印染原料前处理设备的制作方法

本发明涉及一种印染生产设备，尤其是一种印染原料前处理设备。

背景技术：

对于印染产品而言，产品上颜色的牢度度是印染质量的重要指标之一。印染产品在阳光直晒过程中，阳光中的紫外线会使得染料的成分发生反应，进行使得染料出现褪色的现象，而染料在阳光下的保色性能即为染料的日晒牢度。现有的印染生产工艺中，通常在产品完成生产后才进行日照检测，其无法使得染料在生产过程中实时保持理性的日晒牢度。

技术实现要素：

本发明要解决的技术问题是提供一种印染原料前处理设备，其可对印染原料的日晒牢度进行实时检测，并根据检测数据对印染原料进行精确调节，以使其达到需求状态。

为解决上述技术问题，本发明涉及一种印染原料前处理设备，其包括有处理室，所述处理室的上端面设置有紫外线照射灯以及光谱检测仪，其均朝向处理室的内部进行延伸；所述处理室外部设置有多个助剂添加室，其与处理室之间通过电磁阀进行连接。

作为本发明的一种改进，所述处理室内部设置有1台紫外线照射灯以及至少3台光谱检测仪，其中，紫外线照射灯设置于处理室的轴线位置，紫外线照射灯外部设置有遮光板，所述光谱检测仪设置在处理室的内壁与遮光板之间；多个光谱检测仪关于处理室的轴线成旋转对称。采用上述设计，其可通过多台光谱检测仪以精确的实时检测处理室内各个位置的印染原料的光谱，从而使得工作人员可根据光谱对上述原料进行助剂的精确添加，以使得染料的性能得以显著改善；遮光板的设置则可避免紫外线照射灯所产生的光线直接被光谱检测仪所检测。

作为本发明的一种改进，每一个助剂添加室之中，其与处理室的连接端部均设置有流量计，同一个助剂添加室中，电磁阀与流量计之间采用电性连接。采用上述设计，其可通过流量计与电磁阀对进入处理室内的助剂进行精确控制，从而使得染料与助剂的配比精度得以进一步的改善。

作为本发明的一种改进，所述处理室内部设置有搅拌装置，其包括有在处理室轴线方向上延伸的搅拌轴，搅拌轴与设置在处理室外部的搅拌电机相连接，所述搅拌轴之上设置有多个搅拌叶片，多个搅拌叶片沿搅拌轴轴向均匀分布。采用上述设计，其可通过搅拌装置的设置，使得处理室各个高度位置的原料均可得以与助剂均匀混合。

作为本发明的一种改进，所述处理室内部设置有多个辅助搅拌装置，其包括有沿水平方向延伸的辅助搅拌轴，辅助搅拌轴与设置在处理室外部的辅助搅拌电机电性连接，辅助搅拌轴之上设置有涡轮式搅拌器。采用上述设计，其可通过辅助搅拌装置在处理室内部形成竖直方向上的液流，从而使得不同高度位置的染料与助剂之间可保持良好的流动性；采用涡轮式搅拌器，其可产生径向液流，从而致使上述竖直方向的搅拌效果得以进一步的改善。

作为本发明的一种改进，所述处理室内部设置有两组辅助搅拌装置，其分别位于处理室的1/3高度位置与2/3高度位置，每组辅助搅拌装置均包括有多个位于同一水平方向上的辅助搅拌装置，同一组中的多个辅助搅拌装置关于处理室的轴线成旋转对称。采用上述设计，其可通过辅助搅拌装置的高度设置使得其对于处理室内原料的处理均度得以进一步的增强。

作为本发明的一种改进，所述处理室中，每一个助剂添加室的连接位置均设置有超声波处理装置，超声波处理装置包括有设置在处理室外部的超声波发生器，以及延伸至处理室内部的超声波换能器，超声波发生器与超声波换能器彼此之间采用电性连接。采用上述设计，其可通过超声波处理装置使得助剂进入处理室后即可在超声波振动作用下得以分散，从而使得助剂与原理的混合效率与混合均度均可得以进一步的改善。

作为本发明的一种改进，所述印染原料前处理设备之中包括有多组助剂添加室，每组助剂添加室均由至少两个助剂添加室构成，同一组助剂添加室中的多个助剂添加室关于处理室的轴线成旋转对称，且同一组助剂添加室内部的助剂相同。采用上述设计，其可使得同一种助剂于处理室的不同位置进行添加，从而使得助剂在处理室内的分散均度达到最佳。

采用上述技术方案的印染原料前处理设备，其可通过光谱检测仪实时检测处理室内的印染原料受紫外线探照灯照射后的光谱，根据印染原料受照射后光谱变化以实时检测印染原料的日晒牢度；当印染原料的日晒牢度不足时，上述设备可通过助剂添加室朝向处理时内的印染原料导入相应助剂，并使得助剂与印染原料混合均匀，以使得印染原料的特性得以精确调节，从而使其日照牢度达到需求。

附图说明

图1为本发明示意图；

附图标记列表：

1—处理室、2—紫外线照射灯、3—光谱检测仪、4—助剂添加室、5—电磁阀、6—遮光板、7—搅拌轴、8—搅拌电机、9—搅拌叶片、10—辅助搅拌轴、11—辅助搅拌电机、12—涡轮式搅拌器、13—超声波发生器、14—超声波换能器。

具体实施方式

下面结合具体实施方式，进一步阐明本发明，应理解下述具体实施方式仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向，词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。

实施例1

如图1所示的一种印染原料前处理设备，其包括有处理室1，所述处理室1的上端面设置有紫外线照射灯2以及光谱检测仪3，其均朝向处理室1的内部进行延伸；所述处理室1外部设置有多个助剂添加室4，其与处理室1之间通过电磁阀5进行连接。

作为本发明的一种改进，所述处理室内部设置有1台紫外线照射灯2以及3台光谱检测仪3，其中，紫外线照射灯2设置于处理室1的轴线位置，紫外线照射灯2外部设置有遮光板6，所述光谱检测仪3设置在处理室1的内壁与遮光板6之间；多个光谱检测仪3关于处理室1的轴线成旋转对称。采用上述设计，其可通过多台光谱检测仪以精确的实时检测处理室内各个位置的印染原料的光谱，从而使得工作人员可根据光谱对上述原料进行助剂的精确添加，以使得染料的性能得以显著改善；遮光板的设置则可避免紫外线照射灯所产生的光线直接被光谱检测仪所检测。

作为本发明的一种改进，每一个助剂添加室4之中，其与处理室1的连接端部均设置有流量计，同一个助剂添加室4中，电磁阀5与流量计之间采用电性连接。采用上述设计，其可通过流量计与电磁阀对进入处理室内的助剂进行精确控制，从而使得染料与助剂的配比精度得以进一步的改善。

采用上述技术方案的印染原料前处理设备，其可通过光谱检测仪实时检测处理室内的印染原料受紫外线探照灯照射后的光谱，根据印染原料受照射后光谱变化以实时检测印染原料的日晒牢度；当印染原料的日晒牢度不足时，上述设备可通过助剂添加室朝向处理时内的印染原料导入相应助剂，并使得助剂与印染原料混合均匀，以使得印染原料的特性得以精确调节，从而使其日照牢度达到需求。

实施例2

作为本发明的一种改进，所述处理室1内部设置有搅拌装置，其包括有在处理室轴线方向上延伸的搅拌轴7，搅拌轴7与设置在处理室1外部的搅拌电机8相连接，所述搅拌轴7之上设置有多个搅拌叶片9，多个搅拌叶片9沿搅拌轴7轴向均匀分布。采用上述设计，其可通过搅拌装置的设置，使得处理室各个高度位置的原料均可得以与助剂均匀混合。

本实施例其余特征及优点与实施例1相同。

实施例3

作为本发明的一种改进，所述处理室1内部设置有多个辅助搅拌装置，其包括有沿水平方向延伸的辅助搅拌轴10，辅助搅拌轴10与设置在处理室1外部的辅助搅拌电机11电性连接，辅助搅拌轴10之上设置有涡轮式搅拌器12。采用上述设计，其可通过辅助搅拌装置在处理室内部形成竖直方向上的液流，从而使得不同高度位置的染料与助剂之间可保持良好的流动性；采用涡轮式搅拌器，其可产生径向液流，从而致使上述竖直方向的搅拌效果得以进一步的改善。

作为本发明的一种改进，所述处理室内部设置有两组辅助搅拌装置，其分别位于处理室1的1/3高度位置与2/3高度位置，每组辅助搅拌装置均包括有多个位于同一水平方向上的辅助搅拌装置，同一组中的多个辅助搅拌装置关于处理室1的轴线成旋转对称。采用上述设计，其可通过辅助搅拌装置的高度设置使得其对于处理室内原料的处理均度得以进一步的增强。

本实施例其余特征及优点与实施例2相同。

实施例4

作为本发明的一种改进，所述处理室中，每一个助剂添加室4的连接位置均设置有超声波处理装置，超声波处理装置包括有设置在处理室1外部的超声波发生器13，以及延伸至处理室1内部的超声波换能器4，超声波发生器13与超声波换能器14彼此之间采用电性连接。采用上述设计，其可通过超声波处理装置使得助剂进入处理室后即可在超声波振动作用下得以分散，从而使得助剂与原理的混合效率与混合均度均可得以进一步的改善。

本实施例其余特征及优点与实施例3相同。

实施例5

作为本发明的一种改进，所述印染原料前处理设备之中包括有多组助剂添加室4，每组助剂添加室4均由两个助剂添加室4构成，同一组助剂添加室4中的多个助剂添加室4关于处理室的轴线成旋转对称，且同一组助剂添加室内部的助剂相同。采用上述设计，其可使得同一种助剂于处理室的不同位置进行添加，从而使得助剂在处理室内的分散均度达到最佳。

本实施例其余特征及优点与实施例4相同。