红外屏蔽膜的制造方法

文档序号:9475433阅读:924来源:国知局
红外屏蔽膜的制造方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及红外屏蔽膜的制造方法。
【背景技术】
[0002] 以往,反射防止膜、红外反射膜、彩色感光材料等多层层叠膜通过干式成膜或者湿 式成膜而制造。从生产率的方面考虑,与化学蒸镀(CVD)、物理蒸镀(PVD)等干式成膜相比, 进行涂布液的涂布和干燥的湿式成膜更优异。
[0003] 滑斗型涂布装置作为能够同时复层涂布多个涂布液的湿式成膜装置,适用于制造 如上所述的多层层叠膜,但需要减少涂布不均的制造方法。
[0004] 日本特开平03-219237号公报(美国专利第5656417号说明书)中,公开了一种 彩色感光材料的制造方法,其特征在于,以如下方式进行调整而涂布,即最下层的形成中使 用粘度为15cP~IOOcP的涂布液,使涂布在该最下层的上面的7层以上的涂布液的粘度为 30cP以上,且7层以上的涂布液的粘度的算术平均值为60~300cP。根据该制造方法,能 够高速且稳定地得到不产生色彩不均的均匀的涂布面状。

【发明内容】

[0005] 然而,上述日本特开平03 - 219237号公报(美国专利第5656417号说明书)记 载的技术中,由于涂布液为高粘度,所以容易产生凝聚物,另外,由于涂布液的脱泡困难,所 以涂布该涂布液时,存在如下问题:产生泡故障、凝聚物所致的异物故障,得到的制品的外 观改善尚不充分。另外,红外屏蔽膜的制造中使用的涂布液由于同时使用低粘度液和高粘 度液,所以在进行多层涂布时,存在在滑动面上产生起伏,涂布结束后的制品产生木纹状的 涂布不均这样的问题。
[0006] 因此,本发明的目的在于提供一种涂布面几乎不产生或者完全不产生木纹状的不 均、条纹故障、泡?异物故障而具有良好外观的红外屏蔽膜的制造方法。
[0007] 本发明人等鉴于上述课题进行了深入研究。其结果,惊喜地发现通过使滑斗型涂 布装置的滑动面相对于水平面的角度和滑斗型涂布装置的每一个挡料块(7''口 7夕)的厚 度为特定的范围,能够解决上述课题。由此,完成了本发明。
[0008] 即,本发明的红外屏蔽膜的制造方法,包括在连续行进的基材膜上使用滑斗型涂 布装置将高折射率层用涂布液和低折射率层用涂布液同时复层涂布10层~40层的层的工 序,上述高折射率层用涂布液和上述低折射率层用涂布液在40°C的粘度为5~200mPa *s, 上述滑斗型涂布装置的滑动面相对于水平面的角度为2~15°,上述滑斗型涂布装置的每 一个挡料块的厚度为15~40mm。
【附图说明】
[0009] 图1是表示滑斗型涂布装置的一个例子的示意图。图1中的1为基材膜,2为后滚 筒(back roll),3为涂布机模,4为涂布液,5为减压室,6为接液部,7为后滚筒中心与接液 部所成的角度(γ),8为滑动面相对于水平面的角度(β),9为基材膜的行进面与滑动面所 成的角度(α ),10为减压部,11为挡料块,t为挡料块的厚度。
[0010] 图2是表示抑制滑动面上的涂布液的起伏的机制的示意图。图2的A为上层液, B为下层液。
【具体实施方式】
[0011] 以下,对本发明的红外屏蔽膜的制造方法进行详细说明。
[0012] 图1是表示本发明中使用的滑斗型涂布装置的一个例子的示意图。
[0013] 连续输送的基材膜1被保持于后滚筒2,在接液部6被涂布,后滚筒2位于与涂布 机模3相对的位置,根据基材膜1的输送速度沿同一方向旋转。涂布机模3由多个挡料块 11 (图1中,示出了同时复层涂布4层的形态)构成,涂布液4在其上流下。另外,涂布机模 3设置了一定的滑动面相对于水平面的角度8(β)而被固定于涂布机模保持台(未图示)。 在后滚筒2与涂布机模3之间的下部设有减压室5。减压室5为了使在接液部6形成的液 珠(一卜'')稳定化,减小液珠上下的压力差,具体而言减少下方部的压力,从减压部10排 气,使减压室5内成为负压。
[0014] 本发明使图1所示的滑动面相对于水平面的角度8 ( β )为2~15°,并且使每一 个挡料块的厚度(图1的t)为15~40mm。由此,能够抑制滑动面上的涂布液的起伏,能够 得到涂布面不产生木纹状的不均、不产生条纹故障、泡·异物故障的具有良好外观的红外屏 蔽膜。
[0015] 图2是表示抑制滑动面上的涂布液的起伏的机制的示意图,(a)表示滑动面相对 于水平面的角度大时,即角度超过15°时的涂布液的样子。(b)表示本发明的制造方法,表 示滑动面相对于水平面的角度为2~15°时的涂布液的样子。如图2的(a)所示,滑动面 相对于水平面的角度超过15°时,由于从滑动面上流下来的上层液A的膜厚薄,所以受到 下层液B从滑动面流出时的冲击而产生涂布液的起伏。如果涂布这样的涂布液,则涂布面 产生木纹状的紊乱。
[0016] 另一方面,如图2的(b)所示,滑动面相对于水平面的角度小于15°时,由于从滑 动面上流下来的上层液A的膜厚较厚,所以几乎不产生或者完全不产生由下层液B从滑动 面流出时的冲击而引起的涂布液的起伏。因此,即便涂布这样的涂布液,也能够得到涂布面 不产生木纹状的不均、外观优异的红外屏蔽膜。
[0017] 但是,即便为图2的(b)的形态,当每一个挡料块的厚度较厚时,由于涂布液流下 滑动面的距离变长,也会在滑动面下游部产生涂布液的起伏。与此相对,本发明中,通过使 每一个挡料块的厚度为15~40mm,即便进行例如40层这样的多层的同时复层涂布,也能够 成为几乎不产生或者完全不产生起伏的涂布液的流动,能够得到涂布面几乎不产生木纹状 的不均、外观优异的红外屏蔽膜。
[0018] 应予说明,上述的机制是推测而得出的,本发明并不受上述机制任何限制。
[0019] 以下,对本发明的红外屏蔽膜的制造方法进行详细说明。
[0020] [红外屏蔽膜]
[0021] 本发明的红外屏蔽膜的构成没有特别限制,优选含有基材膜和至少1组由高折射 率层和低折射率层构成的单元,更优选具有高折射率层与低折射率层交替层叠而成的交替 层叠体的形态。应予说明,本说明书中,将相对于另一方折射率较高的折射率层称为高折射 率层,将相对于另一方折射率较低的折射率层称为低折射率层。
[0022] 本发明中,优选红外屏蔽膜含有至少1组由折射率不同的2个层即高折射率层和 低折射率层构成的单元。例如,高折射率层和低折射率层分别含有金属氧化物粒子时,有时 低折射率层所含的金属氧化物粒子(以下,称为"第1金属氧化物粒子")与高折射率层所 含的金属氧化物粒子(以下,称为"第2金属氧化物粒子")在2个层的界面混合,形成含 有第1金属氧化物粒子和第2金属氧化物粒子的层。这种情况下,根据第1金属氧化物粒 子与第2金属氧化物粒子的存在比而视为低折射率层或者高折射率层。具体而言,低折射 率层是指相对于第1金属氧化物粒子和第2金属氧化物粒子的合计质量,含有50~100质 量%的第1金属氧化物粒子的层。高折射率层是指相对于第1金属氧化物粒子和第2金属 氧化物粒子的合计质量,含有超过50质量%且为100质量%以下的第2金属氧化物粒子的 层。应予说明,折射率层所含的金属氧化物粒子的种类和量可以利用能量色散X射线光谱 法(EDX)分析。
[0023] 作为本发明中使用的金属氧化物粒子,没有特别限制,可举出氧化钛(TiO2)、氧化 锌(ZnO)、氧化错(ZrO2)、氧化银(Nb2O5)、氧化铝(Al 2O3)、氧化娃(SiO2)、氟化妈(CaF2)、氟 化镁(MgF2)、氧化铟锡(ITO)、氧化锑锡(ATO)等。其中,作为高折射率层用涂布液所含的第 2金属氧化物粒子,优选使用氧化钛(TiO2),作为低折射率层用涂布液所含的第1金属氧化 物粒子,优选使用氧化硅(SiO2)。
[0024] 此外,可以用含硅的水合氧化物被覆氧化钛粒子。含硅的水合化合物的被覆量优 选为3~30质量%,更优选为3~10质量%,进一步优选为3~8质量%。这是由于如果 被覆量为30质量%以下,则得到高折射率层的所希望的折射率,如果被覆量为3%以上则 能够稳定地形成粒子。
[0025] 作为用含硅的水合氧化物被覆氧化钛粒子的方法,可以利用一直以来公知的方法 制造,例如,可以参照日本特开平10 - 158015号公报(对金红石型氧化钛的Si/Al水合 氧化物处理;钛酸滤饼在碱性区域解凝后使硅和/或铝的含水氧化物析出于氧化钛的表面 而进行表面处理的氧化钛溶胶的制造方法)、日本特开2000 - 204301号公报(将Si与Zr 和/或Al的氧化物的复合氧化物被覆于金红石型氧化钛而得的溶胶,水热处理)、日本特 开2007 - 246351号公报(在将含水氧化钛解凝而得的氧化钛的水溶胶中,添加式R1nSiX^n(式中R1为Cl 一 C8烷基、缩水甘油氧基取代Cl 一 C8烷基或者C2 - C8烯基,X为烷氧 基,η为1或者2)的有机烷氧基硅烷或者对氧化钛具有络合作用的化合物作为稳定剂,在 碱性区域添加到硅酸钠或者二氧化硅溶胶的溶液而进行pH调节?熟化,制造用硅的含水氧 化物被覆了的氧化钛水溶胶的方法)等中记载的事项。
[0026] -般而言,红外屏蔽膜中,从能够以较少的层数提高红外反射率这样的观点考虑, 优选增大低折射率层与高折射率层的折射率差来设计。本发明的红外屏蔽膜中,在至少1 组由低折射率层和高折射率层构成的单元中,邻接的低折射率层与高折射率层的折射率差 优选为〇. 1以上,更优选为〇. 3以上,进一步优选为0. 35以上,特别优选为0. 4以上。红外屏 蔽膜具有多组高折射率层和低折射率层的单
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