一种化学清洗剂及其制备方法

文档序号:9774512阅读:209来源:国知局
一种化学清洗剂及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明属于废水处理领域,尤其涉及冷乳含油废水污染Al2O3陶瓷膜的化学清洗剂。
【背景技术】
[0002]随着我国工业的迅速发展,工业废水排放总量巨大,其中含油废水占很大的比重,陶瓷微滤膜因具有良好的化学稳定性、热稳定性、机械强度高、寿命长及易再生等特点,可以进行长期稳定的分离过滤操作,成为含油废水处理技术的研究热点。
[0003]然而,在陶瓷膜处理含油废水应用中,由于长时间运行,会产生膜污染,引起膜的分离性能恶化,造成膜渗透通量衰减,以至于不能满足要求,制约了其在实际工业生产中的广泛应用。因此,须采用有效的清洗方法,恢复膜的分离性能。对于应用于含油废水处理的陶瓷膜,去除膜污染有效的方法是化学清洗。
[0004]现有的化学清洗研究中,多采用酸、碱溶液分步清洗的方法,如采用十二烷基苯磺酸钠、氢氧化钠、硝酸对含油废水污染陶瓷膜进行分步清洗,陶瓷膜通量恢复率为96.2%,但清洗工艺过程复杂、费时和耗水量大,且易腐蚀陶瓷膜,因此,近年来,油水污染陶瓷膜的单步清洗工艺的研究受到重视,袁群杰等对油田含油污水污染的陶瓷膜进行清洗研究,采用以表面活性剂、螯合剂及烧碱为主的复合清洗剂,通量恢复率仅为60 %以上,膜通量恢复率较低,仍难以满足污染陶瓷膜清洗要求。

【发明内容】

[0005]本发明的目的是针对上述缺陷,提供一种通量恢复率高,且清洗简单的化学清洗剂及其制备方法。
[0006]本发明通过以下技术方案予以实现:一种化学清洗剂,含有质量分数如下的成分:氢氧化钠I %,十二烷基苯磺酸钠0.5%,烷基糖苷0.75%,柠檬酸钠0.4%,碳酸钠0.4 %,硅酸钠清洗剂0.2%,余量为清水。
[0007]本发明还提供上述化学清洗剂的制备方法,将氢氧化钠、十二烷基苯磺酸钠、烷基糖苷、柠檬酸钠、碳酸钠和硅酸钠清洗剂加入搅拌器中,室温下搅拌混合l_2h,将混合液溶于清水,得到清洗剂。
[0008]本发明具有如下有益效果:
采用本发明清洗剂可通过一次化学清洗工艺,有效去除油水乳化液对陶瓷膜的污染,膜纯水通量恢复率为95.3%,油水渗透通量恢复率为97.4%。
【具体实施方式】
[0009]下面结合具体实施例对本发明做进一步说明。
[0010]具体实施例:一种化学清洗剂,含有质量分数如下的成分:氢氧化钠1%,十二烷基苯磺酸钠0.5%,烷基糖苷0.75%,柠檬酸钠0.4%,碳酸钠0.4%,硅酸钠清洗剂0.2 %,余量为清水。
[0011 ]其制备方法,将氢氧化钠、十二烷基苯磺酸钠、烷基糖苷、柠檬酸钠、碳酸钠和硅酸钠清洗剂加入搅拌器中,室温下搅拌混合l-2h,将混合液溶于清水,得到清洗剂。
[0012]采用该清洗剂对某乳钢厂冷乳乳化液含油废水污染24h的陶瓷膜进行清洗,经清洗剂清洗后纯水通量稳定在617.4 L/m2.h.bar,与新膜纯水稳定通量648.3 L/m2.h.bar比较,纯水通量恢复率达到了95.3 % ;新陶瓷膜处理乳化液废水24h稳定渗透通量为219.9L/m2.h.bar,经清洗剂清洗后再处理该冷乳含油废水24 h稳定渗透通量为214.1L/m2.h.bar,油水渗透通量恢复率为97.4%。
[0013]以上内容是结合具体的实施方式对本发明所做的进一步详细说明,不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,都应当视为属于本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种化学清洗剂,其特征在于含有质量分数如下的成分:氢氧化钠I %,十二烷基苯磺酸钠0.5%,烷基糖苷0.75%,柠檬酸钠0.4%,碳酸钠0.4%,硅酸钠清洗剂0.2%,余量为清水。2.如权利要求1所述的化学清洗剂制备方法,其特征在于:将氢氧化钠、十二烷基苯磺酸钠、烷基糖苷、柠檬酸钠、碳酸钠和硅酸钠清洗剂加入搅拌器中,室温下搅拌混合l_2h,将混合液溶于清水,得到清洗剂。
【专利摘要】一种化学清洗剂及其制备方法,属于废水处理领域,尤其涉及冷轧含油废水污染A1203陶瓷膜的化学清洗剂。针对现有技术缺陷,提供一种通量恢复率高,且清洗简单的化学清洗剂及其制备方法。该化学清洗剂含有质量分数如下的成分:氢氧化钠1%,十二烷基苯磺酸钠0.5%,烷基糖苷0.75%,柠檬酸钠0.4%,碳酸钠0.4%,硅酸钠清洗剂0.2%,余量为清水。采用本发明清洗剂可通过一次化学清洗工艺,有效去除油水乳化液对陶瓷膜的污染,膜纯水通量恢复率为95.3%,油水渗透通量恢复率为97.4%。
【IPC分类】B01D65/06, C02F1/44
【公开号】CN105536548
【申请号】CN201510850550
【发明人】王耀斌
【申请人】陕西盛迈石油有限公司
【公开日】2016年5月4日
【申请日】2015年11月30日
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