一种立式粉末球化装置、粉末球化方法及应用与流程

文档序号:11241298阅读:1596来源:国知局

本发明涉及一种立式粉末球化装置及粉末球化方法,属于粉末破碎球化技术领域。



背景技术:

中国专利zl201611109470.7公开了一种粉末球化装置及方法,具体采用两个反向旋转的磨盘,粉末在两个反向旋转的磨盘中从磨盘中心向四周方向运动,在这个过程中,粉末受到摩擦力、挤压力、剪切力、离心力、撞击力等多种力的作用,于是粉末被揉搓、碰撞,尖锐部分被磨掉、磨钝,粉末被球形化。但是由于该装置的主轴是水平设置的,主轴处于悬臂状态,粉末在磨盘中受重力作用下会影响球化均匀性,降低球化效率,而且主轴水平设置影响粉末受到的挤压力,影响球化质量。

可见,现有技术的上述缺陷亟待解决。



技术实现要素:

发明的目的在于提供一种立式粉末球化装置、粉末球化方法及应用,该装置的主轴竖直设置,减少粉末在磨盘中受重力影响粉末球化均匀性,提高球化效率且可使粉末受到磨盘的压力,球化效果更好。

为实现上述目的之一,本发明采取以下技术方案:

一种粉末球化装置,包括壳体,驱动装置,上料器,球化装置,收集器,控制器,其特征在于:所述的球化装置由两个水平安装的磨盘组成,所述磨盘表面具有沿渐开线分布的方形槽格,两个磨盘之间的间距d可调节。

进一步,所述的驱动装置由两个电机、两根竖直轴、间距调节装置组成,两个电机分别驱动两个磨盘反向转动,间距调节装置用于调节两个磨盘之间的间距d。

进一步,所述间距d的取值范围为0.1-2mm,所述两个电机能通过变频器在线调节转速。间距d的取值范围优选0.5-2mm,更优选0.5-1.5mm,最优选0.5-1.2mm;间距优选可以大幅提高球形化后粉末流动性,有利于粉末后续应用。

进一步,所述的上料器由料斗、阀门、喂料器、铺料器组成。

进一步,所述球化装置还包括冷却介质储存和输送装置、压力平衡装置,所述冷却介质储存和输送装置和压力平衡装置结合壳体构成球化装置冷却保护系统。

为实现上述目的之二,本发明采取以下技术方案:

一种采用上述装置进行粉末球化的方法,所述粉末球化方法包括以下步骤:(1)通过间距调节装置调节两个磨盘的研磨间距;

(2)将物料通过上料器送到两个磨盘中;

(3)驱动装置驱动两个磨盘反向转动,粉末在两个反向旋转的磨盘中从磨盘中心向四周方向运动,在这个过程中,粉末被球形化;

(4)球化后的物料由收集器进行收集。

进一步,步骤(1)所述的研磨间距0.1-2mm;步骤(2)所述的磨盘表面是渐近线式槽格交错的刀片;步骤(3)所述的粉末为活性较强或对氧含量要求较高的粉末时,开启冷却保护系统,球化过程中对所述粉末进行气体保护和降温。

进一步,步骤(3)所述冷却保护是通过冷却介质储存和输送装置(4)将冷却介质输送到球化装置中,通过冷却介质升华、汽化对整个球化的过程起气体保护和冷却作用,所述冷却介质为固态二氧化碳、液氮、液氩、液氦、液氢中任选一种。

进一步,对粉末进行1次球化处理,或将步骤(4)收集的粉末在重复步骤(1)-(4)进行多次球形化处理。

为实现上述目的之三,本发明采取以下技术方案:

一种上述粉末球化装置或上述粉末球化方法在金属、非金属粉末或者金属粉末和水的混合物原料的球化中的应用。

本发明球化装置由水平设置的两个反向旋转的磨盘,粉末进入磨盘之前进行预分布,在两个反向旋转的磨盘中从磨盘中心向四周方向运动,在这个过程中,粉末受到磨盘的挤压力、摩擦力、剪切力、离心力、撞击力等多种力的作用,于是粉末被揉搓、碰撞,尖锐部分被磨掉、磨钝,粉末被球形化。磨盘表面是具有沿渐开线分布的方形槽格,方形槽格的设计既保证了粉末的球形化又避免了扭矩过大卡死,渐开线的分布促进了粉末从中心到盘边缘的运动。

冷却保护是通过冷却介质输送装置将冷却介质输送到球化装置中,冷却介质升华、汽化吸走大量的热量并产生大量保护气体对整个球化的过程起气体保护和冷却作用。

本发明的提供一种立式粉末球化装置、粉末球化方法及应用,具体采用水平设置的两个反向旋转的磨盘,粉末进入磨盘之前进行预分布,在两个反向旋转的磨盘中从磨盘中心向四周方向运动,在这个过程中,粉末受到磨盘的挤压力、摩擦力、剪切力、离心力、撞击力等多种力的作用,于是粉末被揉搓、碰撞,尖锐部分被磨掉、磨钝,粉末被球形化。该装置的主轴竖直设置,减少粉末在磨盘中受重力影响粉末球化均匀性,提高球化效率且可使粉末受到磨盘的压力,球化效果更好。同时,整个装置整体全封闭设计,可以对于活性较强或对氧含量要求较高的粉末的球化进行冷却保护。本发明可以用于球化金属粉末(纯金属或者合金)、非金属粉末或者金属粉末和水的混合物,应用范围极其广泛。

附图说明

图1是一种粉末球化装置结构示意图。

主要附图标记说明:

1料斗,2阀门,3喂料器,4冷却介质储存和输送装置,5轴,6铺料器,7壳体,8压力平衡装置,9磨盘,10磨盘,11轴,12间隙调节装置,13收集器,14电机,15电机,16控制器。

具体实施方式

下面通过附图和具体实施方式对本发明做进一步说明,但并不意味着对本发明保护范围的限制。

如图1所示,为一种粉末球化装置结构示意图。

本发明所述一种粉末球化装置,包括壳体7,驱动装置,上料器,球化装置,收集器13,控制器16,所述的球化装置由两个水平安装的磨盘9、10组成,所述磨盘9、10表面具有沿渐开线分布的方形槽格,两个磨盘9、10之间的间距d可调节。所述的驱动装置由两个电机14、15、两根竖直轴5、11、间距调节装置12组成,两个电机14、15分别驱动两个磨盘9、10反向转动,间距调节装置12用于调节两个磨盘9、10之间的间距d。所述两个电机14、15能通过变频器在线调节转速。所述的上料器由料斗1、阀门2、喂料器3、铺料器6组成。所述球化装置还包括冷却介质储存和输送装置4、压力平衡装置8,所述冷却介质储存和输送装置4和压力平衡装置8结合壳体7构成球化装置冷却保护系统。

所述球化方法包括间距调节、上料、冷却保护、球化、粉末收集等过程,具体实施步骤如下:

先通过间距调节装置12调节球化装置的研磨间距。再将物料通过上料器送到两个磨盘9、10中,粉末在两个反向旋转的磨盘9、10中从磨盘中心向四周方向运动,在这个过程中,粉末受到摩擦力、挤压力、剪切力、离心力、撞击力等多种力的作用,于是粉末被揉搓、碰撞,尖锐部分被磨掉、磨钝,粉末被球形化。球化充分均匀、流动性良好的粉末由收集器13进行收集。

对于活性较强或对氧含量要求较高的粉末,可以采用冷却保护介质进行保护和降温,冷却保护的方法是通过冷却介质储存和输送装置4将冷却介质输送到球化装置中,冷却介质升华、汽化吸走大量的热量并产生大量保护气体对整个球化的过程起气体保护和冷却作用。冷却介质可以为固态二氧化碳(干冰)、液氮、液氩、液氦、液氢等。

测试流动性的实验条件为选取50g-150目的样品粉末,在标准霍尔流量计中自然流完,来计量时间,时间越短则流动性越好。

实施例1

选取粉末feni25加入料斗1中,所述feni25粉末的球化方法包括以下步骤:

(1)通过间距调节装置12调节球化装置的研磨间距;调整研磨间距为0.1mm;

(2)将物料通过上料器送到两个磨盘9、10中;磨盘9、10表面是渐近线式槽格交错的刀片;

(3)两个磨盘9、10反向转动,粉末在两个反向旋转的磨盘9、10中从磨盘中心向四周方向运动,在这个过程中,粉末受到摩擦力、挤压力、剪切力、离心力、撞击力等多种力的作用,于是粉末被揉搓、碰撞,尖锐部分被磨掉、磨钝,粉末被球形化;

(4)球化均匀流动性良好地物料由收集器13进行收集。通过1次球化,得到球形度高,流动性良好的粉末。

粉末在两个反向旋转的磨盘9、10中从磨盘中心向四周方向运动,在这个过程中,粉末受到摩擦力、挤压力、剪切力、离心力、撞击力等多种力的作用,于是粉末被揉搓、碰撞,尖锐部分被磨掉、磨钝,粉末被球形化。通过反复的1次球化,得到球形度高,流动性良好的粉末,流完时间为20s。

实施例2

选取粉末fenico加入料斗1中,所述fenico粉末的球化方法包括以下步骤:

(1)通过间距调节装置12调节球化装置的研磨间距;调整研磨间距为0.6mm;

(2)将物料通过上料器送到两个磨盘9、10中;采用冷却介质储存和输送装置4将固态二氧化碳(干冰)输送到球化装置中,固态二氧化碳(干冰)升华吸走大量的热量并产生大量二氧化碳气体对整个粉末球化的过程起气体保护和冷却作用。

(3)两个磨盘9、10反向转动,粉末在两个反向旋转的磨盘9、10中从磨盘中心向四周方向运动,在这个过程中,粉末受到摩擦力、挤压力、剪切力、离心力、撞击力等多种力的作用,于是粉末被揉搓、碰撞,尖锐部分被磨掉、磨钝,粉末被球形化;

(4)球化均匀流动性良好地物料由收集器13进行收集。通过反复的2次球化,得到球形度高,流动性良好的粉末,流完时间为18s。

实施例3

选取粉末feni30和水的混合物加入料斗1中,所述feni30粉末的球化方法包括以下步骤:

(1)通过间距调节装置12调节球化装置的研磨间距;调整研磨间距为0.5mm;

(2)将物料通过上料器送到两个磨盘9、10中;两个磨盘9、10反向转动,粉末和水的混合物在两个反向旋转的磨盘9、10中从磨盘中心向四周方向运动,在这个过程中,粉末受到摩擦力、挤压力、剪切力、离心力、撞击力等多种力的作用,于是粉末被揉搓、碰撞,尖锐部分被磨掉、磨钝,粉末被球形化;

(4)球化均匀流动性良好地物料由收集器13进行收集。通过反复的3次球化,得到球形度高,流动性良好的粉末,流完时间为17s。

此外,需要说明的是,本说明书中所描述的具体实施例,其各部分名称等可以不同,凡依本发明专利构思所述的构造、特征及原理所做的等效或简单变化,均包括于本发明专利的保护范围内。本发明所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代,只要不偏离本发明的结构或者超越本权利要求书所定义的范围,均应属于本发明的保护范围。

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