一种抛光污水处理系统的制作方法

1.本实用新型涉及瓷砖抛光技术领域，具体涉及一种抛光污水处理系统。


背景技术：

2.在瓷砖生产过程中，为了使其表面更加光亮平顺，需要对其进行抛光处理，即使用抛光机对瓷砖进行磨边(磨直边、斜边、圆弧边)后，再进行磨头。在抛光处理中利用完的水以及产生的沙粒将一起从排污渠排出，排至污水处理池。
3.中国专利cn201538722u公布了一种陶瓷污水处理装置，该专利采用了车间连接多个由上至下设置的淤泥沉淀池，通过上个沉淀池的溢水口流入下个沉淀池将淤泥逐个沉淀，再将沉淀分离后的污泥和水分别抽至污泥回收池和车间水池。但是该污水处理装置仍存在缺陷：各沉淀池之间的跨度比较大，设置泥浆池并通过泥浆泵从较远处沉淀池抽取泥浆存在一定困难，对泥浆泵吸力要求较高；另外，各沉淀池之间未设置启闭装置，带有泥沙的流水未沉淀完全就会流入车间水池，处理效果不佳。


技术实现要素：

4.本实用新型针对现有技术存在的问题，提出一种可有效快捷抽取并处理泥浆且回收效果好的瓷砖抛光污水处理系统。
5.本实用新型采用以下技术方案：
6.一种抛光污水处理系统，包括进水渠、排水渠和多个沉淀池；所述进水渠连通生产线排水管路，并连通沉淀池；所述多个沉淀池均布排列，各沉淀池之间开设缺口并依次连通；所述沉淀池的一侧设有泥沙渠；所述排水渠一端与沉淀池缺口连通，另一端连接蓄水池，所述蓄水池内设有抽水泵及供水塔；所述供水塔连接生产线进水管路；所述沉淀池壁上设有滑轨，所述滑轨上布置有移动架，所述移动架上设有泥浆泵。
7.进一步地，所述抛光污水处理系统内设有两排并列分布的沉淀池。
8.进一步地，所述蓄水池设有多个缺口，包括连通前、后沉淀池的缺口以及与进水渠或排水渠连接的缺口。
9.进一步地，所述排水渠内设有过滤网。
10.进一步地，所述过滤网处设有
11.进一步地，所述沉淀池的出水口处设有启闭装置。
12.进一步地，所述沉淀池内设有水位传感器。
13.本实用新型提出的瓷砖抛光污水处理系统在各沉淀池上方设有移动架及可随架移动的泥浆泵，可就近对各沉淀池泥沙抽取，抽取效率高并且稳定，同时抽取的泥浆汇入沉淀池外侧设置的泥沙渠内，便于清理与排出；各沉淀池之间设有自动启闭装置，可确保流入各池内的水沉淀充分后再流入下一级沉淀池，有效保证的处理效果，提高了回收水的质量。
附图说明
14.图1为实施例1中沉淀池、泥沙渠布置示意图；
15.图2为实施例1中污水处理系统示意图。
具体实施方式
16.下面结合附图以及实施例对本发明作进一步说明。在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“轴向”、“径向”、等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
17.如图所示，本实用新型提出一种抛光污水处理系统，其中进水渠连通生产车间1流出的生产线排水管路，将生产线排出的抛光污水引流至沉淀池4，本实施例中共包括两列并排排列的沉淀4池，每一列沉淀池的前、后两池依次连接，处于流道后方的沉淀池深度大于其前一沉淀池深度，最末端的沉淀池4连接排水渠 6，排水渠6将处理完成的抛光污水引流至蓄水池8，蓄水池处设有高压水泵及供水塔，蓄水池的水由供水塔重新送往生产线进水管路，重新利用；同时生产线进水管路还外接一自来水水路2；本实施例中各沉淀池中连接前、后池的缺口处均设有电动启闭装置5，同时还设有水位传感器，水位传感器与电动启闭装置连接同一逻辑控制器。
18.本实用新型中，在两列沉淀池的外侧均设有泥沙渠3，而在沉淀池的池壁上设有滑轨31，滑轨上布置有电驱动的移动架9，而在移动架上设有泥浆泵91，该泥浆泵一端通过管路连通就近的沉淀池4，另一端连通泥沙渠3。
19.本实用新型的具体实施方式如下：生产线排水管路流出的带泥沙的抛光污水由进水渠引流至沉淀池4，在沉淀池内进行不断沉淀，当需要对某一沉淀池进行除沙处理时，移动架9移动至该沉淀池上方，泥浆泵工作，从沉淀池4内抽取泥浆送至紧邻该沉淀池的泥沙渠3内；其中，各沉淀池之间均设有自动启闭装置和水位传感器，当污水流入沉淀池4中，其后方启闭装置处于关闭状态，流入池内的水在该池内静置沉淀；当池内水位上升至一定位置时，后方启闭装置开启，污水流入下一沉淀池，在下一沉淀池内仍静置沉淀，重复上述步骤，直至经过抽泥沙等步骤完成，经排水渠流入蓄水池8；排水渠内还设有相应过滤装置7，确保流入蓄水池的回收水水质更好。
20.显然，上述实例仅仅是为清楚地说明本发明的技术方案所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明权利要求的保护范围之内。


技术特征：
1.一种抛光污水处理系统，其特征在于，包括进水渠、排水渠和多个沉淀池；所述进水渠连通生产线排水管路，并连通沉淀池；所述多个沉淀池均布排列并依次连通；所述沉淀池的一侧设有泥沙渠；所述排水渠一端与沉淀池连通，另一端连接蓄水池，所述蓄水池处设有高压水泵及供水塔；所述供水塔连接生产线进水管路；所述沉淀池壁上设有滑轨，所述滑轨上布置有移动架，所述移动架上设有泥浆泵。2.根据权利要求1所述的抛光污水处理系统，其特征在于，所述抛光污水处理系统内设有两排并列分布的沉淀池。3.根据权利要求1所述的抛光污水处理系统，其特征在于，处于流道后方的沉淀池深度大于其前一沉淀池深度。4.根据权利要求1所述的抛光污水处理系统，其特征在于，所述排水渠内设有过滤装置。5.根据权利要求1所述的抛光污水处理系统，其特征在于，所述生产线进水管路还外接一自来水水路。6.根据权利要求1所述的抛光污水处理系统，其特征在于，所述沉淀池的出水口处设有启闭装置。7.根据权利要求6所述的抛光污水处理系统，其特征在于，所述启闭装置为电动启闭装置。8.根据权利要求1所述的抛光污水处理系统，其特征在于，所述沉淀池设有水位传感器。

技术总结
本实用新型提出一种抛光污水处理系统，包括进水渠、排水渠和多个沉淀池；所述进水渠连通生产线排水管路，并连通沉淀池；所述多个沉淀池均布排列并依次连通；所述沉淀池的一侧设有泥沙渠；所述排水渠一端与沉淀池连通，另一端连接连接蓄水池，所述蓄水池处设有高压水泵及供水塔；所述供水塔连接生产线进水管路；所述沉淀池壁上设有滑轨，所述滑轨上布置有移动架，所述移动架上设有泥浆泵；本实用新型在各沉淀池上方设有移动架及可随架移动的泥浆泵，可就近对各沉淀池泥沙抽取，抽取效率高并且稳定，同时抽取的泥浆汇入沉淀池外侧设置的泥沙渠内，便于清理与排出；各沉淀池之间设有自动启闭装置，可确保流入各池内的水沉淀充分后再流入下一级沉淀池，有效保证的处理效果，提高了回收水的质量。了回收水的质量。了回收水的质量。


技术研发人员：涂强强
受保护的技术使用者：茶陵县强强陶瓷有限公司
技术研发日：2020.12.04
技术公布日：2021/12/7