本发明涉及一种防粘型粉碎机的粉碎结构,尤其是一种中药浸膏粉碎机,属于制药设备技术领域。
背景技术:
要实现中药现代化,首先要实现中药生产现代化。目前生产现代化的手段之一,就是对中药原材料有效成分的提取。无论是传统的水提、醇提,还是现代的临界萃取、吸附和分离,其形态均为浸膏剂。浸膏剂按干湿程度不同分为稠浸膏剂和干浸膏剂两种。浸膏剂除少数直接用于临床外,一般用于配制其它制剂,如散剂、丸剂、片剂等。我们通常要将稠浸膏剂干燥成干浸膏。
干浸膏在干燥过程中形成块状或粗大颗粒,不便于下一步的制剂,因此,往往要将干浸膏粉碎至要求的粒度。粉碎室发热反应,往往会产生温度,因此干浸膏在粉碎过程中往往会因为温度的升高,物料“软化”出现“粘结”现象,导致粉碎机无法粉碎。
针对浸膏粉碎的难点,浸膏粉碎设备的研发是:改善粉碎机的粉碎结构。
技术实现要素:
本发明是针对上述存在的技术问题提供一种防粘型粉碎机的粉碎结构,该结构粉可以迅速将物料排出粉碎室。
本发明的目的可以通过以下技术方案实现:
一种防粘型粉碎机的粉碎结构,该结构包括安装在粉碎室壳体中的摆刀旋转粉碎装置、齿圈固定粉碎装置、锥刀旋转粉碎装置、锥光圈固定粉碎装置以及安装在另一壳体上的排粉装置;
摆刀旋转粉碎装置包括旋转摆刀支架,以及对称布置在旋转摆刀支架上的摆刀;锥刀旋转粉碎装置包括旋转锥刀支架,以及对称布置在旋转锥刀支架上的锥刀;
所述的旋转摆刀支架和旋转锥刀支架由粉碎转轴带动旋转;
所述的摆刀旋转粉碎装置对应位置的防粘粉碎区壳体圆周内壁上固定直齿圈,锥刀旋转粉碎装置对应位置的防粘粉碎区壳体圆周内壁上固定光锥圈。
本发明技术方案中:排粉装置中设有转轴,所述的转轴上设有风叶支架,风扇叶片对称布置在风叶支架的圆周上。
本发明技术方案中:排粉装置配套设有排粉装置电机。
本发明技术方案中:直齿圈在h高度处有10~45°的倒角,其高度h与锥光圈的高度h相同,两者连接处没有台阶。
本发明技术方案中:转摆刀支架上对称布置至少4个摆刀。
在一些优选的技术方案中:直齿圈在h高度处有30°的倒角同。
本发明技术方案中:旋转锥刀支架上对称布置至少4个锥刀。
本发明技术方案中:排粉区域是将粉碎的混合料直接送至分级室。固定直齿圈与摆刀形成剪切面。
本发明技术方案中:所述的摆刀可替换为摆锤。
本发明技术方案中:所述的高度h为直齿圈或光锥圈高度的1/5~1/3。
本发明的有益效果:
1、粉碎室内同轴防粘多重粉碎形式,粉碎剪切力强;
2、粉碎区结构特殊,齿圈在h高度处有倒角,其高度h与锥光圈的h相同。粉碎时没有粘粉点。粉体通道畅通,由于装有排粉装置,粉体会迅速通过,不会粘结;
3、全系统粉碎室与分级室相对分离,进入粉碎室的物料系需要粉碎的物料,粉碎室不会因过粉碎做无用功,故粉碎产量高;
4、粉碎产生的温度,随物料及时排走,故粉碎温度较低;
5、全封闭负压作业,粉体在粉碎过程中不发生任何泄漏,无环境污染、噪声小;
6、特别适宜符合gmp要求的中药粉碎车间采用。
附图说明
图1为防粘型粉碎机的粉碎结构示意图。
图2为旋转摆刀支架的结构示意图。
图3为壳体齿圈的主视图。
图4中:4(a)为壳体齿圈的侧视图,4(b)为4(a)的a-a剖视图。
图5为旋转锥刀支架的结构示意图。
图6为壳体光锥圈的侧视图。
图7为防粘型粉碎机的粉碎结构的俯视图。
其中:1为排粉装置电机,2为直齿圈,3为锥刀,4为光锥圈,5为摆刀,6为旋转摆刀支架,7为粉碎转轴,8为风叶支架,9为风扇叶片,10为转轴,11为排粉装置,12为旋转锥刀支架。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明做进一步说明,但本发明的保护范围不限于此:
如图1~7,一种防粘型粉碎机的粉碎结构,该结构包括安装在粉碎室壳体中的摆刀旋转粉碎装置、齿圈固定粉碎装置、锥刀旋转粉碎装置、锥光圈固定粉碎装置以及安装在另一壳体上的排粉装置;
摆刀旋转粉碎装置包括旋转摆刀支架6,以及对称布置在旋转摆刀支架6上的摆刀5;锥刀旋转粉碎装置包括旋转锥刀支架12,以及对称布置在旋转锥刀支架12上的锥刀3;
所述的旋转摆刀支架6和旋转锥刀支架12由粉碎转轴7带动旋转;
所述的摆刀旋转粉碎装置对应位置的防粘粉碎区壳体圆周内壁上固定直齿圈2;锥刀旋转粉碎装置对应位置的防粘粉碎区壳体圆周内壁上固定光锥圈4。
排粉装置中设有转轴10,所述的转轴10上设有风叶支架8,风扇叶片对称布置在风叶支架8的圆周上。排粉装置11配套设有排粉装置电机1。直齿圈在h高度处有30°的倒角,其高度h与锥光圈的h相同,且所述的高度h为直齿圈或光锥圈高度的1/5~1/3。排粉区的壳体内还设有出料口。工作时,各粉碎装置可以与对应的齿圈和固定装置配合,分步起到粉碎作用。在风机的作用下,粉料由进料口进料,粉碎后由出料口输出。
除上述实施例外,本发明还可以有其他实施方式,凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案,均落在本发明要求的保护范围。
1.一种防粘型粉碎机的粉碎结构,其特征在于:该结构包括安装在粉碎室壳体中的摆刀旋转粉碎装置、齿圈固定粉碎装置、锥刀旋转粉碎装置、锥光圈固定粉碎装置以及安装在另一壳体上的排粉装置;
摆刀旋转粉碎装置包括旋转摆刀支架(6),以及对称布置在旋转摆刀支架(6)上的摆刀(5);锥刀旋转粉碎装置包括旋转锥刀支架(12),以及对称布置在旋转锥刀支架(12)上的锥刀(3);
所述的旋转摆刀支架(6)和旋转锥刀支架(12)由粉碎转轴(7)带动旋转;
所述的摆刀旋转粉碎装置对应位置的防粘粉碎区壳体圆周内壁上固定直齿圈(2),锥刀旋转粉碎装置对应位置的防粘粉碎区壳体圆周内壁上固定光锥圈(4)。
2.根据权利要求1所述的防粘型粉碎机的粉碎结构,其特征在于:排粉装置中设有转轴(10),所述的转轴(10)上设有风叶支架(8),风扇叶片(9)对称布置在风叶支架(8)的圆周上。
3.根据权利要求1所述的防粘型粉碎机的粉碎结构,其特征在于:排粉装置(11)配套设有排粉装置电机(1)。
4.根据权利要求1所述的防粘型粉碎机的粉碎结构,其特征在于:直齿圈在h高度处有10~45°的倒角,其高度h与锥光圈的高度h相同。
5.根据权利要求1所述的防粘型粉碎机的粉碎结构,其特征在于:转摆刀支架(6)上对称布置至少4个摆刀(5)。
6.根据权利要求4所述的防粘型粉碎机的粉碎结构,其特征在于:直齿圈在h高度处有30°的倒角。
7.根据权利要求1所述的防粘型粉碎机的粉碎结构,其特征在于:旋转锥刀支架(12)上对称布置至少4个锥刀(3)。
8.根据权利要求1所述的防粘型粉碎机的粉碎结构,其特征在于:所述的高度h为直齿圈或光锥圈高度的1/5~1/3。