一种磁性复合材料的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种磁性复合材料。
【背景技术】
[0002]半导体光催化剂已经广泛用于光催化降解水中有机污染物，但粉末半导体不易回收，易造成二次污染。众所周知，本征态一氧化钛光生电子和空穴的复合率高，而导致光催化效率偏低。
【发明内容】
[0003 ]为解决上面技术问题，本发明提供一种磁性复合材料。
[0004]为实现上述目的，本发明为解决其技术问题所采用的技术方案是:一种磁性复合材料，所述材料包括基材、光催化剂及功能助剂，所述基材为具有透明镜面的石英结构材料，所述光催化剂为磁性纳米复合光催化剂，所述功能助剂包括钠扩散抑制剂、反射率特性调节剂、粘合剂及增强剂。
[0005]所述磁性纳米复合光催化剂成分由磁性氧化铁、氧化铝及一氧化钛组成，所述钠扩散抑制剂为二氧化硅，所谓反射率特性调节剂为氧化铝，所述粘合剂为硅酸钠，所述增强剂为硼纤维或氮化硅。
[0006]所述光催化剂及功能助剂按质量配比为:磁性氧化铁占42-55%，氧化铝占12-16%，一氧化钛占15-21%，钠扩散抑制剂占8-12%，反射率特性调节剂占3-5%，粘合剂占2-4%，增强剂占1-3%。
[0007]所述光催化剂及功能助剂按质量配比优选为:磁性氧化铁占49%，氧化铝占14%，一氧化钦占18%，纳扩散抑制剂占10%，反射率特性调节剂占4%，粘合剂占3%，增强剂占
[0008]本发明的有益效果是:采用的磁性纳米复合光催化剂具有较强的光催化降解有机污染物的能力，并且可通过磁铁进行回收，制作过程中不会产生剥离现象;通过钠扩散抑制剂、反射率特性调节剂的加入增强膜的保质耐久性，使用粘合剂及增强剂大大加强了各成分间紧密联接程度，更好地防止了膜的剥离。
【具体实施方式】
[0009]—种磁性复合材料，所述材料包括基材、光催化剂及功能助剂，所述基材为具有透明镜面的石英结构材料，所述光催化剂为磁性纳米复合光催化剂，所述功能助剂包括钠扩散抑制剂、反射率特性调节剂、粘合剂及增强剂。
[0010]所述磁性纳米复合光催化剂成分由磁性氧化铁、氧化铝及一氧化钛组成，所述钠扩散抑制剂为二氧化硅，所谓反射率特性调节剂为氧化铝，所述粘合剂为硅酸钠，所述增强剂为硼纤维或氮化硅。
[0011]所述光催化剂及功能助剂按质量配比为:磁性氧化铁占42-55%，氧化铝占12-16%，一氧化钛占15-21%，钠扩散抑制剂占8-12%，反射率特性调节剂占3-5%，粘合剂占2-4%，增强剂占1-3%。
[0012]所述光催化剂及功能助剂按质量配比优选为:磁性氧化铁占49%，氧化铝占14%，一氧化钦占18%，纳扩散抑制剂占10%，反射率特性调节剂占4%，粘合剂占3%，增强剂占
[0013]本发明提供一种磁性复合材料，采用的磁性纳米复合光催化剂具有较强的光催化降解有机污染物的能力，并且可通过磁铁进行回收，制作过程中不会产生剥离现象;通过钠扩散抑制剂、反射率特性调节剂的加入增强膜的保质耐久性，使用粘合剂及增强剂大大加强了各成分间紧密联接程度，更好地防止了膜的剥离。
【主权项】
1.一种磁性复合材料，所述材料包括基材、光催化剂及功能助剂，其特征在于，所述基材为具有透明镜面的石英结构材料，所述光催化剂为磁性纳米复合光催化剂，所述功能助剂包括钠扩散抑制剂、反射率特性调节剂、粘合剂及增强剂，所述磁性纳米复合光催化剂成分由磁性氧化铁、氧化铝及一氧化钛组成，所述钠扩散抑制剂为二氧化硅，所谓反射率特性调节剂为氧化铝，所述粘合剂为硅酸钠，所述增强剂为硼纤维或氮化硅，所述光催化剂及功能助剂按质量配比为:磁性氧化铁占42-55%，氧化铝占12-16%，一氧化钛占15-21%，钠扩散抑制剂占8-12%，反射率特性调节剂占3-5%，粘合剂占2-4%，增强剂占1-3%。
【专利摘要】本发明提供一种磁性复合材料，所述材料包括基材、光催化剂及功能助剂，本发明的有益效果是：本发明提供一种磁性复合材料，采用的磁性纳米复合光催化剂具有较强的光催化降解有机污染物的能力，并且可通过磁铁进行回收，制作过程中不会产生剥离现象；通过钠扩散抑制剂、反射率特性调节剂的加入增强膜的保质耐久性，使用粘合剂及增强剂大大加强了各成分间紧密联接程度，更好地防止了膜的剥离。
【IPC分类】C02F1/30, B01J23/745
【公开号】CN105582930
【申请号】CN201510946789
【发明人】王举, 贾自琴, 王梦丽
【申请人】安徽瑞研新材料技术研究院有限公司
【公开日】2016年5月18日
【申请日】2015年12月15日