一种制造图案化涂布层的狭缝式涂布方法与流程

本发明涉及了狭缝式涂布技术领域，特别是涉及了一种制造图案化涂布层的狭缝式涂布方法。

背景技术：

狭缝式涂布是一种高精密的涂布方式，不仅用于传统产业：如胶带、电影底片、功能隔膜、封装膜、墙壁纸的制造，亦用在高增值的电子产业：如印刷电路板、电容膜、光学膜、表面硬化涂布、显视基板光阻涂布等制程。而最近更应用在发展迅速的再生能源产业：如铜铟镓硒薄膜太阳能电池、高份子太阳能电池、锂电池等的制备工序中。

狭缝式涂布的工作原理是：在压力作用下，涂布液从涂布头的缝隙挤出而转移到基材上。目前狭缝式涂布的技术研究主要集中于涂布头设计上，因为它是决定涂布质量好坏的重要因素之一。现有的狭缝涂布头通常由上模、下模以及设于上模和下模之间的垫片构成，垫片的设置可在上模与下模之间形成一侧具有出料口的狭缝通道，涂布液通过所述狭缝通道向出料口挤出以进行涂布作业。但是，参见图1，现有的垫片的形状为凹字形，形成的具有出流口的狭缝通道仅为一个，在涂布过程中，涂布液从狭缝通道挤出而转移到基材时，形成连续均匀分布的涂布层。

除具有连续均匀分布的涂布层之外，可能需要在上述基材表面上提供涂布的图案，例如，其中图案化的涂布包括在上述基底表面上的被未涂布区域分隔开的涂布区域。例如，对于光敏层和/或发光层的制造，可能需要在基底上提供分隔开的活性区域，例如用于构建光电池的阵列。用来提供图案化涂布层的很多不同的方法是已知的，例如印刷或压印技术，诸如喷墨印刷、旋转丝网印刷、凹版印刷、胶版印刷、柔版印刷。可惜的是，还没有采用狭缝式涂布制造图案化涂布层的方法。

技术实现要素：

为了弥补已有技术的缺陷，本发明提供一种制造图案化涂布层的狭缝式涂布方法。

本发明所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：

一种制造图案化涂布层的狭缝式涂布方法，包括如下步骤：

s1.提供基材；

s2.提供狭缝涂布头，所述狭缝涂布头包括上模、下模以及夹设于所述上模与所述下模之间的垫片，所述垫片具有图案形成部，其形成有使涂布液通过的若干个狭缝通道；

s3.由上述狭缝通道挤出涂布液，控制所述狭缝涂布头和所述基材相对运动，以在基材表面形成图案化涂布层。

进一步地，所述涂布液在所述基材上被涂布成离散的图案。

进一步地，所述图案形成部具有与所述待涂布的图案相对应的若干镂空结构。

进一步地，所述垫片的材料为金属材料。

进一步地，所述垫片的厚度为0.02-0.08mm。

本发明具有如下有益效果：

本发明中，改变传统的垫片的结构，所述垫片具有图案形成部，其形成有使涂布液通过的若干个狭缝通道，在涂布过程中，涂布液通过若干个狭缝通道在所述基材上形成图案化涂布层。

采用本发明的狭缝式涂布方法能够形成具有丰富的图案效果的涂布层，图案可控，迎合市场的需要，使用简单，成本低。

附图说明

图1为现有的垫片的结构示意图；

图2为本发明的垫片的结构示意图。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明进行详细的说明，实施例仅是本发明的优选实施方式，不是对本发明的限定。

一种制造图案化涂布层的狭缝式涂布方法，包括如下步骤：

s1.提供基材；

本发明对基材的种类不作具体限定，可以是需要进行涂布的各种基材。

s2.提供狭缝涂布头，所述狭缝涂布头包括上模、下模以及夹设于所述上模与所述下模之间的垫片，所述垫片具有图案形成部，其形成有使涂布液通过的若干个狭缝通道；

本发明对狭缝通道的数量不作具体限定，依据所需的图案的形状进行设定，作为优选，所述狭缝通道的数量为2-10个，更优选地，所述狭缝通道的数量为4-6个。

所述图案形成部具有与所述待涂布的图案相对应的若干镂空结构。涂布过程，在压力作用下，涂布液从上模、下模之间的若干镂空结构挤出，狭缝涂布头在恒定的移动与静止的基材之间形成液珠或幕帘并转移到基材表面（一维平面移动方式），形成湿膜，被垫片遮挡区域就不会涂上涂层从而得到多种图案。

所述垫片的材料为金属材料，但不局限于此，也可以是其他未列举在本实施例中的但被本领域技术人员所熟知的其他材料。

所述垫片的厚度为0.02-0.08mm，更优选地，所述垫片的厚度为0.03-0.06mm。

本发明中，对狭缝涂布头的材料不作具体限定，可以为玻璃、金属材料或聚合物。

可以理解，所述狭缝涂布头还包括其它结构，为本领域技术人员知晓的部件，其结构和原理都为本技术人员均可通过技术手册得知或通过常规实验方法获知，在此不再赘述。

s3.由上述狭缝通道挤出涂布液，且控制所述狭缝涂布头和所述基材相对运动，以在基材表面形成图案化涂布层。

本发明中，所述涂布液在所述基材上被涂布成离散的图案，所述图案化涂布层包括若干个离散的图案。采用本发明的狭缝式涂布方法能够形成具有丰富的图案效果的涂布层，图案可控，迎合市场的需要，使用简单，成本低。

以上所述实施例仅表达了本发明的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制，但凡采用等同替换或等效变换的形式所获得的技术方案，均应落在本发明的保护范围之内。

技术特征：

技术总结
本发明公开了一种制造图案化涂布层的狭缝式涂布方法，包括如下步骤：S1.提供基材；S2.提供狭缝涂布头，所述狭缝涂布头包括上模、下模以及夹设于所述上模与所述下模之间的垫片，所述垫片具有图案形成部，其形成有使涂布液通过的若干个狭缝通道；S3.由上述狭缝通道挤出涂布液，控制所述狭缝涂布头和所述基材相对运动，以在基材表面形成图案化涂布层。本发明中，改变传统的垫片的结构，所述垫片具有图案形成部，其形成有使涂布液通过的若干个狭缝通道，在涂布过程中，涂布液通过若干个狭缝通道在所述基材上形成图案化涂布层。

技术研发人员：李思拥;张杰;曾一鑫
受保护的技术使用者：信利光电股份有限公司
技术研发日：2019.04.17
技术公布日：2019.08.16