一种半导体表面处理化学品生产用装置的制造方法

文档序号:9032824阅读:255来源:国知局
一种半导体表面处理化学品生产用装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种清洗设备,尤其涉及一种半导体表面处理化学品生产用装置。
【背景技术】
[0002]半导体(semiconductor),指常温下导电性能介于导体(conductor)与绝缘体(insulator)之间的材料。半导体在收音机、电视机以及测温上有着广泛的应用。如二极管就是采用半导体制作的器件。半导体是指一种导电性可受控制,范围可从绝缘体至导体之间的材料。无论从科技或是经济发展的角度来看,半导体的重要性都是非常巨大的。今日大部分的电子产品,如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关连。常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等,而硅更是各种半导体材料中,在商业应用上最具有影响力的一种。半导体的表面是需要用化学品进行加工处理而获得干净平整、抗氧化能力强的表面的,而在生产半导体表面处理化学品品时,有些设备溶液混合不均容易产生分层,由于化学品的危险性其防护度不够会造成人员及设备的危险发生。

【发明内容】

[0003]为解决上述问题,本实用新型提供一种半导体表面处理化学品生产用装置。
[0004]本实用新型解决其技术问题所采取的技术方案是:一种半导体表面处理化学品生产用装置,包括搅拌装置、储液装置、转液装置、输液管道、包装桶和控制装置,所述储液装置中安装有搅拌装置,所述储液装置在搅拌装置的一侧开设有加药口,所述加药口处设有封闭盖板,所述储液装置在加药口的下方设有防喷装置,所述防喷装置由固定板和防喷板组成,所述固定板固定在储液装置的内部,所述固定板的下端向加药口一侧折弯设有防喷板;所述储液装置的一侧设有转液装置,所述转液装置的一端连接有可调计量控制装置和定量储液装置,所述定量储液装置的下端设有输液管道,所述输液管道的下方安装有包装桶。
[0005]进一步的,所述输液管道上设有输液控制装置。
[0006]本实用新型的有益效果:本实用新型具备使化学品溶液混合均匀的优势、及加药口下方的防喷装置,其具有保护生产中加药时药水溅射危害,确保生产安全,同时加药口具有密闭盖板,以防止化学品气味的外泄,保护生产环境的纯净,通过转液装置及可调计量控制装置及定量储液装置的合理配合,达到计量准确,操作便利,输液控制装置及输液管路将上述定量计量的化学溶液输送至包装桶,以上所述装置均由控制装置加以控制,此装置具有安全生产,无化学泄漏,操作简便,计量精确,包装清洁无残液等优势。
【附图说明】
[0007]下面结合附图对本实用新型进一步说明。
[0008]图1是本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】
[0009]如图1,一种半导体表面处理化学品生产用装置,包括搅拌装置1、储液装置2、转液装置5、输液管道9、包装桶10和控制装置11,所述储液装置2中安装有搅拌装置1,所述储液装置2在搅拌装置I的一侧开设有加药口 3,所述加药口 3处设有封闭盖板31,所述储液装置2在加药口 3的下方设有防喷装置4,所述防喷装置4由固定板41和防喷板42组成,所述固定板41固定在储液装置2的内部,所述固定板41的下端向加药口 3—侧折弯设有防喷板42 ;所述储液装置2的一侧设有转液装置5,所述转液装置5的一端连接有可调计量控制装置6和定量储液装置7,所述定量储液装置7的下端设有输液管道9,所述输液管道9的下方安装有包装桶10。
[0010]进一步的,所述输液管道9上设有输液控制装置8。
[0011]本实用新型具备使化学品溶液混合均匀的优势、及加药口 3下方的防喷装置4,其具有保护生产中加药时药水溅射危害,确保生产安全,同时加药口 3具有密闭盖板31,以防止化学品气味的外泄,保护生产环境的纯净,通过转液装置5及可调计量控制装置6及定量储液装置7的合理配合,达到计量准确,操作便利,输液控制装置8及输液管路9将上述定量计量的化学溶液输送至包装桶10,以上所述装置均由控制装置11加以控制,此装置具有安全生产、无化学泄漏、操作简便、计量精确、包装清洁无残液等优势。
[0012]需要强调的是,以上是本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型在外观上作任何形式的限制,凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
【主权项】
1.一种半导体表面处理化学品生产用装置,包括搅拌装置、储液装置、转液装置、输液管道、包装桶和控制装置,其特征在于:所述储液装置中安装有搅拌装置,所述储液装置在搅拌装置的一侧开设有加药口,所述加药口处设有封闭盖板,所述储液装置在加药口的下方设有防喷装置,所述防喷装置由固定板和防喷板组成,所述固定板固定在储液装置的内部,所述固定板的下端向加药口一侧折弯设有防喷板;所述储液装置的一侧设有转液装置,所述转液装置的一端连接有可调计量控制装置和定量储液装置,所述定量储液装置的下端设有输液管道,所述输液管道的下方安装有包装桶。2.根据权利要求1所述的一种半导体表面处理化学品生产用装置,其特征在于:所述输液管道上设有输液控制装置。
【专利摘要】本实用新型涉及一种半导体表面处理化学品生产用装置,储液装置中安装有搅拌装置,储液装置在搅拌装置的一侧开设有加药口,加药口处设有封闭盖板,储液装置在加药口的下方设有防喷装置,防喷装置由固定板和防喷板组成,所述固定板固定在储液装置的内部,所述固定板的下端向加药口一侧折弯设有防喷板;所述储液装置的一侧设有转液装置,所述转液装置的一端连接有可调计量控制装置和定量储液装置,所述定量储液装置的下端设有输液管道,所述输液管道的下方安装有包装桶。本实用新型具备使化学品溶液混合均匀的优势,其具有保护生产中加药时药水溅射危害,确保生产安全,同时加药口具有密闭盖板,以防止化学品气味的外泄,保护生产环境的纯净。
【IPC分类】B01F13/04
【公开号】CN204685028
【申请号】CN201520372684
【发明人】李超, 孙一军, 周毅锋
【申请人】苏州工业园区恒越自动化科技有限公司
【公开日】2015年10月7日
【申请日】2015年6月3日
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