便于剥离的雾面离型膜的制备工艺的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种离型膜制备方法，特别涉及一种便于剥离的雾面离型膜的制备工 艺。
【背景技术】
[0002] 离型纸又称隔离纸、防粘纸，主要用于贴覆在胶带的表面用于保护胶带表面的胶 粘剂层。现有的离型纸一般是在离型纸底纸层的表面淋膜一层淋膜层(采用的材料主要有 聚乙烯)，然后在淋膜层的表面涂布一层离型剂层(采用的材料主要为硅油)得到离型纸。但 是由于淋膜层平整度高，离型剂涂层与淋膜层之间附着力差，当离型纸与涂覆有高粘度粘 合剂的贴膜贴附时，容易导致离型纸上的离型剂涂层被粘附力更大的粘合剂带走，从而在 贴膜的局部表面形成难以清理掉的离型剂涂层区域，破坏了贴膜整体的纯净、一致性。
【发明内容】
[0003] 本发明提供一种便于剥离的雾面离型膜的制备工艺，该雾面离型膜的制备工艺提 高了与离型剂涂层接触的雾面涂层表面粗糙度均匀性，解决离型纸的淋膜层与离型剂涂层 结合力不稳定的技术问题，有利于剥离以及避免残留压敏胶和将离型剂残留于压敏胶层 上。
[0004] 为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种便于剥离的雾面离型膜的制备 工艺，所述雾面离型膜由聚酯薄膜层、雾面涂层和离型剂涂层依次层叠构成，其特征在于： 所述雾面涂层朝向离型剂涂层表面具有若干个凸起部；所述雾面离型膜制备工艺主要由下 列步骤组成： 第一步：在聚酯薄膜层上涂覆一层厚度为0. 2?2微米的雾面涂层剂，该雾面涂层剂进 一步通过以下工艺获得： 步骤1.将0. 3~1份纳米Si02粉体、0. 2、. 6份纳米A1203粉体和0. 3~1份硅烷偶联剂 加入8~10份甲苯中进行超声波处理获得预分散液； 步骤2.将100份乙烯基硅氧烷、0. 3~1份含氢硅氧烷加入12CT150份丁酮中进行机械 搅拌获得聚合物溶液； 步骤3.将步骤1的预分散液、步骤2的聚合物溶液混合并依次进行机械搅拌和超声波 搅拌，从而获得调制后的聚合物溶液； 步骤4.在所述调制后的聚合物溶液加入0. 2~0. 5份钼金； 第二步：将离型纸的雾面涂层剂通过烘烤进行聚合反应得到雾面涂层； 第三步：在所述雾面涂层的表面涂覆一层离型剂涂层。
[0005] 上述技术方案中进一步改进的技术方案如下： 1.上述方案中，所述纳米Si02粉体的直径范围为l(Tl5nm，所述纳米A1203粉体的直径 范围为25?35nm。
[0006] 2.上述方案中，所述聚酯薄膜层为聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚氯乙烯薄膜。
[0007] 由于上述技术方案运用，本发明与现有技术相比具有下列优点和效果： 本发明便于剥离的雾面离型膜的制备工艺，特定直径的纳米Si02粉体、纳米A1203粉 体在溶剂下与硅烷偶联剂经超声波共同作用，且机械搅拌和超声波搅拌组合，有利于纳米 Si02粉体、A1203粉体呈均匀分布，特定的聚合物溶液和预分散液采用不同的溶剂，降低纳米 Si02粉体、A1203颗粒的表面能，进一步利于粉体颗粒在溶剂中的分散，提高了与离型剂涂层 接触的雾面涂层表面粗糙度均匀性，解决离型纸的淋膜层与离型剂涂层结合力不稳定的技 术问题，有利于剥离以及避免残留压敏胶和将离型剂残留于压敏胶层上。
【附图说明】
[0008] 附图1为本发明便于剥离的雾面离型膜结构示意图； 附图2a为现有的雾面涂层微观形貌SEM测试图； 附图2b为本发明制备工艺获得的雾面涂层微观形貌SEM测试图。
[0009] 以上附图中：1、聚酯薄膜层；2、雾面涂层；3、离型剂涂层；4、凸起部。
【具体实施方式】
[0010] 下面结合附图及实施例对本发明作进一步描述： 实施例1~5 :-种便于剥离的雾面离型膜的制备工艺，所述雾面离型膜由聚酯薄膜层 1、雾面涂层2和离型剂涂层3依次层叠构成，其特征在于：所述雾面涂层2朝向离型剂涂层 3表面具有若干个凸起部4 ;所述雾面离型膜制备工艺主要由下列步骤组成： 第一步：在聚酯薄膜层1上涂覆一层厚度为0. 2?2微米的雾面涂层剂，该雾面涂层剂 进一步通过以下工艺获得： 步骤1.将0. 3?1份纳米Si02粉体、0. 2、. 6份纳米A1203粉体和0. 3?1份硅烷偶联剂 加入8~10份甲苯中进行超声波处理获得预分散液； 步骤2.将100份乙烯基硅氧烷、0. 3~1份含氢硅氧烷加入12CT150份丁酮中进行机械 搅拌获得聚合物溶液； 步骤3.将步骤1的预分散液、步骤2的聚合物溶液混合并依次进行机械搅拌和超声波 搅拌，从而获得调制后的聚合物溶液； 步骤4.在所述调制后的聚合物溶液加入0. 2~0. 5份钼金； 实施例1飞雾面涂层各组分重量份含量见表1。
[0011] 表 1
【主权项】
1. 一种便于剥离的雾面离型膜的制备工艺，所述雾面离型膜由聚酯薄膜层（1)、雾面 涂层（2)和离型剂涂层（3)依次层叠构成，其特征在于：所述雾面涂层（2)朝向离型剂涂层 (3)表面具有若干个凸起部（4);所述雾面离型膜制备工艺主要由下列步骤组成： 第一步：在聚酯薄膜层（1)上涂覆一层厚度为0. 2?2微米的雾面涂层剂，该雾面涂层 剂进一步通过以下工艺获得： 步骤1.将0. 3~1份纳米SiO2粉体、0. 2、. 6份纳米Al2O3粉体和0. 3~1份硅烷偶联剂 加入8~10份甲苯中进行超声波处理获得预分散液； 步骤2.将100份乙烯基硅氧烷、0. 3~1份含氢硅氧烷加入12(Γ150份丁酮中进行机械 搅拌获得聚合物溶液； 步骤3.将步骤1的预分散液、步骤2的聚合物溶液混合并依次进行机械搅拌和超声波 搅拌，从而获得调制后的聚合物溶液； 步骤4.在所述调制后的聚合物溶液加入0. 2~0. 5份钼金； 第二步：将离型纸的雾面涂层剂通过烘烤进行聚合反应得到雾面涂层； 第三步：在所述雾面涂层的表面涂覆一层离型剂涂层。
2. 根据权利要求1所述的便于剥离的雾面离型膜的制备工艺，其特征在于：所述纳米 SiO2粉体的直径范围为l(Tl5nm，所述纳米Al2O3粉体的直径范围为25~35nm。
3. 根据权利要求1所述的便于剥离的雾面离型膜的制备工艺，其特征在于：所述聚酯 薄膜层（1)为聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚氯乙烯薄膜。
【专利摘要】一种便于剥离的雾面离型膜的制备工艺，雾面涂层朝向离型剂涂层表面具有若干个凸起部，其主要由下列步骤组成：在聚酯薄膜层上涂覆一层厚度为0.2～2微米的雾面涂层剂；将0.3~1份纳米SiO2粉体、0.2~0.6份纳米Al2O3粉体和0.3~1份硅烷偶联剂加入8~10份甲苯中进行超声波处理获得预分散液；将100份乙烯基硅氧烷、0.3~1份含氢硅氧烷加入120~150份丁酮中进行机械搅拌获得聚合物溶液；将预分散液、步骤2的聚合物溶液混合并依次进行机械搅拌和超声波搅拌，从而获得调制后的聚合物溶液；在所述调制后的聚合物溶液加入0.2~0.5份铂金。本发明提高了与离型剂涂层接触的雾面涂层表面粗糙度均匀性，解决离型纸的淋膜层与离型剂涂层结合力不稳定的技术问题。
【IPC分类】C09D183-05, B05D7-24, C09D7-12, C09D183-07
【公开号】CN104549973
【申请号】CN201310467946
【发明人】金闯, 张庆杰
【申请人】斯迪克新型材料（江苏）有限公司
【公开日】2015年4月29日
【申请日】2013年10月9日