一种用于废水处理的沉淀装置的制作方法

本发明涉及一种用于废水处理的沉淀装置，属于废水处理领域。

背景技术：

常规沉淀设施如沉淀水箱、沉淀水池为保证一定的沉淀效率，就需要沉淀水箱/沉淀水池有足够大的容积，以便使水中细小的颗粒充分沉淀，因此，现有技术中的沉淀水箱/沉淀水池均存在占地大、投资大的缺陷。如图1-图2所示，现有技术中的沉淀水箱/沉淀水池其含尘水是从一个点流入，含尘水在水箱/水池中的流经区域不能分布到整个水箱平面，在进入水箱的起始阶段，含尘水的流动断面积较小，流速较快，不利于尘粒的沉淀析出，其沉淀效率较低。

技术实现要素：

针对现有技术中存在的上述问题，本发明提供了一种新的用于废水处理的沉淀装置，其能更好的提高沉淀效率，同时缩小沉淀设施的容积。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种用于废水处理的沉淀装置，包括带有进水口和出水口的沉淀水箱，沉淀水箱的上部为多面体结构，沉淀水箱的下部为锥形体结构，所述沉淀水箱的进水口和出水口相对设置并且所述出水口的高度高于所述进水口的高度，其特征是：所述进水口为条形状，其沿沉淀水箱侧壁横向设置，在所述沉淀水箱外部设有入口均流装置与所述进水口连接，所述入口均流装置包括入口管段、连接在入口管段下端的断面面积逐渐扩大的扩展段，所述扩展段的下端口通过与其对应连接的弯头与沉淀水箱的进水口连接，所述沉淀水箱内在所述进水口的上方设置有可将进水水流向沉淀水箱的下部导引的入口导流板，所述沉淀水箱内部从进水口到出水口的沿程间隔设有多块倾斜设置的沿程导流板，所述沿程导流板的下部设有多个导料槽，相邻的两个导料槽之间形成为水流通过的空间。

本发明中，在水箱的进水口位置设置入口均流装置，该入口均流装置把来水管道经过改变断面形状，使出口断面积增加，从而使得进入沉淀水箱的水的流动断面积增大，降低了来水进入沉淀水箱的流速，有利于来水中的尘粒的沉淀析出。相比常规的沉淀水箱的流动状况，本发明中的入口均流装置使含尘水以较低的流速进入水箱，且使含尘水在水箱中的流经区域能分布到整个水箱平面，为尘粒的沉降奠定了基础。本发明通过设置入口导流板可以把含尘水引到水箱下部，水箱下部是相对静止区域，大颗粒的尘粒在惯性作用下直接沉淀到水箱底部，而其他尘粒则被水流带着流向出水口。本发明中所设置的沿程导流板，由于其设置在进水口至出水口的沿程，从入口导流板进入沉淀水箱的水由于沿程导流板的阻挡，分为两个分支：一支向上，从沿程导流板的上面流向出水口，另一支在沿程导流板的下面流向出水口。分流后，每一支都有较大的流通断面，而流量只有没有分流时的一半。因此，其流速要远小于没有分流的流速，更有利于尘粒的沉淀。在每个沿程导流板的下面和上面都有一个流速较低或相对静止的区域。含尘水在流动过程中其中的尘粒不断沉降，从水流中分出，其中，向上的水流在流动过程中部分尘粒会进入沿程导流板下面的相对静止的区域，在这个区域，尘粒不受水流的影响，可垂直沉降到沿程导流板下面的水流中，其余仍没有沉淀的尘粒，在流动过程中会沉降到沿程导流板上面相对静止的区域，在这个区域，尘粒也几乎不受水流的影响，可垂直沉降到沿程导流板下部的导料槽里，并通过导料槽进入沉淀水箱的静水区，最终沉降到沉淀水箱的底部。同理，沿程导流板下部的水流速度也远小于没有分流的流速。沿程导流板下部的水流经过导料槽之间的空间流向出水口，这部分水流中的尘粒在流动过程中不断沉降，脱离水流，直接进入到静水区，就可沉降到沉淀水箱的底部。流速的降低使得尘粒在较短的流程中就可以从水中分离出来，也即在同样的沉淀效率下，可缩短沉淀水箱的长度尺寸。

进一步的，为了使进入沉淀水箱的水流量均匀，所述入口均流装置的扩展段内设置有若干块均流导板将所述扩展段内的空间分隔为多个水流通道。

进一步的，所述扩展段为梯形状。

进一步的，所述沿程导流板与水平面的夹角优选为40°～60°。该角度太小则不利于积尘的排落，太大则净水区域会变小。

进一步的，为便于将沉降在沿程导流板上的尘粒导走，所述导料槽呈Y状，其大口端与沿程导流板的板体连接。优选的是，所述导料槽与沿程导流板的板体一体制出。

进一步的，所述沿程导流板的导料槽的下端延伸至水箱下部流速较低的区域，使导流板上面的积尘排落不受水流的影响，直接沉降到水箱底部。

本发明的有益效果是：本发明通过设置特殊设计的入口均流装置使得进入沉淀水箱的水流流速降低，且使含尘水在沉淀水箱中的流经区域能分布到整个水箱平面，能够有效提高沉淀效率；本发明通过设置入口导流板和在沉淀水箱内设置沿程导流板，使得含尘水首先被导流到沉淀水箱的下部，大粒径尘粒直接沉降。设置沿程导流板可把水分流，因上下流通断面足够大，每一水流的流量减半，流速必然大减，使尘粒在较短的流程、较短的时间就可以从水中分离出来。水箱中，上部水流沿途经过多个沿程导流板造成的静水区，在静水区沉淀的尘粒可直接沉淀到底部，而不受水流的影响，而下部水流中的尘粒更是可直接沉淀到沉淀水箱下部的静水区，因此，在同样的沉淀空间里，本发明的沉淀效率要远高于常规沉淀设施的沉淀效率。并且，由于本发明较高的沉淀效率，在同样的处理能力下也相对可以减小沉淀水箱的容积，大大降低设备投资。

附图说明

图1是现有技术中的沉淀水箱的结构示意图；

图2是图1的俯视示意图；

图3是本发明的结构示意图；

图4是图3的俯视示意图；

图5是图3的左视示意图；

图6是本发明中的入口均流装置的主视图；

图7是图6的左视图；

图8是图6的俯视图；

图9是本发明中的沿程导流板的立体结构示意图；

图中1、沉淀水箱，2、入口均流装置，3、入口导流板，4、沿程导流板，5、出水口，6、尘粒排出口，7、进水口，8、弯头，9、入口管段，10、扩展段，11、沿程导流板的板体，12、导料槽，13、挡板，14、均流导板。

具体实施方式

下面通过具体实施例并结合附图对本发明作进一步的说明：

如附图3-图9所示，一种用于废水处理的沉淀装置，包括带有进水口7和出水口5的沉淀水箱1，沉淀水箱1的上部为长方体结构，沉淀水箱1的下部为锥形体结构，沉淀水箱1的进水口7和出水口5相对设置并且所述出水口5的高度高于所述进水口7的高度。其中，所述进水口7为条形状，其沿沉淀水箱1侧壁横向设置，基本贯穿该侧壁的横向长度。在沉淀水箱1外部设有入口均流装置2，所述入口均流装置2包括入口管段9、连接在入口管段9下端的断面面积逐渐扩大的扩展段10，所述扩展段10的下端口通过与其对应连接的弯头8与沉淀水箱1的进水口7连接。本实施例中，为了使进入沉淀水箱的水流量均匀，所述入口均流装置2的扩展段10内设置有若干块均流导板14将所述扩展段10内的空间分隔为多个水流通道。所述沉淀水箱1内在所述进水口7的上方设置有可将进水水流向沉淀水箱1的下部导引的入口导流板3，入口导流板3为平板结构。所述沉淀水箱1内部从进水口7到出水口5的沿程间隔设有多块倾斜设置的沿程导流板4，所述沿程导流板4的下部设有多个导料槽12，本实施例中，导料槽12呈Y状，其大口端与沿程导流板4的板体11连接，导料槽12是由设置在导料槽两侧的挡板13形成，优选导料槽12与沿程导流板4的板体11一体制出。相邻的两个导料槽12之间形成为水流通过的空间。

本实施例中的入口均流装置的扩展段优选为梯形状。沿程导流板4与水平面的夹角优选为40°～60°，角度太小不利于积尘的排落，太大则净水区域会变小。本发明中，为了使沿程导流板上面的积尘排落不受水流的影响，直接沉降到水箱底部，所述沿程导流板4的导料槽12下端最好延伸至水箱下部水流流速较低的区域，或延伸至下部的静水区。

本实施例中的沉淀水箱1的上部采用的是长方体结构，实际上，沉淀水箱1的上部结构并不局限于长方体结构，也可以是其他的多面体结构，例如：截面是五边形、六边形、八边形等结构。

本发明的工作原理是：如图3所示，含尘水经入口均流装置2后以较低的流速由沉淀水箱1的进水口7进入水箱内，并分布到整个水箱平面。进入沉淀水箱内的含尘水在入口导流板3的作用下被导引向沉淀水箱1的下部，沉淀水箱1的下部是相对静止区域，大颗粒的尘粒在惯性作用下直接沉淀到水箱的底部，其他尘粒则被水流带着流向出水口。由于从进水口7至出水口5的沿程设置了多个倾斜设置的沿程导流板4，在每个沿程导流板4的下面和上面都有一个流速较低或相对静止的区域，如图3中的阴影所示。从入口导流板3进入沉淀水箱的水由于沿程导流板4的阻挡，分为两个分支：一支向上，从沿程导流板4的上面流向出水口5，另一支在沿程导流板4的下面流向出水口5。分流后，每一支的流速要小于没有分流的流速，更有利于尘粒的沉淀。其中，向上的水流在从进水口到第一块沿程导流板4上部的过程中(即从进水口至图3中a点的过程中)，部分尘粒不断沉降，从水流中分出，进入沿程导流板下面的相对静止的区域。在该区域，尘粒不受水流的影响，可垂直沉降到沿程导流板下面的水流中，而其余仍没有沉淀的尘粒，在从a点到b点的过程中会沉降到沿程导流板上面的相对静止的区域，在该区域，尘粒也几乎不受水流的影响，可垂直沉降到沿程导流板下部的导料槽12里，由于导料槽4一直延伸的沉淀水箱下部的静水区，因此沉降在导料槽12内的尘粒可直接沉淀到沉淀水箱1的底部。向上的水流经过第一个沿程导流板4后仍没有沉淀的粉尘会与从a’点向上流动的水流汇合，从第二个沿程导流板上沿的b点处流向出水口。此后，向上的水流在依次经过其余的沿程导流板时的水流状态及尘粒沉降过程与水流从a点流向出水口的过程相同。而另一支从沿程导流板下面流过的水流经过导料槽12之间的空间流向出水口，这部分水流中的尘粒在流动过程中不断沉降，脱离水流，直接进入到水箱的静水区，就可沉降到水箱底部。

上述虽然结合附图对本发明的具体实施方式进行了描述，但并非对本发明保护范围的限制，所属领域技术人员应该明白，在本发明的技术方案的基础上，本领域技术人员不需要付出创造性劳动即可做出的各种修改或变形仍在本发明的保护范围以内。

本实施例中的其它部分采用已知技术，在此不再赘述。