一种应用于化学实验的可调节的支架的制作方法

文档序号:8403477阅读:264来源:国知局
一种应用于化学实验的可调节的支架的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明属于教学教具技术领域,具体涉及一种应用于化学实验的可调节的支架。
【背景技术】
[0002]在实验课上,经常会用到三角架。然而现有的支架高度不可调,不能适应不同高度的加热器的场合,这给实验带来了很多不便。

【发明内容】

[0003]本发明的目的是克服现有支架高度不可调的问题。
[0004]为此,本发明提供了一种应用于化学实验的可调节的支架,包括环形支撑面I和固定于环形支撑面下方的至少三个均匀排布的固定杆,其特征在于:所述固定杆上制有支撑面,所述支撑面上制有下端为盲孔的T型滑槽,所述T型滑槽上制有螺栓;所述支撑面上固定有活动杆,所述活动杆通过定位孔及与螺栓配合的螺母固定于支撑面上。
[0005]所述螺栓具有与T型滑槽适配的的栓帽;所述螺栓可沿T型滑槽长度方向滑动。
[0006]所述活动杆末端装有适配的防滑橡胶帽。
[0007]本发明的有益效果:本发明提供的这种应用于化学实验的可调节的支架,包括环形支撑面和固定于环形支撑面下方的至少三个均匀排布的固定杆,其特征在于:所述固定杆上制有支撑面,所述支撑面上制有下端为盲孔的T型滑槽,所述T型滑槽上制有螺栓;所述支撑面上固定有活动杆,所述活动杆通过定位孔及与螺栓配合的螺母固定于支撑面上;所述螺栓具有与T型滑槽适配的的栓帽;所述螺栓可沿T型滑槽长度方向滑动;所述活动杆末端装有适配的防滑橡胶帽;因此,该应用于化学实验的可调节的支架,能够方便的适应不同的加热器,节省了课堂时间,在活动杆末端装有适配的防滑橡胶帽,保证支架不会滑落,非常可靠,安全,实用。
[0008]以下将结合附图对本发明做进一步详细说明。
【附图说明】
[0009]图1是应用于化学实验的可调节的支架结构示意图。
[0010]图2是应用于化学实验的可调节的支架的局部放大示意图。
[0011]图中:1、环形支撑面;2、固定杆;3、支撑面;4、螺栓;5、螺母;6、活动杆;7、定位孔;8、T型滑槽;9、栓帽;10、橡胶帽。
【具体实施方式】
[0012]实施例一:
上述如图1所示的一种应用于化学实验的可调节的支架,,包括环形支撑面I和固定于环形支撑面I下方的至少三个均匀排布的固定杆2,其特征在于:所述固定杆I上制有支撑面3,所述支撑面3上制有下端为盲孔的T型滑槽8,所述T型滑槽8上制有螺栓4 ;所述支撑面3上固定有活动杆6,所述活动杆6通过定位孔7及与螺栓4配合的螺母5固定于支撑面3上。
[0013]这种应用于化学实验的可调节的支架,能够方便的适应不同的加热器,节省了课堂时间。
[0014]实施例二:
上述如图1所示的一种应用于化学实验的可调节的支架,所述螺栓4具有与T型滑槽8适配的的栓帽9 ;所述螺栓4可沿T型滑槽8长度方向滑动。
[0015]所述活动杆3末端装有适配的防滑橡胶帽10。
[0016]该方案使支架高度调节更方便,不易滑落,非常可靠,安全,实用。
[0017]以上例举仅仅是对本发明的举例说明,并不构成对本发明的保护范围的限制,凡是与本发明相同或相似的设计均属于本发明的。
【主权项】
1.一种应用于化学实验的可调节的支架,包括环形支撑面(I)和固定于环形支撑面(I)下方的至少三个均匀排布的固定杆(2),其特征在于:所述固定杆(2)上制有支撑面(3),所述支撑面(3)上制有下端为盲孔的T型滑槽(8),所述T型滑槽(8)上制有螺栓(4);所述支撑面(3)上固定有活动杆(6),所述活动杆(6)通过定位孔(7)及与螺栓(4)配合的螺母(5)固定于支撑面(3)上。
2.如权利要求1所述的应用于化学实验的可调节的支架,其特征在于:所述螺栓(4)具有与T型滑槽(8)适配的的栓帽(9);所述螺栓(4)可沿T型滑槽(8)长度方向滑动。
3.如权利要求1所述的应用于化学实验的可调节的支架,其特征在于:所述活动杆(3)末端装有适配的防滑橡胶帽(10)。
【专利摘要】本发明属于教学教具技术领域,具体涉及一种应用于化学实验的可调节的支架,包括环形支撑面和固定于环形支撑面下方的至少三个均匀排布的固定杆,固定杆上制有支撑面,支撑面上制有下端为盲孔的T型滑槽,T型滑槽上制有螺栓;支撑面上固定有活动杆,活动杆通过定位孔及与螺栓配合的螺母固定于支撑面上;螺栓具有与T型滑槽适配的的栓帽;螺栓可沿T型滑槽长度方向滑动;活动杆末端装有适配的防滑橡胶帽;因此,该应用于化学实验的可调节的支架,能够方便的适应不同的加热器,节省了课堂时间,在活动杆末端装有适配的防滑橡胶帽,保证支架不会滑落,非常可靠,安全,实用。
【IPC分类】B01L9-00
【公开号】CN104722343
【申请号】CN201310708493
【发明人】乔国强
【申请人】西安博智教学研究院
【公开日】2015年6月24日
【申请日】2013年12月20日
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