催化剂全反应瓷球下料装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种催化剂反应瓷球全反应的装置，更具体地讲，是涉及一种催化剂全反应瓷球下料装置。
【背景技术】
[0002]化工生产中经常遇到需要加热的物料或者催化剂，传统的颗粒状物料或者催化剂颗粒都是在瓷球中完成预加热工序。但是传统的瓷球装置为中间粗，两端细的形状结构，瓷球的下部由倒圆锥段和直筒腔结构组成，瓷球中段的内壁上设有加热装置，但是直筒腔的内壁没有设置加热装置，所以当通过进料口投放到瓷球中的待还原催化剂直接落入到直筒腔的还原剂容易不被加热到，导致物料颗粒或者催化剂颗粒的预加热不均匀。
【发明内容】
[0003]发明目的:针对现有技术的不足，申请人经过多次实践改进，设计了催化剂全反应瓷球下料装置，实现瓷球内所有的待还原催化剂的全加热之后再进行转运到下一道生产工序中。
[0004]技术方案:为了实现上述发明目的，本发明所采用的技术方案为:催化剂全反应瓷球下料装置，包括瓷球、设置在瓷球顶端的进料口，通过进料口投放到瓷球中的待还原催化剂，所述瓷球的下部由倒圆锥段和直筒腔组成，所述直筒腔的一侧设有下料管道。所述直筒腔内设置圆形垫板，所述圆形垫板在直筒腔内自由上下运动，所述圆形垫板的下端面设置推进装置。
[0005]进一步地，本发明采用的进一步的技术方案为:所述推进装置为推进螺杆。
[0006]再进一步地，所述下料管道上设有旋拧阀门。
[0007]实际工作时，瓷球中段的内壁上设有加热装置，但是直筒腔的内壁没有设置加热装置，所以当通过进料口投放到瓷球中的待还原催化剂直接落入到直筒腔的还原剂容易不被加热到。所以在投放待还原催化剂之前，先通过推进螺杆将圆形垫板向上推送至直筒腔的上端，保证所有新投放的待还原催化剂都处在瓷球中段，能够均匀接受瓷球中段的内壁上设置的加热装置的加热。加热完毕后，利用螺杆将圆形垫板降低到直筒腔的底部，将瓷球中物料泄落到下料管道的端口上，进行转运到下一道工序。
[0008]有益效果:本发明与现有技术相比，其有益效果是:
[0009]本发明利用推进装置和圆形垫板防止待加热的待还原催化剂落入直筒腔，不能被加热到，保证所有的催化剂都在瓷球的中段接受加热，实现更好的加热效果。
【附图说明】
[0010]图1为本发明催化剂全反应瓷球下料装置的结构示意图。
【具体实施方式】
[0011]下面通过一个最佳实施例，对本技术方案进行详细说明，但是本发明的保护范围不局限于所述实施例。
[0012]如图1所示，催化剂全反应瓷球下料装置，包括瓷球1、设置在瓷球I顶端的进料口8，通过进料口 8投放到瓷球I中的待还原催化剂2，所述瓷球I的下部由倒圆锥段3a和直筒腔3b组成，所述直筒腔3b的一侧设有下料管道6。所述直筒腔3b内设置圆形垫板4，所述圆形垫板4在直筒腔3b内自由上下运动，所述圆形垫板4的下端面设置推进装置5。所述推进装置5为推进螺杆。
[0013]所述下料管道6上设有旋拧阀门7。
[0014]以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出:对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.催化剂全反应瓷球下料装置，包括瓷球(I)、设置在瓷球(I)顶端的进料口(8)，通过进料口(8)投放到瓷球(I)中的待还原催化剂(2)，所述瓷球(I)的下部由倒圆锥段(3a)和直筒腔(3b)组成，所述直筒腔(3b)的一侧设有下料管道￠)，其特征在于:所述直筒腔(3b)内设置圆形垫板(4)，所述圆形垫板(4)在直筒腔(3b)内自由上下运动，所述圆形垫板(4)的下端面设置推进装置(5)。2.根据权利要求1所述的催化剂全反应瓷球下料装置，其特征在于:所述推进装置(5)为推进螺杆。3.根据权利要求1所述的催化剂全反应瓷球下料装置，其特征在于:所述下料管道(6)上设有旋拧阀门(7)。
【专利摘要】本发明公开了催化剂全反应瓷球下料装置，包括瓷球、设置在瓷球顶端的进料口，通过进料口投放到瓷球中的待还原催化剂，所述瓷球的下部由倒圆锥段和直筒腔组成，所述直筒腔的一侧设有下料管道。所述直筒腔内设置圆形垫板，所述圆形垫板在直筒腔内自由上下运动，所述圆形垫板的下端面设置推进装置。所述推进装置为推进螺杆。所述下料管道上设有旋拧阀门。本发明利用推进装置和圆形垫板防止待加热的待还原催化剂落入直筒腔，不能被加热到，保证所有的催化剂都在瓷球的中段接受加热，实现更好的加热效果。
【IPC分类】B01J6/00, B01J4/00
【公开号】CN105582853
【申请号】CN201410568868
【发明人】张春富, 孙长山, 曹友志, 姜旺荣, 徐克忠, 严斌
【申请人】江苏三剂实业有限公司
【公开日】2016年5月18日
【申请日】2014年10月22日