一种光化学反应系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及半导体和光化学技术领域，特别是一种光化学反应系统。
【背景技术】
[0002]所谓光化学反应是指由一个原子、分子、自由基或离子吸收一个光子所引发的化学反应。常用的光化学反应都是利用波长为400纳米之下，800纳米之上的光波来进行，也即作为不可见光的紫外线和红外线。
[0003]氧化铟锡(ΙΤ0)是一种透明导电氧化物半导体材料，具有稳定的化学性质，透光性优良、导电能力良好，在太阳能电池、平板显示、防霜玻璃、节能建筑窗、航空领域得到广泛的应用。
[0004]ITO膜在LED外延片上作为透明导电膜的角色，ITO表面的粗糙度对于亮度的提升有明显的帮助。为了实现该粗糙度，传统上需要上光阻后蚀刻ΙΤ0，需要经过温度为100°C至600°C的高含量氧气> lOOsccm)的热处理后，ITO表面会局部聚积成氧化铟及氧化锡的子颗粒，然后与相应的溶剂对氧化铟或/及氧化锡进行蚀刻，以达到粗糙的程度。
[0005]高温的加热除了耗能之外，还常常伴随着加热后原液挥发后对身体的危害，不能满足现代企业对环保生产的要求，降低了企业的竞争力。
【发明内容】
[0006]本发明要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，提供一种光化学反应系统，实现不需要加热而利用可见光LED进行蚀刻、沈积处理，达到节能、环保、纯净的效果，对人体无害。
[0007]为解决上述技术问题，本发明所采取的技术方案是:一种光化学反应系统，包括LED光化学引擎、化学反应容器、控制单元、反应传感器和反应单元，该控制单元与所述LED光化学引擎、化学反应容器、反应传感器电性连接，并通过控制单元控制所述LED光化学引擎的启停和调节、以及控制所述反应单元在所述化学反应容器的流通，通过所述反应传感器对所述化学反应容器内的蚀刻、沈积程度向所述控制单元进行反馈；所述反应单元至少包括第一反应子和第二反应子，该第一反应子作为需要进行蚀刻、沈积的基材，该第二反应子作为蚀刻、沈积所述第一反应子的溶剂；所述第一反应子浸泡在所述第二反应子中。
[0008]上述技术方案中，所述反应传感器以所述第一反应子或第二反应子作为对象，通过电子显微镜、质谱仪或光接发器作为途径，向所述控制单元进行蚀刻、沈积程度的反馈；并且所述反应传感器设置于所述化学反应容器之外或之内。
[0009]上述技术方案中，所述化学反应容器还连通有输送管道，该输送管道与多个反应子容器连通。
[0010]上述技术方案中，所述LED光化学引擎所使用的光波波长为400纳米至800纳米。
[0011]上述技术方案中，所述第二反应子为酸液，为草酸或磷酸。
[0012]本发明的有益效果是:通过利用LED光化学引擎对第一反应子进行激态反应，并且通过第二反应子与所激态反应产生的元素进行反应，对第一反应子进行蚀刻、沈积。在不需要高温加热的作用下进行对半导体的蚀刻、沈积，有利于节能环保。并且不要产生对人体有害的物质，安全性有保障。也不会产生杂志依附在第一反应子上，使蚀刻、沈积出来第一反应子比较纯净。
【附图说明】
[0013]图1是本发明的结构示意图。
[0014]图中，1、LED光化学引擎；2、化学反应容器；3、第一反应子；4、第二反应子；5、输送管道；6、阀门；7、反应子容器。
【具体实施方式】
[0015]下面结合附图对本发明作进一步详细的说明。
[0016]如图1所示，一种光化学反应系统，包括LED光化学引擎1、化学反应容器2、控制单元、反应传感器和反应单元，该控制单元与所述LED光化学引擎1、化学反应容器2、反应传感器电性连接，并通过控制单元控制所述LED光化学引擎I的启停和调节、以及控制所述反应单元在所述化学反应容器2的流通，通过所述反应传感器对所述化学反应容器2内的蚀刻、沈积程度向所述控制单元进行反馈；所述反应单元至少包括第一反应子3和第二反应子4，该第一反应子3作为需要进行蚀刻、沈积的基材，该第二反应子4作为蚀刻、沈积所述第一反应子3的溶剂；所述第一反应子3浸泡在所述第二反应子4中。
[0017]其中，LED光化学引擎1，可以由一个或多个LED串联或并联组成，LED的使用能够很好地进行节能和增加工作稳定性。LED光化学引擎I的对第一反应子3的照射范围限于第一反应子3所浸泡到的部分。
[0018]其中，化学反应容器2可以是化学反应槽、化学反应室或化学反应腔，由于本发明不需要使用高温加热，原液不会发生挥发，可以使用化学反应槽，以方便操作。
[0019]其中，所述反应传感器以所述第一反应子3或第二反应子4作为对象，通过电子显微镜、质谱仪或光接发器作为途径，向所述控制单元进行蚀刻、沈积程度的反馈；并且所述反应传感器设置于所述化学反应容器2之外或之内。通过电子显微镜对基材表面的蚀刻、沈积程度进行图像观察并反馈给控制单元。通过光接发器的光发射器发射检测光波到基材的表面，再反射到对应的光接收器中，根据所反射检测光波的强弱来判断基材表面的蚀刻程度，形成蚀刻，检测光波会在蚀刻、沈积的位置发生漫反射，使光接收器接收到的检测光波减弱，以减弱的程度标识为蚀刻、沈积的程度，当光接收器接收到的检测光波减弱。质谱仪可以测量第一反应子3或第二反应子4的成分，传送到控制单元，并由控制单元分析比较反应前的成分数据，而实现是否达到所要求的蚀刻、沈积程度。
[0020]其中，所述化学反应容器2还连通有输送管道5，该输送管道5与多个反应子容器7连通。在该多个反应子容器7当中，存放有不同的反应子，反应子容器7与输送管道5之间设置有由控制单元控制的阀门6。
[0021]其中，所述LED光化学引擎I所使用的光波波长为400纳米至800纳米。400纳米至800纳米的光波波长为可见光。
[0022]其中，所述第二反应子4为酸液，为草酸或磷酸。
[0023]本发明的工作原理，实施例:第一反应子3为ΙΤ0，第二反应子4为上述的草酸或磷酸。LED光化学引擎I竖直设置于化学反应槽的内，第一反应子3竖直挂设于化学反应槽内，LED光化学引擎I上的多个LED平行照射在第一反应子3的表面上，照射的光波波长使用可见光，当光波照射在第一反应子3的表面上，将铟和锡元素产生激态的铟分子或锡分子，铟分子或锡分子从第一反应子3的表面离开并与第二反应子4进行反应，使第一反应子3表面产生蚀刻。再由反应传感器对第一反应子3表面进行蚀刻、沈积程度的反馈，控制单元的接收到反馈数据后会控制LED光化学引擎1、化学反应槽和阀门6进行相应的动作。例如是将第二反应子4进行排放并注入清水清洗，清洗后注入不同的反应子进行连锁的蚀亥IJ、沈积或后工序等。
[0024]以上的实施例只是在于说明而不是限制本发明，故凡依本发明专利申请范围所述的方法所做的等效变化或修饰，均包括于本发明专利申请范围内。
【主权项】
1.一种光化学反应系统，其特征在于:包括LED光化学引擎、化学反应容器、控制单元、反应传感器和反应单元，该控制单元与所述LED光化学引擎、化学反应容器、反应传感器电性连接，并通过控制单元控制所述LED光化学引擎的启停和调节、以及控制所述反应单元在所述化学反应容器的流通，通过所述反应传感器对所述化学反应容器内的蚀刻、沈积程度向所述控制单元进行反馈；所述反应单元至少包括第一反应子和第二反应子，该第一反应子作为需要进行蚀刻、沈积的基材，该第二反应子作为蚀刻、沈积所述第一反应子的溶剂；所述第一反应子浸泡在所述第二反应子中。
2.根据权利要求1所述的一种光化学反应系统，其特征在于:所述反应传感器以所述第一反应子或第二反应子作为对象，通过电子显微镜、质谱仪或光接发器作为途径，向所述控制单元进行蚀刻、沈积程度的反馈；并且所述反应传感器设置于所述化学反应容器之外或之内。
3.根据权利要求1所述的一种光化学反应系统，其特征在于:所述化学反应容器还连通有输送管道，该输送管道与多个反应子容器连通。
4.根据权利要求1所述的一种光化学反应系统，其特征在于:所述LED光化学引擎所使用的光波波长为400纳米至800纳米。
5.根据权利要求1所述的一种光化学反应系统，其特征在于:所述第二反应子为酸液，为草酸或磷酸。
【专利摘要】本发明公开了一种光化学反应系统，包括LED光化学引擎、化学反应容器、控制单元、反应传感器和反应单元，该控制单元与所述LED光化学引擎、化学反应容器、反应传感器电性连接，并通过控制单元控制所述LED光化学引擎的启停和调节、以及控制所述反应单元在所述化学反应容器的流通，通过所述反应传感器对所述化学反应容器内的蚀刻、沈积程度向所述控制单元进行反馈；所述反应单元至少包括第一反应子和第二反应子，该第一反应子作为需要进行蚀刻、沈积的基材，该第二反应子作为蚀刻、沈积所述第一反应子的溶剂；所述第一反应子浸泡在所述第二反应子中。
【IPC分类】B01J19-12
【公开号】CN104587936
【申请号】CN201510048977
【发明人】廖宗仁, 余其俊
【申请人】东莞佰鸿电子有限公司
【公开日】2015年5月6日
【申请日】2015年1月30日