一种专用于匀胶机托盘真空吸片口上的三层腔体型端盖的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种专用于匀胶机托盘真空吸片口上的三层腔体型端盖，三层腔体型端盖包括圆形端面、中腔体和下腔体；圆形端面的中心设有中心圆孔；中腔体的上对称分布有抽气孔台，所述抽气孔台呈圆台状；下腔体的中心设有抽气孔；圆形端面、中腔体和下腔体之间均通过插拔式固定连接，形成腔体。本发明能够很好的实现阻胶效果；可以在有效的阻胶的同时，减小基片的形变量，从而提高旋涂工艺性能指标。
【专利说明】
一种专用于匀胶机托盘真空吸片口上的三层腔体型端盖
技术领域
[0001]本发明属于匀胶机设备的技术领域，具体涉及一种专用于匀胶机托盘真空吸片口上的三层腔体型端盖。
【背景技术】
[0002]现有的光刻胶匀胶台采用真空吸片的方式吸住硅片，但现有的硅片承片台无法有效的阻挡光刻胶在甩动过程中渗入真空吸片口中，原因在于:现有的技术中，硅片与真空吸片口直接接触，匀胶机在高速旋转过程中，光刻胶受旋转离心力和表面张力的联合作用，被展开成一层薄膜，其中甩动过程中被甩出至硅片边缘的胶滴，由于硅片边缘与承片台吸片口的压力差和胶体的表面张力的作用，部分硅片边缘的胶滴会沿着硅片的背面被吸入真空吸片口中，从而堵塞真空吸片口，造成真空吸片口吸力不足，从而造成光刻胶薄膜的均匀性变差，同时会对匀胶台造成损伤。
[0003]在专利号为:ZL201310686050.5、发明专利名称为:匀胶机托盘结构的专利中，虽然通过在硅片承片台的中间开设储胶槽，使光刻胶在甩动过程中被甩出至硅片背面的胶水在重力的作用下首先流入到储胶槽中，从而阻挡光刻胶被吸入真空吸片口内，解决真空吸片口因吸入光刻胶而导致的吸力不足或堵塞的问题。但是，在实践过程中，由于真空吸口片与硅片承载平面间会有一段空间距离，因此，硅片会在真空吸片口处承受较大的向下作用的吸力，而在中空的储胶槽的上方却没有向上的支撑力支撑，导致整个硅片的受力不均匀，从而会有硅片向下凹陷变形的情况出现，使得加工后的硅片不符合产品的要求。
[0004]并且，上述专利在实践过程中，并没有完全解决真空吸片口因吸入光刻胶而导致的吸力不足或堵塞的问题，原因在于:位于真空吸片口的正上方的硅片的背面的部分胶滴会处在真空吸片口的正上方，可以直接滴落至真空吸片口中，或者是通过真空吸片口的吸力直接吸入真空吸片口中，从而堵塞真空吸片口。
[0005]此外，专利号为:ZL201310685767.8、发明专利名称为:防止胶吸入的匀胶机托盘;专利号为:ZL 201310685554.5、发明专利名称为:带保护结构的匀胶机托盘;两篇专利中，也会有上述的2个问题存在。
【发明内容】
[0006]发明目的:为了解决现有技术存在的不足，本发明提供了一种专用于匀胶机托盘真空吸片口上的三层腔体型端盖。
[0007]技术方案:一种专用于匀胶机托盘真空吸片口上的三层腔体型端盖，所述的三层腔体型端盖固定安装在匀胶机托盘的真空吸片口上，所述三层腔体型端盖包括圆形端面和与所述圆形端面相匹配的中腔体和下腔体；
[0008]所述圆形端面的中心设有中心圆孔；
[0009]所述中腔体的上对称分布有抽气孔台，所述抽气孔台呈圆台状；
[0010]所述下腔体的中心设有抽气孔；
[0011]所述圆形端面、中腔体和下腔体之间均通过插拔式固定连接，形成腔体。
[00?2 ] 作为优化:所述中心圆孔的直径大小为5_6mm。
[0013]作为优化:所述抽气孔台具体的结构尺寸:直径为3-4mm,高度低于承片台2-3mm、坡度为90°至130°。
[0014]作为优化:所述抽气孔的直径大小为5_6mm。
[0015]有益效果:本发明可很好的实现阻胶效果;可以在有效的阻胶的同时，减小基片的形变量，从而提高旋涂工艺性能指标。并且，因为只在端盖中心开吸片孔，所以其可适用于不同形状的基片。
[0016]本发明能够同时解决胶滴堵塞真空吸片口和硅片向下凹陷变形的2个问题，不仅延长了真空吸片口的使用寿命，而且加工后的硅片不会出现废料，从而大大节省了企业的经济成本。
【附图说明】
[0017]图1是本发明的整体结构示意图；
[0018]图2是本发明的圆形端面的结构示意图；
[0019]图3是本发明的中腔体的结构示意图；
[0020]图4是本发明的下腔体的结构示意图；
[0021 ]图5是本发明的剖面结构示意图；
[0022]图6是本发明的腔内真空度分布情况示意图；
[0023]图7是本发明中无托盘端盖与三层腔体型端盖的基片形变对比示意图；
[0024]图8是本发明中三层腔体型端盖的基片形变示意图。
【具体实施方式】
[0025]下面结合具体实施例对本发明作进一步说明。
[0026]实施例
[0027]如图1-5所示，一种专用于匀胶机托盘真空吸片口上的三层腔体型端盖，所述的三层腔体型端盖固定安装在匀胶机托盘的真空吸片口上，所述三层腔体型端盖包括圆形端面I和与所述圆形端面I相匹配的中腔体2和下腔体3;
[0028]所述圆形端面I的中心设有中心圆孔11，所述中心圆孔11的直径大小为5_6mm。
[0029]所述中腔体2的上对称分布有抽气孔台21，所述抽气孔台21呈圆台状;所述抽气孔台21具体的结构尺寸:直径为3-4mm,高度低于承片台2-3mm、坡度为90°至130°。
[0030]所述下腔体3的中心设有抽气孔31;所述抽气孔31的直径大小为5-6mm。
[0031]所述圆形端面1、中腔体2和下腔体3之间均通过插拔式固定连接，形成腔体。
[0032]如图6所示，本发明的腔内真空度分布情况如下:从图中可知，腔内真空负压分布均匀，所以可避免被吸入的胶体在压强差的作用下被吸入真空抽气室。
[0033]如图7-8所示，从无托盘端盖与三层腔体型端盖的基片形变对比得出，形变量从65Mi降低至0.29μπι，三层腔体型端盖的使用大大减小了基片的形变量，从而可提高旋涂工艺性能指标。
[0034]本发明可很好的实现阻胶效果;可以在有效的阻胶的同时，减小基片的形变量，从而提高旋涂工艺性能指标。并且，因为只在端盖中心开吸片孔，所以其可适用于不同形状尺寸的基片。
[0035]本发明能够同时解决胶滴堵塞真空吸片口和硅片向下凹陷变形的2个问题，不仅延长了真空吸片口的使用寿命，而且加工后的硅片不会出现废料，从而大大节省了企业的经济成本。
[0036]本发明不局限于上述最佳实施方式，任何人在本发明的启示下都可得出其他各种形式的产品，但不论在其形状或结构上作任何变化，凡是具有与本申请相同或相近似的技术方案，均落在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种专用于匀胶机托盘真空吸片口上的三层腔体型端盖，所述的三层腔体型端盖固定安装在匀胶机托盘的真空吸片口上，其特征在于:所述三层腔体型端盖包括圆形端面(I)和与所述圆形端面(I)相匹配的中腔体(2)和下腔体(3); 所述圆形端面(I)的中心设有中心圆孔(11); 所述中腔体(2)的上对称分布有抽气孔台(21)，所述抽气孔台(21)呈圆台状； 所述下腔体(3)的中心设有抽气孔(31); 所述圆形端面(I)、中腔体(2)和下腔体(3)之间均通过插拔式固定连接，形成腔体。2.根据权利要求1所述的专用于匀胶机托盘真空吸片口上的三层腔体型端盖，其特征在于:所述中心圆孔(11)的直径大小为5-6_。3.根据权利要求1所述的专用于匀胶机托盘真空吸片口上的三层腔体型端盖，其特征在于:所述抽气孔台(21)具体的结构尺寸:直径为3-4_，高度低于承片台2-3mm、坡度为90°至130。ο4.根据权利要求1所述的专用于匀胶机托盘真空吸片口上的三层腔体型端盖，其特征在于:所述抽气孔(31)的直径大小为5-6_。
【文档编号】B05C11/08GK105921368SQ201610496119
【公开日】2016年9月7日
【申请日】2016年6月29日
【发明人】魏存露, 王强, 花国然, 周海峰
【申请人】南通大学