脱硝还原剂自动调节系统的制作方法

文档序号:11185331阅读:1272来源:国知局
脱硝还原剂自动调节系统的制造方法与工艺

本实用新型涉及氮氧化物减排脱硝技术领域,特别涉及一种脱硝还原剂自动调节系统。



背景技术:

随着地球大气污染程度的加剧和越来越严格NOX排放标准的陆续出台,脱硝技术的发展经历了抑制燃烧过程中NOX的生成量和烟气净化脱硝两个阶段。过去传统的NOX治理技术主要是通过有效改进燃烧气氛、采用清洁燃料和低氮燃烧设备来抑制NOX生成。目前应用最为广泛的脱硝技术主要为选择性非催化还原(SNCR)、选择性催化还原法(SCR)。这两种方法均是采用还原剂(氨水、尿素等)在一定条件下将烟气中的氮氧化物还原为N2、H2O,然后再进行排放。然而,利用上述两种方法进行脱硝时,会存在喷氨量过大,会使氨逃逸量增加造成二次污染的问题,因此控制氨喷射量是脱硝工程的一个重点。

现有的控制氨喷射量的设备存在以下问题:较为繁琐不易操作、占地面积大、自动化水平低而且控制精度差。



技术实现要素:

鉴于以上所述现有技术中的控制氨喷射量的设备的不足,本实用新型的目的在于提供一种脱硝还原剂自动调节系统,能够根据实际情况确定氨喷射量,并对氨喷射量进行调节。

为实现上述目的,本实用新型技术方案如下:

提供一种脱硝还原剂自动调节系统,包括还原剂稳压模块、剂量分配模块以及在线稀释模块,所述还原剂稳压模块、剂量分配模块、在线稀释模块依次连接,所述还原剂稳压模块包括用自立式压力调节阀,所述剂量分配模块包括电动调节阀,所述电动调节阀响应于控制信号调节分配流量。

作为优选,所述剂量分配模块还包括流量计。

作为优选,所述在线稀释模块包括多级离心泵和过滤器,所述多级离心泵和过滤器依次连接。

作为优选,所述脱硝还原剂自动调节系统还包括一个外箱体,且在所述外箱体上设有观察窗。

作为优选,所述外箱体上还安装有排风扇和氨泄漏报警器。

本实用新型的有益效果是:

1.通过控制室内监视,使脱硝控制系统可在无需现场就地人员配合的条件下,在脱硝控制室内完成对脱硝装置还原剂的调节;

2. 还原剂稳压模块采用自立式压力调节阀,设定工艺要求压力,特殊条件自动减压,保护泵体,减少物料损失;

3.可根据CEMS实时数据,自动调整喷氨量,自动配比稀释水,保证NOx排放合格。

附图说明

图1为根据本实用新型的脱硝还原剂自动调节系统的示意图。

具体实施方式

以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式,熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。

如图1所示,本实用新型的脱硝还原剂自动调节系统包括:还原剂稳压模块、剂量分配模块以及在线稀释模块,所述还原剂稳压模块、剂量分配模块、在线稀释模块依次连接,所述还原剂稳压模块包括用自立式压力调节阀,所述剂量分配模块包括电动调节阀,所述电动调节阀响应于控制信号调节分配流量。

利用泵将制备的还原剂输送到还原剂稳压模块,所述还原剂稳压模块中包括自立式压力调节阀,可以设定还原剂的工作压力,还可以在特殊条件自动减压,保护泵体,减少物料损失。还原剂稳压模块被设计为适应锅炉30%~110%负荷之间的任何负荷持续安全运行,并能适应锅炉的负荷变化和锅炉启停次数的要求。此外,还能够保证 SNCR脱硝装置能够在NOx排放浓度为最小值和最大值之间任何点运行。

脱硝还原剂经过还原剂稳压模块后进入剂量分配模块,所述剂量分配模块中包括流量计和电动调节阀,流量计可以精确测量流经管路的还原剂的流量,并将测量数据传送至电脑端。电动调节阀可以响应于控制信号调节阀口开度,从而控制还原剂的流量。例如,根据测量的NOx数据来调节电动调节阀。优选地,在电动阀前后设置压差计,可在电脑端以及现场查看压差变化,通过调节还原剂流量,过多的还原剂可以通过自力式压力调节阀返回还原剂储罐。

根据实际需求调节还原剂的流量后,需将还原剂与稀释水混合稀释后才允许喷射入锅炉内。所述在线稀释装置采用除盐水作为稀释水,稀释水通过多级离心泵输送,使用混合器将稀释水与还原剂相混合,使还原剂被稀释到预设的浓度,并将稀释后的还原剂进一步输送至喷枪。优选地,所述在线稀释模块设置有过滤器,用于过滤稀释后的还原剂,以防喷枪堵塞。

脱硝还原剂输送管道优选地采用SS304无缝钢管,并且还原剂供给系统设置有过滤器,以防止设备堵塞。可选地,还原剂输送管道上均设有止回阀、排空阀。

优选地,所述脱硝还原剂自动调节系统还包括一个外箱体,所述脱硝还原剂自动调节系统被容纳在所述外箱体中,且在所述外箱体上设有观察窗,以便于技术人员观察脱硝还原剂自动调节系统的工作情况。

更为优选地,所述外箱体上还安装有排风扇和氨泄漏报警器。当检测到氨泄漏时,触发报警器。

任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下,对上述实施例进行修饰或改变。因此,举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变,仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。

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