一种电渗析膜堆清洗方法与流程

文档序号:17093780发布日期:2019-03-13 23:41阅读:1608来源:国知局
一种电渗析膜堆清洗方法与流程

本发明涉及家用净水技术的技术领域,更具体地说是涉及电渗析净水技术的技术领域。



背景技术:

电渗析净水是一种常见的净水技术,它是利用电场作用使溶液中带电的溶质粒子(如离子)通过离子选择性膜而迁移的现象达到纯化自来水的目的。电渗析膜堆是电渗析净水设备的主要部件,它是由多层阴阳离子交换膜和水道隔网密集堆叠而成,其中阴阳离子交换膜(以下简称膜片)由高交联聚合物材料组成,通常在生产膜片过程中,聚合反应不能做到100%转化率,膜片中含有未反应的引发剂,单体,交联剂,以及添加剂(比如单体稳定剂,抗氧化剂等)。此外膜片中含有大量反应溶剂。因此在生产结束后,会对膜片进行清洗,目前常规的清洗方式主要有高温清洗方式和药剂清洗方式,这些清洗方式都是基于浸泡清洗,膜片会在水中反复浸泡清洗多次,以去除残存的有机小分子。且每次浸泡时间至少4小时以上,才能使有机小分子在高交联聚合物网络中尽量充分溶出。在家用净水器场景中,对膜堆有机物溶出要求非常高,国家标准要求24小时浸泡后膜堆cod溶出值低于1ppm。这使得膜片的清洗程序非常繁复,且废水量高,时间很长。



技术实现要素:

本发明的目的就是为了解决上述之不足而提供一种可简化膜片清理流程,提高清洗效果,在成型膜堆中即可完成清洗,无需额外的清洗设备,且用水和时间都大大减少的电渗析膜堆清洗方法。

本发明为了解决上述技术问题而采用的技术解决方案如下:

一种电渗析膜堆清洗方法,其清洗方法如下:封闭电渗析膜堆浓水侧和纯水侧其中一侧的进水口和另一侧的出水口,在另一侧的进水口通入清洗液并加一定压力,清洗液透过电渗析膜堆的膜片从一侧的出水口流出。

进一步地,封闭电渗析膜堆浓水侧的进水口和纯水侧的出水口,在纯水侧的进水口通入清洗液并加一定压力,清洗液透过电渗析膜堆的膜片从浓水侧的出水口流出。

进一步地,封闭电渗析膜堆纯水侧的进水口和浓水侧的出水口,在浓水侧的进水口通入清洗液并加一定压力,清洗液透过电渗析膜堆的膜片从纯水侧的出水口流出。

所述清洗液为自来水或纯水。

所述清洗液是酸性水、碱性水或具有氧化性能的水。

所述清洗液的温度为20-95℃。

本发明采用上述技术解决方案所能达到的有益效果是:本发明的清洗方法通过封闭电渗析膜堆浓水侧和纯水侧其中一侧的进水口和另一侧的出水口,在另一侧的进水口通入清洗液并加一定压力,使清洗液透过电渗析膜堆的膜片从一侧的出水口流出,达到清洗膜片的目的。采用这种加压方式可以让清洗液透过膜片,充分清洗并带出膜片内部的有机物小分子,在传统膜片浸泡清洗过程中,内部的小分子析出到膜片表面需要较长的时间,且不充分,而本发明中采用透膜加压的清洗方式可大幅提高清洗效率。本发明的清洗方法简化了清洗工艺,无需额外的清洗设备,且用水和时间都大大减少,节约了水资源,提高了清洗效率。此外,此清洗方法也可用于电渗析膜堆工作间歇时的清洗,以去除在膜片内部和表面的垢,提高膜堆工作效率和寿命。

附图说明

图1为本发明实施例1清洗方法的示意图;

图2为本发明实施例2清洗方法的示意图。

具体实施方式

实施例1:如图1所示,一种电渗析膜堆清洗方法,其清洗方法如下:封闭电渗析膜堆浓水侧的进水口和纯水侧的出水口,在纯水侧的进水口通入清洗液并加一定压力,清洗液透过电渗析膜堆的膜片从浓水侧的出水口流出。所述清洗液可以是温度为20-95℃的自来水或纯水,也可以是酸性水(例如双氧水)、碱性水(例如次氯酸钠水溶液)或具有氧化性能的水(例如臭氧水)。

实施例2:如图2所示,一种电渗析膜堆清洗方法,其清洗方法如下:封闭电渗析膜堆纯水侧的进水口和浓水侧的出水口,在浓水侧的进水口通入清洗液并加一定压力,清洗液透过电渗析膜堆的膜片从纯水侧的出水口流出。所述清洗液可以是温度为20-95℃的自来水或纯水,也可以是酸性水(例如双氧水)、碱性水(例如次氯酸钠水溶液)或具有氧化性能的水(例如臭氧水)。



技术特征:

技术总结
本发明公开了一种电渗析膜堆清洗方法,其清洗方法如下:封闭电渗析膜堆浓水侧和纯水侧其中一侧的进水口和另一侧的出水口,在另一侧的进水口通入清洗液并加一定压力,清洗液透过电渗析膜堆的膜片从一侧的出水口流出,本发明优点是:采用这种加压方式可以让清洗液透过膜片,充分清洗并带出膜片内部的有机物小分子,本发明中采用透膜加压的清洗方式可大幅提高清洗效率。本发明的清洗方法简化了清洗工艺,无需额外的清洗设备,且用水和时间都大大减少,节约了水资源,提高了清洗效率。此外,此清洗方法也可用于电渗析膜堆工作间歇时的清洗,以去除在膜片内部和表面的垢,提高膜堆工作效率和寿命。

技术研发人员:李中原
受保护的技术使用者:上海禅睿实业有限公司
技术研发日:2018.12.26
技术公布日:2019.03.12
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