粒子的样本到装置中的反应腔中，测试或检测表示一个或多个粒子是否存在和/或数量的值。在进一步的方法中，该方法还包括另外如前面描述的步骤来显示曾经装置或系统是否是可用的或不可用的。

在一个方式中，方法可以包括反应腔中的至少部分样本，例如这样的置换可以是用一个或多个置换器或置换结构。

在另一个方式中，被包括在上述方法中描述的装置、系统或盒中的材料可以包括光学调制元件阵列。这样的元件可以是以几何学形状排列的阵列，或以条形码、特征或其它人任何形式或形状呈现。在装置、系统或盒子上的每个单元或表面存在的该阵列可以包括、每个包括2个点,3,4,5,6,7,8,9,10,20,30,40,50,60,70,80,90,100,200,300,500,1000点或大于1000的点。

在另一个方式中，被包括在上述方法中描述的装置、系统或盒中的材料至少部分的由上述描述的材料组成或包括该材料，这种材料可以是塑料材料或前面描述的其它材料与塑料材料的组合。

在另外的方式中，用于分析的样本可以是血液样本。在另外的方式中，用于分析的血液样本可以是人类血液。

在另外的方式中，按照前述方法描述的被检测、测量或区分的粒子可以是原核细胞、真核细胞、或病毒粒子。在更具体的方式中，粒子为人类细胞。在另外的更具体的方式中，粒子为T细胞，例如人类T细胞。在另外的更具体的方式中，粒子为CD4⁺细胞，例如人类CD4⁺细胞。

在另外的方式中，盒，该盒部分由上面描述的材料组成或该盒包括上面描述的材料，其中盒(图7，100)可用来分析细胞的数量，例如人类T细胞或人类CD4⁺细胞。在一些方式中，这些细胞可以来源于样本中，例如血液样本，特备是临床血液样本。

在一个方式中，盒可以包括检测通道(图7,110).在一个具体的方式中，检测通道可以包括用于调节的控制元件，例如相对与通道设置的检测器的对焦的位置或曝光时间的调节，例如在检测通道的部分(图7,130)。在一个更具体的方式中，检测通道包括为了调节的控制元件，例如相对与通道设置的检测器的对焦的位置或曝光时间的调节，和/或测试镜头的色差的校核，例如在检测通道的部分(图7,130)。

在另一个方式中，盒还可以进一步包括为了样本进入的毛细进口，例如血液样本。在一个更具体的方式中，盒优选的包括为了毛细进口的一个控制器(图7,120)。

在一个进一步的方式中，盒可以包括预先设置范围的一个或多个光学调制点(图7,140)。这些光学调制的点可以进一步具有设定的几何形状和具体的光学调制特征。在另一个方式中，这些光学调制的点可以位于每一个单独的盒子上的测试通道上的设定位置，例如在图7中130所描述的位于通道的界面上。

在一个方式中，前面描述的转换材料的方法可以被用来转换或产生微流体盒(图7,100)。

在另一个方式中，盒子(图7,100)包括测试通道(110，图7)和毛细进口，和毛细进口的控制器(图7，120)，和预先设置范围的一个或多个光学调制的单个点，这些单个的点具有设定的几何形状和具体的光学调制特征(图7,140)，这些单个的点可以位于测试通道上或前面描述的盒子上，这样的盒子是为了测试血液样本中细胞的数量。被测试的细胞可以是任何细胞。在一个方式中，被测试的细胞为T细胞或CD4⁺细胞。

在另一些实施方式中，测试细胞数量的步骤包括，例如通过控制元件，调节相对与测试通道设置的测试器的焦距位置或曝光时间。在一个具体的方式中，测试细胞数量的步骤包括，例如通过控制元件，调节相对与测试通道设置的测试器的焦距位置或曝光时间，控制元件例如可以是一个或多个具有光学调制的单个的点，这些点具有设定的几何形状和具体的光学调制特征(图7,140)。

在进一步的方式中，测试细胞数量的步骤包括，例如通过控制元件，调节相对与测试通道设置的测试器的焦距位置和曝光时间，和对测试镜头色差的进一步的校核。在进一步的方式中，测试细胞数量的步骤包括，例如通过控制元件，调节相对与测试通道设置的测试器的焦距位置和曝光时间，和对测试镜头色差的进一步的校核，其中控制元件可以是一个或多个具有光学调制的单个的点，这些点具有设定的几何形状和具体的光学调制特征(图7,140)。

在另一些方式中，如果基准的参数没有达到，例如，通过一个或多个光学调制的单个点的控制，调节相对与测试通道设置的测试器的焦距位置和曝光时间没有达到预先设置的标准，则相对的被执行的测试或检测，例如包括如上所描述的调节步骤，可以被认为是无效的、和/或，没有检测结果，而仅仅显示错误的代码。这些单个点具有设定的几何形状和具体的光学调制特征(图7,140)。

其他的实施方式位于权利要求的范围中。

实施例子

实施例子1：在聚苯乙烯中通过1067纳米激光准备带颜色的点

图2A-2B和图3A-3B显示了塑料表面上具有光学调制状态的规则图案的结构。这样，含有4％的黑烟末的聚苯乙烯塑料在1064纳米的激光下。被着色的平面通过标准方法来测试激光束对表面的最大影响的方法来进行调节。

单个的点通过激光产生。单个的激光脉冲与塑料件的表面上的单个位置偏移。

脉冲的能量可以被二极管的功率影响，但是它对激光的脉冲又是必要的。另外，激光的频率也对能量有影响。如果具有高频率的脉冲对造成激光束的能量降低。图2A和3A在标准显微镜(Zeiss Axioskop,10x放大)下看到的表面的图像,图2B和3B是在荧光读取仪器下看到的图像(激发波长为520纳米)。

在所有的实验中，Nd:YAG荧光仪器被使用，它具有最大8W的能量，同时具有最大1064纳米的波长。脉冲的频率调整到35kHz，长度为5μs。对于图2A和2B,激光二极管的能量调整到最大能量的33％，对于图3A和3B，激光二极管的能量调整到最大能量的29％。

从以上这些图可以看出，激光能量的减少可以引起表面更小孔的产生。实施例子2：用REM显微镜测量这些被转换的材料的形态学特征

使用355纳米，频率为kHz的激光在含有5％黑烟末(carbon black)的PS表面上产生具有光学调制状态的一些点。图4A-E显示了用REM显微镜下使用不同激光能量获得不同形态学的图片。从这些图片可以看出，点的形态学特征是依据被施加的能量的不同而改变的。在低能量下，点表现出更多的球形结构(见图4B和4C).高能量球体形状的点破裂，从图4D和4E中可以看出.所有的转化的点都用荧光显微镜测试过。

实施例3：激光能量与信号强度之间的关联性

激光能量与信号强度之间的关联性通过使用如以上实施例子中的不同的激光能量在PS表面上产生不同的光学调制点来进行测试。表面被放置在PIMA读 取仪器下，需要产生同样信号强度的曝光时间被测试到。实验结果通过图5可以进行说明曝光时间[ms]和激光强度[A]之间的关系。低信号强度需要较长时间的曝光时间，具有高信号强度，需要短时间的曝光时间。从该曲线图来看，高激光的能量引起高荧光信号。

实施例子4:使用355纳米的激光在PS表面上写数据举证代码

可以进一步显示，使用激光照射可以再PS表面写下数据矩阵代码.使用的激光为355纳米，具有19.6A和15kHz的频率。结果见图6,。DMC的这些点的格子为50μm。

实施例子5：包含有通道的微流体盒具有光学调制状态的结构。

图8显示在图7中光的微流体装置的通道表面上具有光学调制状态的一种规格的图案结构。在这里，装置体是由含有4％的黑烟末的聚苯乙烯塑料制造，该聚苯乙烯塑料用Nd:YAG激光机器处理，其中激光波长为355纳米.被激光照射的平面通过标准方法来测试激光束对表面的最大影响的方法来进行调节。

在通道的表面，一些单个点通过脉冲的激光以位图的模式产生。每一个单个的激光脉冲通过检流计系统在塑料表面上偏离成单个的位置点。

脉冲的能量可以被二极管的功率影响，但是它对激光的脉冲又是必要的。另外，激光的频率也对能量有影响。具有高频率的脉冲常常导致激光束能量的降低。在该实验中，Nd:YAG激光机器具有2.1W，波长为355纳米。使用的脉冲的频率被调整为1kHz，脉冲的长度为1.5μm。同时，激光束的能量通过光学设备被减少90％。

图8A和8B显示了包括具有光学调制状态结构的通道表面通过PIMA分析仪器获取的图形(装置的序号为：D-000366,Alere Technologies GmbH)。PIMA分析仪包括，当通过过滤元件把激发光从检测中移开或除去的时候，具有测试设定波长荧光信号的功能，例如波长为593或685纳米，和，具有荧光显微镜功能。系统软件再一定的范围内允许不同的曝光时间和主控增益(master gain)。在某一个设定的条件下，主控增益的因子就是乘以从照相机里获取的信号。图8A和8B显示了光学调制状态的结构被PIMA系统里存在的标准波 长520纳米光激发的情况下的图像。图8A显示的在波长为593纳米，曝光时间为300ms和2.74的主控增益因子下的图像，然而，图8B显示的是在波长为685纳米，曝光时间为300ms和11.68的主控增益因子下的图像.

在两个图像中，微流体装置的通道表面上的具有光学调制状态的结构可以与激发光不同的波长下被检测到。

如前面所描述的，这种结构可以用来调节和/或控制，例如PIMA系统中的测试系统的焦距位置和/或曝光时间。和/或，如前面所描述的，这种结构可以作为获得测试结果的一个内部控制。