一种用于脱除低馏份的高真空装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种用于脱除低馏份的高真空装置。
【背景技术】
[0002]泡沫稳定剂的合成是通过烯丙基聚醚与含氢硅油进行接枝反应实现的。这两种原料(烯丙基聚醚与含氢硅油)都是高分子聚合物，其中都含有一些沸点较低的小分子物质(低馏份)。这些低馏份的存在对泡沫稳定剂的合成反应是不利的，必须在接枝反应前除去。同时，接枝反应本身也会产生一些小分子的低馏份，对其应用性能有副作用，必须除去。
[0003]传统的除去低馏份的装置如薄膜蒸发器，构造复杂，成本较高。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种构造简易、成本低廉的低馏份脱除装置。
[0005]为了解决上述技术问题，本实用新型提供了如下的技术方案:
[0006]本实用新型涉及一种用于脱除低馏份的高真空装置，其包括真空反应釜和液体分布器，所述液体分布器穿过所述真空反应釜的顶部并伸入到所述真空反应釜的内部，所述液体分布器上设置有若干喷孔；所述真空反应釜底部设置有出料口，所述出料口处设置有控制阀。
[0007]进一步地，所述出料口通过管道与所述液体分布器连通，所述管道上设置有循环栗O
[0008]进一步地，所述液体分布器深入到所述真空反应釜内的高度为自釜顶至釜体高度的 1/2 ?1/3。
[0009]进一步地，所述液体分布器为中空的管状结构，所述喷孔均匀分布于所述液体分布器的管壁上。
[0010]进一步地，所述喷孔的直径为I?3毫米。
[0011]工作原理:物料从真空反应釜的顶部泵入，通过液体分布器上从上到下设置的喷孔喷出，液体从真空反应釜内壁向下流，形成薄膜，真空反应釜顶部抽高真空，在液体分布器喷出的细小液柱及真空反应釜内壁的液膜与空气接触的界面上实现气液分离，起到降膜蒸发的作用，真空反应釜底部液体物料经过循环泵重新泵入液体分布器进行喷雾返回真空反应藎内。
[0012]本实用新型所达到的有益效果是:本实用新型结构简单，成本低廉，物料通过液体分布器从上到下的喷孔喷出，液体从真空反应釜内壁向下流，形成薄膜，真空反应釜顶部抽高真空，在液体分布器喷出的细小液柱及真空反应釜内壁的液膜与空气接触的界面上实现气液分离，起到降膜蒸发的作用。
【附图说明】
[0013]附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中:
[0014]图1是本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】
[0015]以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
[0016]如图1所示，本实用新型涉及一种用于脱除低馏份的高真空装置，其包括真空反应釜I和液体分布器2，所述液体分布器2穿过所述真空反应釜I的顶部并伸入到所述真空反应釜I的内部，所述液体分布器2上设置有若干喷孔3 ;所述真空反应釜I底部设置有出料口 4，所述出料口 4处设置有控制阀5。
[0017]在本实施例中，所述出料口 4通过管道6与所述液体分布器2连通，所述管道6上设置有循环泵7。
[0018]在本实施例中，所述液体分布器2深入到所述真空反应釜I内的高度为自釜顶至釜体高度的1/2?1/3。
[0019]在本实施例中，所述液体分布器2为中空的管状结构，所述喷孔3均匀分布于所述液体分布器2的管壁上。
[0020]在本实施例中，所述喷孔3的直径为I?3毫米。
[0021]工作原理:物料从真空反应釜I的顶部泵入，通过液体分布器2上从上到下设置的喷孔3喷出，液体从真空反应釜I的内壁向下流，形成薄膜，真空反应釜I的顶部抽高真空，在液体分布器2喷出的细小液柱及真空反应釜I内壁的液膜与空气接触的界面上实现气液分离，起到降膜蒸发的作用，真空反应釜I底部液体物料经过循环泵7重新泵入液体分布器2进行喷雾返回真空反应釜I内。
[0022]本实用新型结构简单，成本低廉，物料通过液体分布器从上到下的喷孔喷出，液体从真空反应釜内壁向下流，形成薄膜，真空反应釜顶部抽高真空，在液体分布器喷出的细小液柱及真空反应釜内壁的液膜与空气接触的界面上实现气液分离，起到降膜蒸发的作用。
[0023]最后应说明的是:以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种用于脱除低馏份的高真空装置，其特征在于，包括真空反应釜和液体分布器，所述液体分布器穿过所述真空反应釜的顶部并伸入到所述真空反应釜的内部，所述液体分布器上设置有若干喷孔；所述真空反应釜底部设置有出料口，所述出料口处设置有控制阀。2.根据权利要求1所述的用于脱除低馏份的高真空装置，其特征在于，所述出料口通过管道与所述液体分布器连通，所述管道上设置有循环泵。3.根据权利要求1或2所述的用于脱除低馏份的高真空装置，其特征在于，所述液体分布器深入到所述真空反应釜内的高度为自釜顶至釜体高度的1/2?1/3。4.根据权利要求1或2所述的用于脱除低馏份的高真空装置，其特征在于，所述液体分布器为中空的管状结构，所述喷孔均匀分布于所述液体分布器的管壁上。5.根据权利要求1或2所述的用于脱除低馏份的高真空装置，其特征在于，所述喷孔的直径为I?3毫米。
【专利摘要】本实用新型公开了一种用于脱除低馏份的高真空装置，其包括真空反应釜和液体分布器，液体分布器穿过真空反应釜的顶部并伸入到真空反应釜的内部，液体分布器上设置有若干喷孔；真空反应釜底部设置有出料口，出料口处设置有控制阀。出料口通过管道与液体分布器连通，管道上设置有循环泵。液体分布器深入到真空反应釜内的高度为自釜顶至釜体高度的1/2～1/3。本实用新型结构简单，成本低廉，物料通过液体分布器从上到下的喷孔喷出，液体从真空反应釜内壁向下流，形成薄膜，真空反应釜顶部抽高真空，在液体分布器喷出的细小液柱及真空反应釜内壁的液膜与空气接触的界面上实现气液分离，起到降膜蒸发的作用。
【IPC分类】B01J3/02, B01D1/22, B01D1/30
【公开号】CN204656491
【申请号】CN201520321108
【发明人】王孝年, 林斌
【申请人】苏州思德新材料科技有限公司
【公开日】2015年9月23日
【申请日】2015年5月18日