一种组合式双射流喷嘴的制作方法

文档序号:10544674阅读:515来源:国知局
一种组合式双射流喷嘴的制作方法
【专利摘要】本发明涉及油田采油工程技术领域,属于油水井油层地面控制井下水平钻孔装置用的一种组合式双射流喷嘴。本发明是为了克服现有喷嘴只能产生普通连续射流、破碎岩石效率较低的问题而设计的。它由压帽(1)、旋转体(2)、喷嘴座(3)组成;其中压帽(1)右端与喷嘴座(3)左端螺纹连接,旋转体(2)置于喷嘴座(3)的内部,并且依靠压帽(1)压紧。本发明主要应用于油田油水井油层地面控制井下水平钻孔装置的现场施工中,本发明具有结构简单、可将普通连续射流转变为旋转射流、破碎岩石效率高等优点。
【专利说明】
-种组合式双射流喷嘴
技术领域
[0001] 本发明设及油田采油工程技术领域,属于油水井油层地面控制井下水平钻孔装置 用的一种组合式双射流喷嘴。
【背景技术】
[0002] 传统高压水力深穿透水平钻孔用喷嘴装置主要存在W下问题,由于喷嘴中没有后 置射流孔,前置射流孔射流时产生的反冲力和螺旋杆液压装置产生的推进力易使射流软管 发生螺旋弯曲,使射流软管紧紧贴在岩石壁处,射流孔深一般在内,射孔成功率仅有 50%左右。申请号为化201020177781.9公开的一种高压水力深穿透水平钻孔用新型液压喷 嘴,可消除高压水力射流软管螺旋弯曲、射流孔深可达5m W上,但该喷嘴在现场施工过程中 存在射孔效率较低的问题。

【发明内容】

[0003] 本发明的目的是提供结构简单、制作方便、可将普通连续射流转换为旋转射流的 一种组合式双射流喷嘴。
[0004] 本发明的技术方案是:它由压帽、旋转体、喷嘴座组成;其中压帽右端与喷嘴座左 端螺纹连接,旋转体置于喷嘴座的内部,并且依靠压帽压紧。
[0005] 喷嘴座上开有后置射流孔,后置射流孔个数为4-6个,后置射流孔与喷嘴座中屯、线 的夹角兴为:3〇0或4沪。
[0006] 喷嘴座的外表面为圆弧形结构。
[0007] 旋转体的侧面有3-6个螺旋槽,旋转体侧面的螺旋槽与旋转体中屯、线的夹角为3〇0。 [000引旋转体进口与中屯、线的夹角鮮为15°。
[0009] 本发明与已有技术相比具有如下有益效果: 本发明具备现有技术的所有功能的前提下,将流经喷嘴的液体的普通连续射流转换为 旋转射流,将现有喷嘴的单冲击破坏岩石变为冲击破坏,并且旋转切割破坏组合式破岩,提 高了射孔效率。
【附图说明】 [0010] :图巧本发明的结构示意图;图2为喷嘴座3的放大图;图3为旋转体2的 端面放大图;图4为旋转体2的剖面放大图。
【具体实施方式】 [0011] :下面结合附图对本发明作进一步说明:本发明压帽1、旋转体2、喷 嘴座3组成;其中压帽1右端与喷嘴座3左端螺纹连接,旋转体2置于喷嘴座3的内部,并且依 靠压帽1压紧。
[0012] 喷嘴座3上开有后置射流孔HP,后置射流孔HP个数为4-6个,后置射流孔HP与喷嘴 座3中屯、线的夹角兴为細°或4沪。
[0013] 旋转体2的侧面有3-6个螺旋槽LXC,旋转体2侧面的螺旋槽LXC与旋转体2中屯、线的 夹角为3〇0。
[0014] 喷嘴座3的外表面为圆弧形结构。
[00巧]旋转体2进口 JKl与中屯、线的夹角級为15°。
[0016] 液体经过旋转体2的螺旋槽LXC后,经过出口 CKl后,液体的直线射流转变为旋转射 流。
[0017] 现场作业时,清水在高压柱塞累的作用下流进射流软管后进入本发明的旋转体2 出口 CKl,对岩石进行冲击破坏和切割破坏,后喷射流孔射流产生的牵引力可消除高压水力 射流软管的螺旋弯曲,使射流孔深达5mW上,射孔成功率可达100%,可W更好地挖潜中、高 渗透层未动用或动用差的剩余油,达到增产增注的目的。
【主权项】
1. 一种组合式双射流喷嘴,其特征在于:它由压帽(1)、旋转体(2)、喷嘴座(3)组成;其 中压帽(1)右端与喷嘴座(3)左端螺纹连接,旋转体(2)置于喷嘴座(3)的内部,并且依靠压 帽(1)压紧。2. 根据权利要求1所述的一种组合式双射流喷嘴,其特征在于:喷嘴座(3)上开有后置 射流孔(HP),后置射流孔(HP)个数为4-6个,后置射流孔(HP)与喷嘴座(3)中屯、线的夹角片 为細P或450。3. 根据权利要求1所述的一种组合式双射流喷嘴,其特征在于:喷嘴座(3)的外表面为 圆弧形结构。4. 根据权利要求1所述的一种组合式双射流喷嘴,其特征在于:旋转体(2)的侧面有3-6 个螺旋槽(LXC),旋转体(2)侧面的螺旋槽(LXC)与旋转体(2)中屯、线的夹角为:3〇0。5. 根据权利要求1所述的一种组合式双射流喷嘴,其特征在于:旋转体(2)进口(JKl)与 中屯、线的夹角級为15°。
【文档编号】E21B7/18GK105903586SQ201610232806
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2016年4月15日
【发明人】王凤山, 张书进, 李士伟, 刘崇江, 李清忠, 蔡萌, 李海成, 高光磊, 李啸峰
【申请人】中国石油天然气股份有限公司, 大庆油田有限责任公司
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